公开(公告)号：KR1020120026491A

公开(公告)日：2012-03-19

申请号：KR1020117026678

申请日：2010-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가리노겐타로 ,  고자와세이지 ,  미야타아키라 ,  간바야시아키라 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67248 ,  G03F7/26 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명의 기판을 처리하는 기판 처리 시스템의 복수의 가열 장치는, 처리 레시피에 설정된 기판의 처리 순서로 가열 장치를 승온하는 룰, 상하 방향으로 적층하여 배치된 가열 장치의 아래에서부터 위의 순으로 승온하는 룰, 승온 시작에서 승온 완료까지의 제정 시간이 짧은 가열 장치에서부터, 제정 시간이 긴 가열 장치의 순으로 승온하는 룰 중의 적어도 어느 하나 또는 2개 이상을 조합시킨 룰에 따라서 승온된다. 가열 장치의 승온은, 하나의 가열 장치가 승온됨에 따라 그 하나의 가열 장치로부터 방산되는 열을, 다른 가열 장치에 전달시키면서 이루어진다.

公开(公告)号：KR101100503B1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：KR1020060022803

申请日：2006-03-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70758 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포·현상장치에 관한 것으로서 캐리어블럭에 반입된 기판을 처리 블럭에 반송해 도포막을 형성한 후 인터페이스 블럭을 개재하여 노광 장치에 반송하고 상기 인터페이스 블럭을 개재하여 돌아온 노광 후의 기판을 상기 처리 블럭에서 현상 처리하고 캐리어블럭에 반송하는 도포·현상 장치에 있어서 상기 도포막 형성용의 블럭 및 현상용의 블럭에 대해서 적층되고 캐리어 블럭과 인터페이스블럭의 사이에 도포막이 형성된 기판을 캐리어 블럭측으로부터 인터페이스 블럭 측에 직통 반송하는 반송 수단을 설치한다. 이와 같이 구성하는 것으로 도포막 형성용의 블럭과 현상용의 블럭이 메인터넌스안에서도 검사용 기판을 노광 장치에 반송할 수 있으므로 노광 장치의 상태를 검사 할 수 있는 노광 장치의 메인터넌스를 원하는 타이밍으로 실시하는 할 수 있는 도포·현상 장치의 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020110131146A

公开(公告)日：2011-12-06

申请号：KR1020110106340

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  G03F7/16 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus is provided to reduce the occupied area of a process block by arranging unit blocks while laminating a unit block for spreading drug solution for a reflection preventing film on a substrate and a unit block for spreading resist liquid. CONSTITUTION: A carrier block(S1) includes a placement board(21) which mounts a carrier(20) and a transfer arm(C). A process block(S2), which surrounds a frame body(24), is connected with the inside of the carrier block. The processing block is composed by vertically arranging five unit blocks. A main arm(A4) is arranged in a carrier range(R1). A shelf unit(U5) is arranged in a location where being accessed to the transfer arm and the main arm in a wafer accepting range(R2).

Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，用于通过布置单元块来降低处理块的占用面积，同时层压用于将基板上的反射防止膜的药物溶液铺展的单位块和用于铺展抗蚀剂液体的单位块。 构成：载体块（S1）包括安装载体（20）和传送臂（C）的放置板（21）。 围绕框体（24）的处理块（S2）与承载块的内部连接。 处理块由垂直排列的五个单位块构成。 主臂（A4）布置在载体范围（R1）中。 搁板单元（U5）布置在在晶片接受范围（R2）中被访问到传送臂和主臂的位置。

公开(公告)号：KR101054196B1

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：KR1020060040104

申请日：2006-05-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하라요시타카 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67745 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/14

Abstract: 본 발명은 도포처리방법 및 도포처리장치에 관한 것으로서 도포·현상 장치는 기판의 반송 경로를 따라 처리측내에 반송 상류단으로부터 차례로 재치대 모듈 기판의 온도를 설정 온도로 조정하는 온조모듈 ; 온도 조정된 기판에 도포액을 도포하는 도포 모듈 및 도포액이 도포된 기판을 가열하는 가열 모듈을 배치하고 상하에 설치되어 서로 독립해 진퇴 자유로운 상부 아암 및 하부 아암을 가지는 기판 반송 기구에 의해 상부 아암 및 하부 아암을 교대로 동작시켜 상류측의 모듈로부터 차례로 기판을 한개씩 하류측의 모듈에 반송하는 것에 있어서 온조모듈로부터 도포 모듈에 반송하는 아암과 가열 모듈로부터 기판을 수취하는 아암을 다르게 하기 위해서 도포 모듈과 가열 모듈의 사이에 더미 재치대를 배치하고 상류단의 재치대 모듈을 1번째의 모듈로서 하류측의 모듈에 차례로 번호를 할당해 온조모듈이 우수 번째의 모듈이 될 때는 1번째의 재치대 모듈상의 기판을 상기 상부 아암에 의해 수취하도록 하고 온조모듈이 기수 번째의 모듈이 될 때는 1번째� � 재치대 모듈상의 기판을 하부 아암에 의해 수취하도록 하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，施加与middot涂敷处理和涂覆处理单元;显影装置，温度控制模块，用于从在沿在预定温度下在基板的输送路径中的提手侧的上游端调整载置台模块基板的温度，以便; 施加用于将调整的基板模块和涂布液上涂布涂布液的温度被布置成与一个加热模块用于加热涂布的基材，并通过上方和下方彼此来回自由上臂和下臂上臂独立地安装在基板搬送机构 和操作反过来下臂施加到不同臂，用于接收从所述臂上的所述衬底和用于从所述温度控制模块根据所述一个接一个地依次在基板由上游侧运输通路的模块下游模块的模块中转移到所述涂覆模块加热模块 以及将所述加热模块和在一年反过来上游端的载置台组件中的一个的模块之间的虚拟载置台的数分配给下游侧温度控制模块中的模块，当它是偶数的模块的第一载置台模块 当温度模块是奇数模块时，第一块基板 它提供了用于使载置台模块上的衬底由下臂接收的技术。

公开(公告)号：KR101046484B1

公开(公告)日：2011-07-04

申请号：KR1020060025822

申请日：2006-03-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67225 ,  Y10T29/49004 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T29/53174 ,  Y10T29/53187 ,  Y10T29/532

Abstract: 본 발명은 도포·현상장치 및 도포·현상방법에 관한 것으로서 도포막 형성용의 블럭과 현상 처리용의 블럭을 적층 함과 동시에 각 처리 블럭마다 블럭용의 반송 수단과의 사이에 기판의 수수를 행하기 위한 수수 스테이지를 캐리어블럭 측에 설치해 선반 형상의 수수 스테이지군을 구성하고 이들 수수 스테이지군의 수수 스테이지의 사이에 기판을 반송하는 상하 반송 수단을 설치한다. 그리고 캐리어 블럭의 상부의 빈공간에 기판 검사 유니트를 배치함과 동시에 상하 반송 수단을 개재시켜 직접 혹은 수수 스테이지군중의 수수 스테이지를 개재시켜 해당 기판 검사 유니트에 반송한다. 또 기판 검사 유니트는 수수 스테이지군중에 배치해도 좋은 기판 검사 유니트를 조립에 있어서 설치 스페이스에 대해서 불리하지 않은 구조 예를 들면 도포·현상 장치 본체의 옆으로부터 튀어나오지 않는 구조를 갖춘 도포·현상 장치의 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明被应用于＆middot;传输之间的基板的传递装置，用于将块，并在同一时间叠加块的块和用于形成涂布膜的显影方法涉及针对每个处理块的显影方法;显影装置及涂布＆middot 配置搁板状组的输送级安装输送级到载体块侧用于执行安装和上和下传送装置用于传送这些输送级组的输送级之间的基板。 然后，基板检查单元被放置在载体块上方的空余空间中，并且基板检查单元被直接或经由竖直传送装置通过多个传送台的传送台传送。 在该基板检查装置，对于没有受到不利的结构例如相对于安装空间，在良好的基板检查单元可以被布置在输送阶段人群的组件施加＆middot;＆涂覆有从显影装置主体middot的一侧伸出的结构;显影装置 该技术提供。

公开(公告)号：KR1020110061532A

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：KR1020110041642

申请日：2011-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시다야스시 ,  하야시신이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/02002 ,  G03F7/16 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: An applying device, developing device, applying method, developing method, and recording medium are provided to reduce a load of each main arm, thereby increasing a yield. CONSTITUTION: A processing block(S2) includes a resist film forming unit and a substrate inspecting unit(43). A carrier block(S1) includes a transfer device for a carrier block. The resist film forming unit and a substrate inspecting unit are overlapped in the processing block. The resist film forming unit includes a plurality of processing units and a transfer device for a forming unit. The substrate inspecting unit includes a substrate inspecting unit and a transfer device for inspecting a substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种施加装置，显影装置，施加方法，显影方法和记录介质，以减少每个主臂的负载，从而提高产量。 构成：处理块（S2）包括抗蚀膜形成单元和基板检查单元（43）。 载体块（S1）包括用于载体块的转移装置。 抗蚀剂膜形成单元和基板检查单元在处理块中重叠。 抗蚀膜形成单元包括多个处理单元和用于成形单元的转印装置。 基板检查单元包括基板检查单元和用于检查基板的转印装置。

公开(公告)号：KR1020100097037A

公开(公告)日：2010-09-02

申请号：KR1020100016027

申请日：2010-02-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  B65G15/30 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B65G15/30 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67736

Abstract: PURPOSE: A substrate processing system is provided to improve the amount of processed wafers by controlling the transfer of a wafer at each transfer line. CONSTITUTION: A transfer device(50) transfers a loaded substrate(W) in one direction. The transfer device includes a sheet(101) for loading the substrate and a plurality of transfer rolls(100) which is rotatably installed to support and move the sheet. A processing device processes the substrate loaded on the transfer device.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理系统，通过控制每条传输线上晶片的转移来提高处理晶片的数量。 构成：传送装置（50）沿一个方向传送加载的基板（W）。 转印装置包括用于装载基材的片材（101）和可旋转地安装以支撑和移动片材的多个转印辊（100）。 处理装置处理装载在转印装置上的基板。

公开(公告)号：KR1020080052375A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：KR1020070114321

申请日：2007-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67225 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/6723 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67248

Abstract: A coating-developing apparatus, a coating-developing method, and a storage medium are provided to reduce the number of interface arms and a footprint of the coating-developing apparatus by installing a retreating module on a unit module for forming a coating layer. A temperature control module(CPL3) for controlling the temperature of a substrate, a liquid process module, and a heating and cooling module(LHP3) for heating and cooling the substrate are installed in a unit block for forming a coating layer. A retreating module(BF3) is installed on the unit block and retreats the substrates greater than the number of the liquid process modules by n numbers. A controller controls a substrate transfer unit in the unit block to transfer the substrate from the temperature control module toward the retreating module. In case a process speed of an exposing apparatus is slow than that of the unit block, the controller controls the substrate transfer unit to increase the number of the substrates placed on a lower module of the temperature control module than the number of total modules on a transfer path by n numbers.

Abstract translation: 提供涂布显影装置，涂布显影方法和存储介质，以通过在用于形成涂层的单元模块上安装退避模块来减少接触臂的数量和涂覆显影装置的占地面积。 用于控制基板的温度的温度控制模块（CPL3），用于加热和冷却基板的液体处理模块和用于加热和冷却基板的加热和冷却模块（LHP3））安装在用于形成涂层的单元块中。 退回模块（BF3）安装在单元块上，使基板大于液体处理模块数量的n个数字。 控制器控制单元块中的衬底传送单元，以将衬底从温度控制模块传送到后退模块。 在曝光装置的处理速度比单元块的处理速度慢的情况下，控制器控制衬底传送单元以增加放置在温度控制模块的下模块上的衬底的数量，而不是在 传输路径n个数字。

公开(公告)号：KR1020060085190A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：KR1020060005978

申请日：2006-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/00 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/7075

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1 ; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ;BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; 可以通过从BCT层B5中选择要使用的单元块来应对COT层B4，在这种情况下，可以抑制传输程序的复杂性并且可以简化软件。

公开(公告)号：KR1020060085178A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：KR1020060004421

申请日：2006-01-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키

IPC: B05C9/02 ,  B05B15/04 ,  B05D3/02

CPC classification number: H01L21/67276 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67754 ,  B05C9/02 ,  B05D3/02

Abstract: A coating and developing apparatus comprises a process block which forms a resist film on a wafer, then transfers the wafer to an exposure apparatus, and performs a developing process on the wafer after exposure, and an interface transfer mechanism provided between the process block and the exposure apparatus. The process block includes unit blocks for coating-film formation and unit blocks for development laid out in a stacked manner. When an abnormality occurs in the interface transfer mechanism, an ordinary process in the unit block for coating-film formation is performed on those substrates which are present in that unit block for coating-film formation, after which processed wafers are retreated to a retaining unit and transfer of any wafer into the unit block for coating-film formation is inhibited.