Abstract:
PURPOSE: A light sensing device, a driving method, and an optical touch screen device including the same are provided to sense light by using an oxide semi-conductor transistor as a light sensing element. CONSTITUTION: A light sensing pixel array includes light sensing pixels(110). Gate lines provide gate voltages to the light sensing pixel. The light sensing pixel includes a light sensing transistor(112) for sensing light and a switch transistor(111) for outputting light sensing signals from the light sensing transistor. A gate of the light sensing transistor in the light sensing pixel is connected to the gate line arranged at other lines. [Reference numerals] (120) Gate driver; (130) Signal output unit
Abstract:
PURPOSE: An optical sensing device, a driving method and an optical touch screen device are provided to compose an oxide semiconductor transistor playing a role of a switch with a stable channel material having a low sensitivity for light, thereby increasing operation reliability. CONSTITUTION: An optical sensor transistor(110) is arranged on a substrate to sense light. A switch transistor outputs data from the optical sensor transistor. A transparent upper electrode(118) is arranged on an upper side of the optical sensor transistor. The transparent upper electrode applies a negative bias voltage to the optical sensor transistor. The optical sensor transistor includes a first gate electrode(112); a gate insulation film(113); a first channel film(114) formed on the gate insulation film; first and second source/drain electrodes(115a,115b) formed on both sides of the first channel film; and a transparent passivation layer(116) formed on the first and the second source/drain electrodes and the first channel film.
Abstract:
광센서를 이용한 리모트 터치 패널 및 이를 구비하는 리모트 터치 스크린 장치가 개시된다. 개시된 리모트 터치 패널은 예컨대 광민감성 산화물 반도체(light-sensitive oxide semiconductor)와 전극을 포함하는 광센서를 이용한다. 이러한 리모트 터치 패널은, 손과 펜 등의 직접 터치가 어려운 대형 디스플레이를 원거리에서 터치하듯이 제어할 수 있다. 예를 들어, 레이저 포인터 등과 같은 간단한 광원 장치를 이용하여, 마치 모니터를 보면서 마우스로 컴퓨터를 제어하듯이 대형 디스플레이 장치를 손쉽게 제어할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A channel layer and a transistor including the same are provided to control a threshold voltage and the mobility of a transistor by comprising the channel layer with a first layer and a second layer with different carrier density and/or mobility. CONSTITUTION: A transistor includes a channel layer(C1), a source(S1), a drain(D1), and a gate(G1). The channel layer has different mobility and includes a lower layer(10) and an upper layer(20). The lower layer and the upper layer are made of the different oxide. The source and the drain are contacted with both sides of the channel layer. The gate applies the electric field to the channel layer. The closest layer to the gate among the lower layer and the upper layer determines the mobility of the transistor.
Abstract:
A method for manufacturing an amorphous ZnO based thin film transistor is provided to obtain uniform on/off operation characteristics by enhancing photo sensitivity characteristics. A method for manufacturing an amorphous ZnO based thin film transistor includes the steps of: preparing a substrate(10); forming an active layer(11) including an amorphous ZnO based complex semiconductor expressed by a chemical equation that si x(Ga2O3).y(In2O3).z(ZnO) and 1.15
Abstract translation:提供一种用于制造非晶ZnO基薄膜晶体管的方法,以通过增强光敏特性来获得均匀的开/关操作特性。 一种制造无定形ZnO基薄膜晶体管的方法包括以下步骤:制备衬底(10); 形成由si x(Ga 2 O 3)2(In 2 O 3)z(ZnO)和1.15 <= x / z <=2.05,1.15≤y的化学方程表示的非晶ZnO基复合半导体的有源层(11) /z<=1.70; 在有源层(11)的两侧形成源电极和漏电极; 以及在有源层(11)上形成限定电场的栅电极。
Abstract:
3차원 강유전체 커패시터와 이를 포함하는 불휘발성 메모리 소자와 그 제조 방법에 관해 개시되어 있다. 여기서 본 발명은 트랜치형 하부전극과, 상기 하부전극 둘레에 형성된 층간 절연층, 예컨대 SiO2층과, 상기 층간 절연층 상에 형성된 확산 방지막과, 상기 하부전극 및 상기 확산 방지막 상에 형성된 강유전층(PZT층) 및 상기 강유전층 상에 형성된 상부전극을 포함하고, 상기 확산 방지막은 Pb를 포함하지 않는 페로브스카이트 결정 구조를 갖는 절연막인 것을 특징으로 하는 강유전체 커패시터와 이를 포함하는 불휘발성 메모리 소자 및 그 제조 방법을 제공한다.
Abstract:
극자외선 리소그래피용 반사 디바이스 및 반사 디바이스 제조방법이 개시되어 있다. 개시된 반사 디바이스는, 기판과, 기판 상에 형성되고 극자외(EUV:Extreme Ultra Violet)선을 반사시킬 수 있는 재료로 이루어진 다중 반사층을 포함하며, 다중 반사층은, 제1물질층과, 제1물질층을 표면 처리한 표면처리막과, 표면 처리막 상에 형성된 제2물질층을 포함하는 층 그룹이 다수개 적층되어 형성된 다. 개시된 반사 디바이스 제조 방법은, 기판을 준비하는 단계와; 상기 기판 상에 극자외(EUV:Extreme Ultra Violet)선을 반사시킬 수 있는 재료로 다중 반사층;을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 다중 반사층을 형성하는 단계는, 제1물질층을 형성하는 단계와; 상기 제1물질층을 표면 처리하는 단계와; 표면 처리된 상기 제1물질층 상에 제2물질층을 형성하는 단계;를 포함하며, 다시, 상기 제2물질층 상에 제1물질층 형성, 제1물질층 표면 처리, 제2물질층 형성과정을 복수회 반복하여 상기 다중 반사층을 형성한다.
Abstract:
비축상 배치 관계에 있으며, 초점을 공유하는 제1 및 제2미러를 포함하며, 물체면으로부터 제1미러에 이르는 거리를 l 1 , 물체면쪽에서 제1미러로 입사되는 광의 입사각을 i 1 , 상기 제1미러로부터 공유 초점에 이르는 거리를 l 1 ', 공유 초점으로부터 상기 제2미러에 이르는 거리를 l 2 , 상기 제1미러쪽에서 제2미러에 입사되는 광의 입사각을 i 2 , 상기 제2미러로부터 상면에 이르는 거리를 l 2 '이라 할 때, 하기의 식을 만족하는 것을 특징으로 하는 비축상 프로젝션 광학계가 개시되어 있다.
Abstract:
반사 포토마스크의 제조 방법이 개시된다. 개시되는 반사 포토마스크의 제조 방법은 기판을 마련하는 단계; 상기 기판 위에 EUVL(extreme ultra violet light)을 반사시킬 수 있는 반사층을 형성하는 단계; 상기 반사층 위에 산화물층(oxide layer)을 형성하는 단계; 상기 산화물층을 패터닝하여, 산화물 패턴체와 그에 의해 정의되는 산화물 윈도우(window)로 이루어지는 산화물 패턴을 형성하는 단계; 상기 산화물 윈도우에 EUVL을 흡수할 수 있는 흡수물질을 채워, 흡수체 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 산화물 패턴체를 제거하는 단계;를 포함한다. 본 발명에 따른 반사 포토마스크의 제조 방법에 의하면, 설계된 패턴이 실리콘 웨이퍼에 제대로 구현될 수 있는 장점이 있다.