公开(公告)号：KR1020170073594A

公开(公告)日：2017-06-28

申请号：KR1020177009562

申请日：2015-10-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카모리미츠노리 ,  미나미데루오미 ,  오오이시고타로 ,  노나카준

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/04 ,  B08B3/041 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68764

Abstract: 기판액처리방법은, 기판을처리액으로액 처리하는액 처리공정과, 액처리된상기기판을린스액으로린스처리하는린스처리공정과, 린스처리된상기기판을발수화액으로발수처리하는발수처리공정을행하고, 이어서, 발수처리된상기기판을치환촉진액으로치환처리하는치환처리공정과, 발수처리된상기기판을세정액으로세정처리하는세정처리공정을행하고, 그후, 상기세정액보다휘발성이높은건조액으로상기세정액을치환함과더불어상기기판으로부터상기건조액을제거하는건조처리공정을행한다. 건조처리시에패턴이도괴되는것을방지하면서워터마크에기인하는파티클을삭감할수 있다.

Abstract translation: 基板液处理方法包括：用处理液对基板进行液处理的液处理工序;用冲洗液冲洗液处理基板的冲洗处理工序;疏水处理 用置换促进液置换进行了斥水处理的基板的置换处理工序和用清洗液清洗斥水基板的清洗处理工序后，以比清洗液高的挥发性对基板进行干燥 清洗液被液体置换，进行从基板上除去干燥液的干燥工序。 可以减少归因于水印的颗粒数量，同时防止干燥处理时图案变得不规则。

公开(公告)号：KR101633129B1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：KR1020100096443

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  미나미데루오미 ,  가와부치요스케 ,  이토노리히로 ,  가미무라후미히로 ,  야부타다카시 ,  가즈키고사이 ,  다카시우노 ,  세키구치겐지 ,  후지이야스시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은기판에대전된전하가방전하는것에의한정전파괴의발생을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(2)에액처리를실시하기위한기판액처리장치(1), 기판액처리방법및 기판액처리프로그램을기록한컴퓨터판독가능한기록매체(48)에있어서, 기판(2)의회로형성면을기판처리약액으로액처리하는액처리공정을행하기전에, 기판(2)의회로형성면과는반대면을제전처리액으로처리하는것에의해기판(2)에대전된전하를방출시키는제전처리공정을행하도록하였다.

公开(公告)号：KR1020160045591A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：KR1020150143282

申请日：2015-10-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카모리미츠노리 ,  기타노준이치 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/08 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028

Abstract: [과제] 액처리후의기판을양호하게건조시킬수 있는기판액 처리장치(기판액 처리방법)을제공한다. [해결수단] 본발명에서는, 기판(3)에순수를공급하는순수공급부(린스액공급부(22))와, 상기기판에순수보다휘발성이높은건조액을공급하는건조액공급부(23)를갖는기판액 처리장치(1)를이용하여, 상기건조액공급부(23)로부터상기휘발성이높은건조액의일부에실리콘계유기화합물을함유하는건조액을상기기판(3)에공급하는것으로했다.

Abstract translation: 公开了一种能够在通过液体处理基板之后适当地干燥基板的基板液体处理装置（基板液体处理方法）。 该设备包括：纯水供应单元或漂洗液体供应单元（22），被配置为向基板（3）供应纯水; 以及干燥液供给部（23），其配置为向所述基板供给比纯水高的挥发性的干燥液。 基板液体处理装置（1）用于使干燥液供给单元（23）向基板（3）供给含有硅系有机化合物的挥发性较高的干燥液的一部分。

公开(公告)号：KR1020060024824A

公开(公告)日：2006-03-17

申请号：KR1020060008211

申请日：2006-01-26

Applicant: 소니 주식회사 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사다가즈미 ,  이와모또하야또 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 건조 능력을 저하시키지 않고, 건조 시간을 단축하며, 건조 처리 능력을 향상시킴과 동시에, 유기물의 사용량을 저감시킴으로써, 자연 환경의 보호에 공헌하고, 잔류 유기물의 저감을 도모한다.
50장 정도의 반도체 웨이퍼(3)를 건조시키는, 제어된 IPA 건조 장치를 이용하여, 기화된 IPA를 노즐(13) 및 노즐 구멍(13a)을 통해 반도체 웨이퍼(3)에 분무함으로써 반도체 웨이퍼(3)를 건조시킬 때에, IPA 증기를 수직 하측 방향으로부터 반도체 웨이퍼(3)측을 향해 20°∼ 50°의 각도 θ로 분무하도록 한다. 이 때, IPA의 초기 토출량을 0.8 ∼ 1.5cc/s로 하고, 사용량을 70 ∼ 200cc/배치가 되도록 한다.
건조 장치, 수세조, 건조조, 반도체 웨이퍼, 오버플로우 수세조, 노즐, 노즐 구멍

公开(公告)号：KR100338534B1

公开(公告)日：2002-09-27

申请号：KR1019940028107

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 피처리체를 수용하는 피처리체 수용영역 및 휘발성의 처리액을 수용하는 처리액 수용영역을 가지며, 처리액을 기화시키기 위한 가열 수단을 구비한 처리조와, 피처리체 본체 수용영역의 아래쪽에 설치되고, 기화된 상기 처리액을 사용하여 상기 피처리체로부터 제거된 수분을 받은 용기와, 용기에 부착되고, 상기 용기로부터의 수분을 처리조의 외부에 배출하는 액 배출관과, 처리조의 피처리체 수용 영역의 위쪽에 설치되고, 기화된 처리액을 응축시키는 냉각 수단을 구비하고, 액 배출관은 개폐밸브를 가지고 있고, 또 상기 개폐밸브보다도 용기에 접근하는 위치에 상기 배기관으로부터 분지된 관을 가지는 기판 건조 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019950012610A

公开(公告)日：1995-05-16

申请号：KR1019940028107

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  F26B21/145

Abstract: 본발명은피처리체를수용하는피처리체수용영역및 휘발성의처리액을수용하는처리액수용역역을가지며, 처리액을기화시키기위한가열수단을구비한처리조와, 피처리체본체수용영역의아래쪽에설치되고, 기화된상기처리액을사용하여상기피처리체로부터제거된수분을받은용기와, 용기에부착되고, 상기용기로부터의수분을처리조의외부에배출하는액배출관과, 처리조의피처리체수용영역의위쪽에설치되고, 기화된처리액을응축시키는냉각수단을구비하고, 액배출관은개폐밸브를가지고있고, 또상기개폐밸브보다도용기에접근하는위치에상기배기관으로부터분지된관을가지는기판건조장치를제공한다.

Abstract translation: 安装在处理量的底部，本发明具有一个服务站，具有加热装置，用于汽化该处理液处理槽和，待治疗受试者的身体接收区域，用于接收所述对象的接收区域和波动，用于接收所述对象的处理液中要被处理 并且使用蒸发要处理的处理液体在容器接收来自所述对象的除水附接时，容器中，所述液体排出管的排出到容器robuteoui水处理罐外，该处理套工件容纳区的顶部 被安装在，包括：冷却装置，用于冷凝所述蒸发的处理液，和液体排出管上设置具有在位置从排气管支管的基板干燥装置，且具有开闭阀，并进入容器比开闭阀的 的。