公开(公告)号：KR1020150092717A

公开(公告)日：2015-08-13

申请号：KR1020150017299

申请日：2015-02-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 곤도게이스케

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/66 ,  H01L21/68

CPC classification number: G01B11/14 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/681 ,  H01L21/67742 ,  H01L22/12

Abstract: (과제) 기판을 반송하는 기판 반송 기구의 수평 방향의 위치를 자동으로 검출하는 것.
(해결 수단) 기판 반송 기구인 제 1 반송 암(2)에 마련된 광투과형의 광센서(5)를, 2개의 원추체의 저면끼리를 접속한 형상을 이루는 피검출부(3)에 대하여 승강시켜, 광센서(5)의 광축 F를 가로막는 피검출부(3)의 높이 치수를 계측한다. 포크(23)를 제 1 방향 및 제 2 방향으로 각각 설정하여 피검출부(3)의 높이 치수를 계측하고, 높이 치수를 계측한 경사부(33)의 위치로부터, 피검출부(3)의 기준 위치 N까지의 수평 방향의 거리를 각 방향마다 파악한다. 기준 위치 N을 통과하고, 서로 기울기가 다른 2개의 직선의 식을 구하고, 이들 직선의 교점을 기준 위치 N의 좌표 위치로서 취득한다. 이 기준 위치 N의 좌표 위치는, 제 1 반송 암(2)의 구동계로 관리되고 있는 좌표계를 이용하여 파악되고 있으므로, 제 1 반송 암(2)의 수평 방향의 위치를 자동으로 검출할 수 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是自动检测用于转移衬底的衬底转移装置的水平位置。 通过提升或降低布置在第一传送臂（2）上的传递光的光学传感器（5）来测量阻挡光学传感器（5）的光轴F的被检测物体（3）的高度尺寸 ）相对于被检测物体（3）形成具有彼此连接的底表面的两个锥体的形状。 被检测物体（3）的高度尺寸通过使叉（20）沿第一方向和第二方向定向，并且与倾斜部（33）的位置相距水平距离来测量，其高度尺寸已经被 被测量到被检测物体（3）的基准位置N. 获得通过参考位置N并具有不同斜率的两条直线的方程，并且获得直线之间的交点作为参考位置N的坐标位置。可以自动检测第一传送臂（2）的水平位置 由于使用作为第一输送臂（2）的传动系统进行管理的坐标系来掌握基准位置N的坐标位置。

公开(公告)号：KR100962754B1

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：KR1020087011325

申请日：2007-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 곤도게이스케 ,  고이즈미히로시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67259

Abstract: 진공 반송 챔버(10) 내에 반도체 웨이퍼W의 위치를 검출하는 위치 검출기구(33)를 마련하여, 로드록 챔버(17), 진공 처리 챔버(11∼16)의 소정위치에 배치한 반도체 웨이퍼W를 진공반송기구(30)에 의해서 위치 검출기구(33)에 반송하여 그 위치를 검출하고, 이 검출 결과에 의해서 로드록 챔버(17), 진공 처리 챔버(11∼16)의 위치 정렬을 행한다.
진공 처리 장치, 반송 위치 정렬 방법

公开(公告)号：KR1020080012131A

公开(公告)日：2008-02-11

申请号：KR1020070053690

申请日：2007-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리야츠요시 ,  나카야마히로유키 ,  곤도게이스케 ,  오카히로키

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67201 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67769

Abstract: An intermediate transfer chamber is provided to suppress adiabatic expansion of inner gas on a substrate by controlling exhaust conductance on at least a support part of a substrate and a main surface opposite to the support part. An exhaust apparatus exhausts the inside of an intermediate transfer chamber to reduce the inner pressure of the intermediate transfer chamber from a first pressure to a second pressure. In the exhaust process of the exhaust apparatus, a conductance control apparatus controls exhaust conductance on at least a support part for supporting a substrate and a main surface opposite to the support part. The conductance control apparatus is made of a plate-type member(90) confronting the main surface of the substrate.

Abstract translation: 提供中间转印室以通过控制至少衬底的支撑部分和与支撑部分相对的主表面的排气传导来抑制衬底上的内部气体的绝热膨胀。 排气装置排出中间转移室的内部，以将中间转移室的内部压力从第一压力降低到第二压力。 在排气装置的排气过程中，电导控制装置控制至少一个用于支撑基板的支撑部分和与支撑部分相对的主表面的排气传导。 电导控制装置由面对基板的主面的板状部件（90）构成。

公开(公告)号：KR100694328B1

公开(公告)日：2007-03-12

申请号：KR1020050126130

申请日：2005-12-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 곤도게이스케

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

Abstract: 진공 처리 장치용 개폐 기구는, 제 1 및 제 2 개구부를 폐색하기 위한 제 1 및 제 2 밸브체가 반대 방향을 향해서 선단부에 배치된 밸브체 지지 부재와 이 밸브체 지지 부재의 후단부측에 회전축을 거쳐서 회동 가능하게 장착된 기단측 부재로 이루어지는 링크 기구와, 상기 밸브체 지지 부재의 상하 이동 범위를 제한하는 동시에, 상기 제 1 및 제 2 밸브체가 수평으로 이동하는 방향으로 상기 밸브체 지지 부재를 회동 가능하게 지지하는 가이드 기구와, 상기 회전축을 상하 방향으로 또한 최상부에서는 수평 방향으로 이동시키는 제 1 및 제 2 가이드 부재와, 상기 제 1 가이드 부재 및 상기 제 2 가이드 부재와 상기 기단측 부재를 상하 이동시키는 제 1 및 제 2 상하 이동 기구를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR100641430B1

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：KR1020057009369

申请日：2003-11-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구마가이모토히로 ,  곤도게이스케

IPC: B25J9/22 ,  B25J9/10

CPC classification number: H01L21/67167 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/68

Abstract: 복수의 장치(진공처리장치, 로드록실, 오리엔터 등)로 이루어지는 클러스터시스템에 있어서, 반송기구의 픽의 각 장치에의 악세스포인트를 정의하는 반송위치좌표를 결정하는 방법이 개시된다. (1) 각 장치에 대한 각 반송기구의 각 픽의 반송위치좌표가 거친 정밀도로 가결정된다. (2) 위치정렬장치에 대한 제 1 반송기구의 각 픽의 반송위치좌표가 확정된다. (3) 위치정렬장치 이외의 장치에 대한 제 1 및 제 2 반송기구의 각 픽의 반송위치좌표 중 일부의 반송위치좌표가 확정된다. (4) 위치정렬용 피반송물이 가결정된 미확정의 반송위치좌표중 하나를 통과하는 반송경로를 경유하여 위치정렬장치까지 반송된다. 위치정렬장치에 유지된 위치정렬용 피반송물의 위치어긋남량이 구해진다. 이 위치어긋남량에 기초하여 상기 반송위치좌표의 하나가 보정되고, 이 보정된 반송위치좌표가 반송위치좌표로서 확정된다. (5) 가결정된 반송위치좌표가 모두 확정될 때까지 (4)가 반복된다.

公开(公告)号：KR1020060071337A

公开(公告)日：2006-06-26

申请号：KR1020050126130

申请日：2005-12-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 곤도게이스케

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

Abstract: 진공 처리 장치용 개폐 기구는, 제 1 및 제 2 개구부를 폐색하기 위한 제 1 및 제 2 밸브체가 반대 방향을 향해서 선단부에 배치된 밸브체 지지 부재와 이 밸브체 지지 부재의 후단부측에 회전축을 거쳐서 회동 가능하게 장착된 기단측 부재로 이루어지는 링크 기구와, 상기 밸브체 지지 부재의 상하 이동 범위를 제한하는 동시에, 상기 제 1 및 제 2 밸브체가 수평으로 이동하는 방향으로 상기 밸브체 지지 부재를 회동 가능하게 지지하는 가이드 기구와, 상기 회전축을 상하 방향으로 또한 최상부에서는 수평 방향으로 이동시키는 제 1 및 제 2 가이드 부재와, 상기 제 1 가이드 부재 및 상기 제 2 가이드 부재와 상기 기단측 부재를 상하 이동시키는 제 1 및 제 2 상하 이동 기구를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR1019980081871A

公开(公告)日：1998-11-25

申请号：KR1019980015719

申请日：1998-04-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시자와시게루 ,  사사키요시아키 ,  곤도게이스케 ,  요시다데츠오

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명의 진공 처리 장치는, 목표 압력 범위의 상한가를 갖는 가스로 채워진 반송 챔버와, 반송 챔버로 가스를 공급하기 위해 가스 공급원에 연결된 가스 공급 시스템과, 상기 반송 챔버내로부터 가스를 배출하기 위한 가스 배기 시스템과, 상기 반송 챔버에 연결된 제 1 및 제 2 진공 챔버와, 반송 챔버와 진공 챔버 사이에 위치하여, 반송 챔버와 진공 챔버를 서로 선택적으로 통하게 하는 제 1 및 제 2 게이트 밸브와, 제 1 진공 챔버로부터 제 1 게이트 밸브를 거쳐 반송 챔버로 피처리체를 전달하고, 반송 챔버로부터 제 2 게이트 밸브를 거쳐 제 2 진공 챔버로 피처리체를 전달하기 위한 전달 기구를 구비한다. 가스 공급 시스템 내에는 개폐 밸브가 마련되어 가스 공급원으로부터 반송 챔버로 가스를 선택적으로 공급하고, 개폐 밸브가 닫혔을 때, 목표 압력 범위의 상한가에 따라 설정된 용적 및 압력을 갖는 가스가 가스 적재 공간에 저장되도록 개폐 밸브의 업스트림(upstream)에 한정되는 가스 적재 공간이 제공된다.