状态检测装置以及状态检测方法
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115655096A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202210786506.4

    申请日:2022-07-04

    Abstract: 本发明涉及状态检测装置以及状态检测方法,在抑制检测精度的降低的同时检测卡盘销的开闭状态。状态检测装置具有:至少1个卡盘销,其用于保持基板;拍摄部,其拍摄卡盘销,将获得的至少1个图像作为对象图像;匹配坐标计算部,其利用对象图像和表示卡盘销的至少1个图像即基准图像进行匹配处理,计算匹配坐标,所述匹配坐标是表示图像间的匹配分数最高的情况下的基准图像在对象图像中的位置的坐标;检测部,其根据匹配坐标,检测卡盘销的开闭状态。

    基板处理方法以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN112789709A

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN201980065636.5

    申请日:2019-09-25

    Abstract: 提供一种能够监视喷出到基板的端部的液柱状的处理液的着落位置的基板处理方法。基板处理方法具有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中,使基板保持部保持基板。在旋转工序中,使基板保持部旋转来使基板旋转。在上升工序中,使包围基板保持部的外周的杯构件上升,使杯构件的上端位于比基板的上表面高的上端位置。在斜面处理工序中,从位于比该上端位置低的位置的喷嘴的喷出口向基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中,使相机对从基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域进行拍摄,获得拍摄图像,在该拍摄区域中包括从喷嘴喷出的处理液以及映现在基板的上表面的喷出液的镜像。在监视工序中,基于拍摄图像中的处理液与该镜像,监视处理液的着落位置。

    基板处理方法以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN112640056A

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201980055836.2

    申请日:2019-07-24

    Abstract: 目的在于提供一种技术,在作为液体处理的第一处理后,适当地决定开始后续的第二处理的时机。为了实现上述目的,在停止供给第一处理液后,通过照相机拍摄基板的上表面。在通过照相机取得的拍摄图像的判断区域内检测亮度(光强度)的径向上的极值点,由此检测干涉纹。在检测到检测对象的干涉纹的情形中,时机决定部决定开始第二处理的时机。

    基板处理装置以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN112509940A

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN202010840506.9

    申请日:2020-08-19

    Abstract: 本发明提供一种不需要基准图像也能够判定基板是否被正常地保持的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有:保持部,用于保持基板;拍摄部,用于在包括被保持的基板的外缘部的拍摄范围内对基板的多个部位进行拍摄,并且输出基板的多个图像数据;提取部,用于从多个图像数据之间的差分图像提取基板的外缘部;以及判定部,用于基于差分图像中的基板的外缘部,判定基板的保持状态。

    基板处理装置以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN112997275B

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN201980072710.6

    申请日:2019-10-25

    Abstract: 提供一种适当地将多个相机与这些相机所拍摄的各被摄区域进行关联的技术。基板处理装置(100)为对基板(W)进行处理的装置。基板处理装置(100)具有:多个清洗处理单元(1);多个相机(70),对彼此不同的被摄区域(PA)进行拍摄;图像处理部(815),对各相机(70)所拍摄的图像(PH)进行处理;以及关联处理部(814),根据图像处理部(815)的图像处理,将各被摄区域(PA)与各相机(70)进行关联。

    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN112490167B

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202010805951.1

    申请日:2020-08-12

    Abstract: 本发明提供一种提高对移动的喷嘴的位置检测精度的基板处理装置。基板处理装置具有用于拍摄喷嘴并输出喷嘴的图像数据的拍摄部,用于根据图像数据检测喷嘴的位置的位置检测部。位置检测部在停止区域中,通过使用基准图像数据对图像数据进行匹配处理,从而检测喷嘴的位置,在移动区域中,将在停止区域检测到的喷嘴的位置作为基准,通过在连续的图像数据之间进行循轨处理来检测喷嘴的位置。

    基板处理装置以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN112997275A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201980072710.6

    申请日:2019-10-25

    Abstract: 提供一种适当地将多个相机与这些相机所拍摄的各被摄区域进行关联的技术。基板处理装置(100)为对基板(W)进行处理的装置。基板处理装置(100)具有:多个清洗处理单元(1);多个相机(70),对彼此不同的被摄区域(PA)进行拍摄;图像处理部(815),对各相机(70)所拍摄的图像(PH)进行处理;以及关联处理部(814),根据图像处理部(815)的图像处理,将各被摄区域(PA)与各相机(70)进行关联。

Patent Agency Ranking