Abstract:
PURPOSE: A copper-zinc-tin-sulfur-selenium(CZTSS)-based nano-particle precursor, a method for manufacturing the same, the CZTSS-based nano-particles using the same, and a method for manufacturing the nano-particles are provided to synthesize the CZTSS-based nano-particle precursor by hardly using toxic materials. CONSTITUTION: A CZTSS-based nano-particle precursor is synthesized by irradiating microwave to a reacting solution containing copper, zinc, tin, and sulfur. The composition ratio of the copper, the zinc, the tin, the sulfur is adjusted according to the pH value of the reacting solution. The microwave irradiation is implemented for 5 minutes to 1 hours under 100-700W. A method for manufacturing the CZTSS-based nano-particle precursor includes the following: the reacting solution is prepared; the pH value of the reacting solution is adjusted; the microwave is irradiated to the reacting solution. The CZTSS nano-particle precursor is separated.
Abstract:
본 발명은 CZTS 나노입자(Cu 2 ZnSnS 4 nano-particle) 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 독성물질을 사용하지 않고 Cu 2 ZnSnS 4 나노입자 전구체를 합성하는 제조방법, 그 방법으로 제조된 전구체 및 제조된 전구체를 황화 열처리 하여 고품질 Cu 2 ZnSnS 4 나노입자를 제조하는 방법 및 제조된 고품질 Cu 2 ZnSnS 4 나노입자에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 산화아연(ZnO) 박막의 제조 및 그 박막의 표면 형상을 제어하는 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 수열합성법을 이용한 에피택셜 산화아연 박막의 성장과 그 박막이 형성된 기판이 존재하는 수열합성용 용액의 온도 조건 변화를 통해 제어된 표면 형상을 갖는 산화아연 박막의 제조방법을 제공한다. 본 발명의 제어된 표면 형상을 갖는 산화아연 박막 제조방법은 수열합성법과 수열합성용 용액의 온도 조건 변화를 이용함으로써, 저온에서 저가의 간단한 공정으로 잘 제어된 표면 형상을 갖는 산화아연 박막을 제조할 수 있는 효과를 제공한다. 또한, 본 발명의 제조방법에 의해 제조된 산화아연 박막은 결정성과 광학적 특성이 우수하여 태양전지와 발광다이오드(LED) 등의 광학소자에 투명 전도체를 제조하는 데에 응용할 수 있는 효과를 제공한다. 수열합성법, 산화아연 박막, 에피택셜 성장, 표면 형상 제어
Abstract:
PURPOSE: An optical absorption layer for a solar battery and a manufacturing method thereof are provided to improve reliability and yield by depositing SiO2 or the SiNx compound on a thin film through a PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) method. CONSTITUTION: A predetermined amount of Se is deposited on a thin film according to composition ratio(S100). A protective layer is formed on the deposited Se(S200). The thin film is heat-treated(S300). The protective layer is removed by an etching process(S400). A ternary thin film includes CIS or CIGS. The protective layer is formed by depositing SiO2 or SiNx.
Abstract:
PURPOSE: A high efficiency power LED module and a manufacturing method thereof are provided to improve heat dissipation performance by discharging heat transferred to a circuit substrate to the outside of an external heat dissipation case through a pressurizing member. CONSTITUTION: An LED package(10) comprises a lead frame, a semiconductor chip which is settled in the upper part of the lead frame, and a molding part. The LED package is fixed in a circuit board(30). A heat sink(20) is installed between the lower part of the molding part of the LED package and the circuit board. An external heat dissipation case(40) comprises a bottom part and a side wall. A pressurizing member(50) adheres closely the heat sink towards the sidewall by pressurizing the circuit board to the upper part.
Abstract:
A light emitting diode having a micro lens is provided to realize excellent optical transmissivity and high adhesive property with respect to a substrate by forming the micro lens with an ultraviolet rays hardening adhesive agent. An N-type semiconductor layer(140), an active layer(150), and a P-type semiconductor layer(160) are sequentially laminated on a substrate(110). A part of the N-type semiconductor layer is exposed by removing a region from the P-type semiconductor layer to a part of the N-type semiconductor layer. An N-type electrode pad(190) is formed on an upper portion of the exposed N-type semiconductor layer. A transparent conductive layer is formed on an upper portion of the P-type semiconductor layer. A P-type electrode pad(180) is formed on an upper portion of the P-type semiconductor layer. Micro lenses made of an ultraviolet rays hardening adhesive agent are arranged on an upper portion of the transparent conductive layer.
Abstract:
박막태양전지를구성하는 CIGS 박막의제조방법이개시된다. 하이레벨과로우레벨이반복적으로인가되는펄스열 형태의전압의인가와열처리를통해 CIGS 박막은형성될수 있다. 하이레벨을가진전압의인가에따라 Se 이온또는 Cu 이온이전착되고, 로우레벨을가지는전압의인가에따라 Ga 이온및 In 이온이전착된다. 또한, 작업전극에인가되는전압은 3단계의레벨을가진스텝펄스의형태로인가될수 있다. 이를통해빠른공정시간내에 CIGS 박막의형성이이루어질수 있다.
Abstract:
화학 수조 증착법을 이용한 CZTS 박막 제조방법이 개시된다. 이 방법은 수조에 전구체 용액을 준비하는 단계와, 전구체 용액에 기판을 넣고 소정 시간 동안 유지하여 기판에 전구체 박막을 형성하는 단계와, 전구체 박막이 형성된 기판을 취출하여 열처리하는 단계를 포함한다. 여기서, 전구체 용액의 다양한 예를 가진다. 금속염, 착화제, 및 황염 또는 셀렌염을 포함하거나, 금속염과 착화제만을 포함할 수 있다. 또한 전구체 용액을 복수의 전구체 용액으로 준비하여 복수의 전구체 박막을 형성한 후 이를 열처리하여 CZTS 박막을 형성할 수 있다.
Abstract:
박막태양전지를구성하는 CIGS 박막의제조방법이개시된다. 하이레벨과로우레벨이반복적으로인가되는펄스열 형태의전압의인가와열처리를통해 CIGS 박막은형성될수 있다. 하이레벨을가진전압의인가에따라 Se 이온또는 Cu 이온이전착되고, 로우레벨을가지는전압의인가에따라 Ga 이온및 In 이온이전착된다. 또한, 작업전극에인가되는전압은 3단계의레벨을가진스텝펄스의형태로인가될수 있다. 이를통해빠른공정시간내에 CIGS 박막의형성이이루어질수 있다.