Abstract:
전계효과트랜지스터를이용한미량분석방법및 미량분석시스템을제공한다. 이방법은수용체분자가고정화된채널영역을구비하는전계효과트랜지스터를준비하고, 검사용시료및 나노입자컨쥬게이트를전계효과트랜지스터로공급하여채널영역에나노입자컨쥬게이트를형성하고, 채널영역상에프로브물질을성장시킨후, 채널영역을흐르는전류를측정하는단계를포함할수 있다. 이때, 수용체분자는검사용시료에포함될수 있는타겟분자와선택적으로결합하는물질일수 있다.
Abstract:
본 발명은 기상 제트 프린팅을 이용한 금속 산화물 박막의 형성 방법 및 금속 산화물 박막 프린팅 장치에 관한 것으로, 상기 금속 산화물 박막의 형성 방법은, 제1 금속 산화물 전구체를 기화시키는 것; 기화된 상기 제1 금속 산화물 전구체를 제1 캐리어 가스를 이용하여 혼합 챔버로 유입시키는 것; 유입된 상기 제1 금속 산화물 전구체를 상기 혼합 챔버의 하단에 연결된 마이크로 노즐을 통해 기판 상으로 분사하여, 상기 기판 상에 제1 금속 산화물 전구체층을 형성하는 것; 및 상기 제1 금속 산화물 전구체층에 전자기파를 조사하여 제1 금속 산화물층을 형성하는 것을 포함할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 바이오 센서 칩에 대한 것으로서, 이 장치는 행렬로 배열되어 있으며, 외부의 광 주사에 의해 선택적으로 감지 신호를 출력하는 복수의 바이오 센서 셀, 상기 복수의 바이오 센서 셀과 동시에 연결되어 선택된 상기 바이오 센서 셀로부터의 상기 감지 신호를 전달하는 감지선, 그리고 상기 감지선으로부터 상기 감지 신호를 받아 외부로 출력하는 출력 단자를 포함한다. 따라서, 바이오 센서 칩에서 복수의 바이오 센서 셀을 어레이 형태로 구현하면서 별도의 구동부를 포함하지 않으므로 제조 공정이 단순화된다. 즉, 외부의 광원을 통해 감지하고자 하는 셀을 선택적으로 주사함으로써 일회성으로 사용되고 버려지는 바이오 센서 칩의 단가를 줄일 수 있다. 바이오 센서, 바이오 센서 어레이, 광 주사, 광 어드레싱
Abstract:
본 발명은 검출 장치에 관한 것이다. 본 발명의 검출 장치는 검출 물질과 반응하여 저항 변화를 발생하는 저항성 반응부, 상기 저항 변화에 따라 비선형적 특성을 갖는 전류 신호를 생성하는 검출 신호 생성부, 및 상기 전류 신호를 검출하는 신호 검출부를 포함하고, 상기 저항성 반응부와 상기 검출 신호 생성부는 병렬 연결된다. 검출 장치, 저항, 기준 저항, 다이오드, 비선형, 고감도
Abstract:
PURPOSE: A method of selectively reforming a non-deformation solid surface into an optical response type coating film, and an active material fixing method using the optical response type coating film are provided to selectively combining an active material in the desired part. CONSTITUTION: A method of selectively reforming a non-deformation solid surface into an optical response type coating film comprises the following steps: reforming the non-deformation solid surface without an oxidation process or a nitration process using hydrogen; forming an EGPA coating film on the non-deformation solid surface using light; removing an amine protector or amine slat from the EGPA coating film; forming a coating layer with a functional group reacting to the light on the non-deformation solid surface using the EGPA coating film; and dipping a substrate including the non-deformation solid surface into a buffered oxide etching solution for 10seconds.