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公开(公告)号：KR1020130030521A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：KR1020110094040
申请日：2011-09-19
Applicant: (주)아모레퍼시픽 , 성균관대학교산학협력단
IPC: C01G23/047 , C01G49/04 , A61K8/19 , A61Q17/04
Abstract: PURPOSE: A mesoporous inorganic composite material of titanium dioxide is provided to ensure UV protection ability by dipping a UV protection agent in a pore. CONSTITUTION: A mesoporous inorganic composite material of titanium dioxide contains a mesoporous titanium dioxide(TiO2) molecule and a UV protection agent which is supported in a pore of the molecule. The UV protection agent is one or more among an organic UV protection agent and an inorganic UV protection agent. A method for preparing the mesoporous inorganic composite material comprises: a step of hydrolyzing a titanium dioxide precursor; a step of plasticizing prepared titanium dioxide; a step of mixing a metal precursor or an organic UV protection agent; a step of dipping the titanium dioxide in a mixture solution; and a step of drying and plasticizing.
Abstract translation: 目的：提供二氧化钛的介孔无机复合材料，以通过将UV保护剂浸入孔中来确保紫外线防护能力。 构成：二氧化钛的介孔无机复合材料包含介孔二氧化钛（TiO 2）分子和负载在分子孔中的紫外线防护剂。 紫外线防护剂是有机紫外线防护剂和无机紫外线防护剂中的一种以上。 一种制备介孔无机复合材料的方法包括：水解二氧化钛前体的步骤; 增塑制备的二氧化钛的步骤; 混合金属前体或有机紫外线防护剂的步骤; 将二氧化钛浸渍在混合溶液中的步骤; 和干燥和塑化的步骤。
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公开(公告)号：KR1020070009393A
公开(公告)日：2007-01-18
申请号：KR1020060060244
申请日：2006-06-30
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/3211 , H01J37/3266 , H01L21/67069
Abstract: An ultra-large area plasma generating apparatus using a dual frequency is provided to maximize improvement of plasma uniformity by using input power of dual frequency. A substrate for performing an etch process or a deposition process is mounted on a stage(1200). A reaction chamber(1100) has a plasma process region, capable of being separated from the stage. The reaction chamber is covered with a cover. The reaction chamber is coupled to the cover by an assemble frame. First and second antenna sources are disposed in the plasma process region, constructed in parallel with a plurality of antennal assemble body of which one side is connected to power and the other side is grounded. A plurality of magnetic assemble bodies(1500) are disposed at both sides of each antenna assemble body. The first antenna source includes m antenna assembly bodies(1400) to which the same power is applied. The second antennal source includes m-1 antennal assemble bodies to which the same power is applied. Each antenna assemble body of the first antenna source and each antenna assemble body of the second antennal source are alternately disposed. Input power applied to the first antenna source and input power applied to the second antenna source are simultaneously applied, having different dimensions. The first and the second antenna sources can be two antennal sources made of a comb type in which a plurality of antenna assemble bodies are interconnected in parallel.
Abstract translation: 提供了使用双频的超大面积等离子体发生装置，通过使用双频输入功率来最大程度地提高等离子体均匀性。 用于执行蚀刻工艺或沉积工艺的衬底安装在台（1200）上。 反应室（1100）具有能够与载物台分离的等离子体处理区域。 反应室被盖子覆盖。 反应室通过组装框架联接到盖子。 第一和第二天线源设置在等离子体处理区域中，与其一侧连接到电源并且另一侧接地的多个天线组装体并联构造。 多个磁性组合体（1500）设置在每个天线组装体的两侧。 第一天线源包括m个天线组件主体（1400），所施加的功率相同。 第二触角源包括施加相同功率的m-1个天线组装体。 第一天线源的每个天线组装体和第二天线源的每个天线组装体交替布置。 施加到第一天线源的输入功率和施加到第二天线源的输入功率被同时应用，具有不同的尺寸。 第一和第二天线源可以是由梳状类型构成的两个天线源，其中多个天线组装体并联互连。
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公开(公告)号：KR101792070B1
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：KR1020110094040
申请日：2011-09-19
Applicant: (주)아모레퍼시픽 , 성균관대학교산학협력단
IPC: C01G23/047 , C01G49/04 , A61K8/19 , A61Q17/04
Abstract: 본발명은중형기공성티타늄디옥사이드(TiO) 분자체; 및상기분자체의기공내에담지된자외선차단제;를포함하는중형기공성무기복합분체, 이의제조방법및 이를함유하는피부외용제조성물을제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及介孔二氧化钛（TiO）分子筛; 并且在分子筛的孔中负载有紫外线遮蔽剂，其制造方法以及含有其的皮肤外用剂。
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公开(公告)号：KR1020170104063A
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：KR1020160026131
申请日：2016-03-04
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본발명은스퍼터링증착장치에관한것으로서, 본발명에따른스퍼터링증착장치는피증착기판과타겟이서로대향하도록내부에배치되며스퍼터링반응공간을제공하는챔버, 피증착기판과타겟사이의일영역에제 1 가스를이용하여플라즈마를발생시키는제 1 플라즈마발생부및 피증착기판과타겟사이의다른일 영역에제 2 가스를이용하여플라즈마를발생시키는제 2 플라즈마발생부를포함하는것을.특징으로한다.
Abstract translation: 溅射成膜装置及溅射成膜装置技术领域本发明涉及一种溅射成膜装置及溅射成膜装置，其包括：配置在被成膜基板的内部的相对的室，并且设置溅射反应空间; 以及第二等离子体发生器，用于通过在要被气相沉积的衬底和目标之间的另一区域中使用第二气体来产生等离子体。
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公开(公告)号：KR1020170030732A
公开(公告)日：2017-03-20
申请号：KR1020150127932
申请日：2015-09-09
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본발명은도서수납장치에관한것으로, 집게수단; 및공간확보수단; 을포함하여, 책장에꽂혀있는도서들을밀어내어도서를보관할있는공간을확보할수 있으므로간단하게도서를끼워넣어보관할수 있도록하는것을특징으로한다.
Abstract translation: 书架技术领域本发明涉及书架， 和空间安全手段; 通过推出插在书柜中的书籍可以保证存放书籍的空间，从而可以容易地插入和存储书籍。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160133610A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：KR1020150066162
申请日：2015-05-12
Applicant: 성균관대학교산학협력단
Abstract: 본발명은하이브리드투명전극및 이를포함하는디스플레이소자에관한것으로, 상기하이브리드투명전극은투명기판및 상기투명기판에임베디드된금속나노와이어또는금속나노메쉬를포함하는금속나노구조체를포함하는제1전극층; 및전도성 2차원물질을포함하는제2전극층을포함하고, 상기금속나노구조체의일부가상기제2전극층에접촉하는것을특징으로한다. 본발명에의하면, 표면거칠기가개선되고디스플레이소자의표면으로전류의스프레딩이향상되며일함수조절이가능한투명전극을제공하여디스플레이소자또는플렉서블소자에유용하게적용할수 있다.
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公开(公告)号：KR101556830B1
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：KR1020130143834
申请日：2013-11-25
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: C23C14/34
Abstract: 유도결합형플라즈마소스및 이를포함하는스퍼터링장치가개시된다. 본발명에따른유도결합형플라즈마소스는외주면에다수개의홀을가지는원통형의제1 튜브, 외주면에다수개의홀을가지며상기제1 튜브의외주면을둘러싸는원통형의제2 튜브및 상기제1 튜브에권취되는안테나를포함하며, 상기제1 튜브내부에서플라즈마를발생시키고상기제1 튜브및 제2 튜브의다수개의홀을통하여외부로방출시키는것을특징으로한다. 또한, 본발명에따른스퍼터링장치는상기유도결합형플라즈마소스, 스퍼터링타겟이놓여지는캐소드및 처리기판을포함하며, 상기유도결합형플라즈마소스에의하여플라즈마가발생하는영역과상기캐소드와처리기판사이의플라즈마가발생하는영역으로구분되는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR101547066B1
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：KR1020140134751
申请日：2014-10-07
Applicant: 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: H01J37/32908 , H01J37/32009 , H01J37/32532 , H01J37/32715 , H05H1/24
Abstract: 본 발명은 플라즈마 처리시 대상물체에 발생할 수 있는 손상을 방지하는 저손상 플라즈마 처리 장치를 개시한다. 본 발명에 따른 플라즈마 처리 장치는 소스 전극과 스테이지 사이에 배치되며, 도전체로 형성되고, 플라즈마 처리 장치에 구비된 진공 챔버와 전기적으로 절연 상태인 제1 그리드를 포함하여 이루어짐으로써, 불순물 입자 또는 너무 높은 에너지를 가진 플라즈마 입자에 의해 대상물체에 발생할 수 있는 손상을 방지한다.
Abstract translation: 公开了一种低损伤等离子体处理装置，其防止在等离子体工艺中对目标的损坏。 根据本发明的等离子体处理装置包括：第一栅极，其布置在源电极和台之间并且由导体制成并且与等离子体处理装置中的真空室电绝缘。 因此，防止了由于杂质颗粒或具有非常高能量的等离子体颗粒而导致的目标物的损伤。
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公开(公告)号：KR1020150059993A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：KR1020130143834
申请日：2013-11-25
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3471
Abstract: 유도결합형플라즈마소스및 이를포함하는스퍼터링장치가개시된다. 본발명에따른유도결합형플라즈마소스는외주면에다수개의홀을가지는원통형의제1 튜브, 외주면에다수개의홀을가지며상기제1 튜브의외주면을둘러싸는원통형의제2 튜브및 상기제1 튜브에권취되는안테나를포함하며, 상기제1 튜브내부에서플라즈마를발생시키고상기제1 튜브및 제2 튜브의다수개의홀을통하여외부로방출시키는것을특징으로한다. 또한, 본발명에따른스퍼터링장치는상기유도결합형플라즈마소스, 스퍼터링타겟이놓여지는캐소드및 처리기판을포함하며, 상기유도결합형플라즈마소스에의하여플라즈마가발생하는영역과상기캐소드와처리기판사이의플라즈마가발생하는영역으로구분되는것을특징으로한다.
Abstract translation: 公开了一种用于提高溅射产率的电感耦合等离子体源，以及使用该等离子体源的溅射装置。 根据本发明，电感耦合等离子体源包括：圆筒形第一管，其在外圆周上具有多个孔; 圆筒状的第二管，其在外周具有多个孔，并且包围第一管的外周; 以及缠绕在第一管上的天线。 从第一管的内部产生等离子体，通过第一管和第二管上的多个孔排出到外部。 除此之外，溅射装置包括：电感耦合等离子体源; 放置溅射靶的阴极; 和处理基板。 溅射装置被分离成通过电感耦合等离子体源产生等离子体的区域，以及阴极和处理基板之间的区域以产生等离子体。
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公开(公告)号：KR1020140125121A
公开(公告)日：2014-10-28
申请号：KR1020130042876
申请日：2013-04-18
Applicant: 성균관대학교산학협력단
IPC: H05H1/46
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32091 , H01Q1/244 , H01Q1/366 , H05H2001/4675
Abstract: 두께 조절이 가능한 내부 삽입형 안테나 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치가 개시된다. 상기 내부 삽입형 안테나는 전극을 포함하는 안테나 튜브의 외주면을 감싸는 원통형의 절연체를 포함하며, 상기 플라즈마 발생 장치는 반응 챔버의 내측 상단부에 서로 평행하게 배치되는 상기 내부 삽입형 안테나를 포함하여 구성된다. 또한, 상기 내부 삽입형 안테나는 상기 안테나 튜브의 길이 방향에 따라 두께를 달리하여 생성되는 플라즈마의 밀도를 조절할 수 있다.
Abstract translation: 公开了一种具有可控厚度的插入式天线和使用该天线的等离子体产生装置。 插入型天线包括包围包括电极的天线管的外表面的圆柱形绝缘体。 等离子体产生装置包括布置成平行于反应室的上部内部的插入型天线。 插入型天线可以通过沿着天线管的纵向方向改变天线管的厚度来控制等离子体的密度。
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