公开(公告)号：CN101414132A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166610.3

申请日：2008-10-15

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 春本将彦 ,  山口晃 ,  久井章博 ,  杉山念 ,  黑田拓也

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/30 ,  B05D1/005 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715

Abstract: 一种显影装置，具有：旋转卡盘，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能够自由旋转；显影液喷嘴，其形成有排成一列的喷出显影液的多个喷出口，并且使各喷出口喷出的显影液以相互分离的状态附着到基板上；水平移动机构，在俯视观察时，其将喷出口的排列方向保持在朝向基板中心的一个方向，同时沿该一个方向移动显影液喷嘴，从而在俯视观察时于基板的大致中心和周边缘之间移动显影液喷嘴；控制部，其控制旋转卡盘和水平移动机构，使显影液分别以螺旋状从各喷出口附着到基板上，从而对基板进行显影。

公开(公告)号：CN100470719C

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200610172775.2

申请日：2006-12-26

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 茂森和士 ,  金山幸司 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  安田周一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  G03F7/26 ,  G03F9/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备。其中，在与液浸曝光兼容的曝光装置中紧接在用于调整图案图像的曝光位置的对准处理之前或之后，将用于对准处理的虚设衬底从曝光装置传输到衬底处理设备。在衬底处理设备中，清洗处理装置清洗并干燥接收到的虚设衬底。将已清洗的虚设衬底从衬底处理设备传输回曝光装置。在曝光装置中使用清洁的虚设衬底执行对准处理，减少了曝光装置中机构如衬底台的污染。当虚设衬底具有斥水性时，在衬底处理设备中进行清洗使虚设衬底的斥水性恢复。

公开(公告)号：CN101158820A

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200710161229.3

申请日：2007-09-25

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 春本将彦 ,  山口晃 ,  久井章博

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021

Abstract: 本发明提供一种方法，其消除了在基板上的显影液置换为清洗液时，显影液在基板表面内不同的位置产生浓度差的问题，并可防止在抗蚀膜表面上产生污垢状缺陷的问题，还可减少显影液用量。其通过旋转卡盘将基板保持在水平姿势，并通过旋转电动机使其绕铅直轴周围旋转的同时，从喷嘴喷出显影液向基板表面的抗蚀膜上供给显影液而进行显影处理，然后，继续使基板旋转，通过离心力使抗蚀膜上的显影液飞散而除去，接下来，从喷嘴喷出纯水向抗蚀膜上供给清洗液进行清洗处理。

公开(公告)号：CN101355019B

公开(公告)日：2012-02-01

申请号：CN200810144319.6

申请日：2008-07-25

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 西山耕二 ,  西村让一 ,  吉井弘至

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  B08B7/04 ,  B08B1/04 ,  B08B3/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67046

Abstract: 一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，具有清洗处理单元，所述清洗处理单元具有旋转卡盘，所述旋转卡盘用于在水平保持基板的同时，使基板绕贯穿基板中心的铅垂轴旋转。在旋转卡盘的外侧，设置有斜面清洗部。斜面清洗部具有清洗刷。清洗刷具有与铅直轴旋转对称的形状，并且具有上斜面清洗面、端面清洗面以及下斜面清洗面。端面清洗面是以垂直方向为轴心的圆筒面。上斜面清洗面从端面清洗面的上端向外侧上方倾斜延伸，下斜面清洗面从端面清洗面的下端向外侧下方倾斜延伸。

公开(公告)号：CN1885160B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN200610093230.2

申请日：2006-06-23

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 茂森和士 ,  金山幸司 ,  春木晶子 ,  宫城聪 ,  金冈雅 ,  安田周一

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/02087 ,  G03F7/00 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67742 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有：分度器模块、端部清洗处理模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀覆盖膜用处理模块、抗蚀覆盖膜除去模块、清洗/干燥处理模块以及接口模块。相邻于基板处理装置的接口模块而配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行对基板的曝光处理。在端部清洗模块的端部清洗处理部中，对曝光处理前的基板的端部进行清洗。

公开(公告)号：CN101387835B

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200810149147.1

申请日：2008-09-12

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 宫城聪 ,  金冈雅 ,  茂森和士 ,  安田周一 ,  真田雅和

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67034 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02 ,  B05D3/0406 ,  G03F7/3028 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。在利用冲洗液冲洗掉基板上的显影液之后，基板的转速降低，从而在基板的整个表面上会形成冲洗液的液层。然后，基板的转速上升。由于基板的转速上升，所以离心力变得稍大于张力，因此液层以周边部厚度变厚且中心部厚度变薄的状态保持在基板上。接着，气体供给喷嘴向液层的中心部喷出气体，从而在液层的中心部形成孔。由此，与作用于液层周边部的离心力相平衡的张力消失。另外，随着气体的喷出，基板的转速进一步上升。由此，液层向基板的外侧移动。

公开(公告)号：CN101335187B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200810125036.7

申请日：2008-06-27

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 福富义光 ,  三桥毅 ,  小椋浩之 ,  森西健也 ,  川松康夫 ,  长岛广路

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B05B14/43 ,  B05B14/44 ,  B05C13/00 ,  B05C13/02 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/26 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67225 ,  H01L23/34 ,  H01L2924/0002 ,  Y10S414/135 ,  H01L2924/00

Abstract: 一种基板处理装置，其具有设置在上下方向上的多列基板处理列。各基板处理列具有排列在横向上的多个主搬运机构和对应于每个主搬运机构设置并用于处理基板的多个处理单元，各主搬运机构向对应的处理单元搬运基板的同时，与在横向相邻的其他的主搬运机构交接基板，而对基板进行一系列的处理。因为各基板处理列同时对基板进行处理，所以能够使基板处理装置的处理能力增强。

公开(公告)号：CN101388333A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200810212379.7

申请日：2008-09-12

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 宫城聪 ,  金冈雅 ,  茂森和士 ,  安田周一 ,  真田雅和

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67225

Abstract: 一种基板处理装置和基板处理方法，在清洗基板后，基板进行旋转的状态下，液体供给喷嘴一边喷出冲洗液，一边从基板的中心部上方向外方移动。此时，没有冲洗液的干燥区域在基板上扩大。若液体供给喷嘴移动至基板周边部上方，则基板的旋转速度下降。液体供给喷嘴的移动速度维持原状态。然后，停止喷出冲洗液，并且，液体供给喷嘴移动到基板的外方。由此，干燥区域扩展到基板上整体，基板被干燥。

公开(公告)号：CN101387835A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200810149147.1

申请日：2008-09-12

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 宫城聪 ,  金冈雅 ,  茂森和士 ,  安田周一 ,  真田雅和

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67034 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02 ,  B05D3/0406 ,  G03F7/3028 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。在利用冲洗液冲洗掉基板上的显影液之后，基板的转速降低，从而在基板的整个表面上会形成冲洗液的液层。然后，基板的转速上升。由于基板的转速上升，所以离心力变得稍大于张力，因此液层以周边部厚度变厚且中心部厚度变薄的状态保持在基板上。接着，气体供给喷嘴向液层的中心部喷出气体，从而在液层的中心部形成孔。由此，与作用于液层周边部的离心力相平衡的张力消失。另外，随着气体的喷出，基板的转速进一步上升。由此，液层向基板的外侧移动。

公开(公告)号：CN101355019A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810144319.6

申请日：2008-07-25

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 西山耕二 ,  西村让一 ,  吉井弘至

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  B08B7/04 ,  B08B1/04 ,  B08B3/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67046

Abstract: 一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，具有清洗处理单元，所述清洗处理单元具有旋转卡盘，所述旋转卡盘用于在水平保持基板的同时，使基板绕贯穿基板中心的铅垂轴旋转。在旋转卡盘的外侧，设置有斜面清洗部。斜面清洗部具有清洗刷。清洗刷具有与铅直轴旋转对称的形状，并且具有上斜面清洗面、端面清洗面以及下斜面清洗面。端面清洗面是以垂直方向为轴心的圆筒面。上斜面清洗面从端面清洗面的上端向外侧上方倾斜延伸，下斜面清洗面从端面清洗面的下端向外侧下方倾斜延伸。