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公开(公告)号：KR100194598B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019950042065
申请日：1995-11-17
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 프로브 빔 주사방식에 의한 웨이퍼 자동촛점장치에 관한 것이다.
좀 더 구체적으로, 본 발명은 프로브 빔 주사방식을 사용하여 촛점신호의 측정오차를 최소화함으로써 자동촛점장치의 정밀도와 분해능을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 자동촛점장치에 관한 것이다.
본 발명의 웨이퍼 자동촛점장치는 반도체 노광장치의 웨이퍼 자동촛점장치에 있어서, 반도체 레이저(101); 전기한 반도체 레이저(171)로부터 발생된 빛의 편광방향을 TE편광으로 바꾸기 위한 선 편광자(103) 및 슬릿(104)의 광학계; 전기한 슬릿(104)으로부터 투사된 빛을 사용하여 웨이퍼 스테이지(90) 상의 웨이퍼(80)에 프로브 빔을 주사하기 위한 갈바노미터(106')로 이루어진 주사 거울(106); 웨이퍼(80) 상에서 반사된 반사광을 실린더상 렌즈(111)에 집속하기 위한 광학계 및 프로브 빔의 길이방향을 압축하여 PSD(112) 상에 전달하기 위한 실린더상 렌즈(112); 및, 발광 및 수광회로부(140)와 신호처리 및 제어부(150)로 구성되어 전기한 광학계에 의한 광학신호를 전기신호로 변환하기 위한 자동촛점 신호처리계를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR100175351B1
公开(公告)日：1999-03-20
申请号：KR1019950053651
申请日：1995-12-21
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본 발명은 높은 광투과 정렬창을 갖는 X-선 브랭크마스크 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 종래기술의 X-선 마스크용 투과막은 광투과도가 낮고, 층간정렬도가 떨어졌던 문제점을 해결하기 위해 X-선 마스크에서 정렬광이 투과하는 부위는 광투과도가 우수한 멤브레인 물질을, X-선 노광에 의한 손상이 없는 멤브레인 물질을 하나의 웨이퍼에 형성한 구조로서, 정렬창의 멤브레인으로 Si
3 N
4 을, 칩부위의 멤브레인을 Si
3 N
4 /poly-Si/Si
3 N
4 을 사용하고, 또한 정렬창의 멤브레인으로 Si
3 N
4 /SiO
2 을 사용하고, 침부위의 멤브레인은Si
3 N
4 /poly-Si/Si
3 N
4 을 사용하는 것이다.-
公开(公告)号：KR1019980050459A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：KR1019960069282
申请日：1996-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B27/58
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
리소그래피용 광학
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
동에 공간적으로 균일한 강도를 갖는 빛으로 조명하여 이른바 레일리 한계에 의해 제한되는 선폭의 광학상을 얻으므로, 이때 최소 선폭은 균일한 조명의 경우 조명파장과 광학계의 개구수에 의해서 제한된다.
3. 발명의 해결 방법의 요지
노광장비 광학계의 동(瞳)에 여러개의 가우스 함수가 중첩된 형태의 진폭 및 위상 투과특성을 갖도록 조명광을 조작함으로써 통상적인 광학계에서 얻을 수 있는 선폭보다 미세한 선폭의 상을 얻는다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 공정-
公开(公告)号：KR1019970052733A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950052662
申请日：1995-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/306
Abstract: 본 발명은 X-선 마스크 제작을 위한 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척에 관한 것이다.
좀 더 구체적으로, 본 발명은 X-선 마스크 제작공정중 실리콘의 습식식각시 웨이퍼의 외주연 부분이 식각액과 접촉하는 것을 방지하거나 웨이퍼의 일면에 실장된 소자가 식각액과 접촉하는 것을 방지할 수 있는 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척에 관한 것이다.
본 발명의 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척은 X-선 마스크 제작을 위한 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척에 있어서, 단면에 L자 형상으로 절곡된 환 형상을 지니고 절곡된 평탄면의 중앙에는 O-링(11)이 부설되어 웨이퍼(50) 일면의 외주연 부분을 안착시키는 위한 하부 지지부(10); 및, 환 형상을 지니고 하면 중앙에 O-링(21)이 부설되며 상기한 하부 지지부(10)의 절곡면에 내설되어 웨이퍼(50) 타면의 외주연 부분을 고정하기 위한 상부 지지부(20)를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019960026076A
公开(公告)日：1996-07-20
申请号：KR1019940033475
申请日：1994-12-09
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 반도체 노광장비인 웨이퍼 스테퍼의 웨이퍼 정렬방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 레이저 광원으로는 He-Ne 레이저 대신에 자기장에 의한 에너지 띄의 미세분리 효과를 이용한 제만(Zeeman) 레이저로서 두 광파가 수 MHz의 상이한 주파수 차를가지며 두 광파의 편광이 항상 수직을 유지하는 제만 주파수 안정화 레이저를 사용하여 정렬광의 위상과 레이저 기준신호의 위상을 비교함으로써 수십 KHz의 상이한 주파수 차를 가지는 두 광파로 분리하기 위해서 광-음향 변조기(acousto-optic modulator)를 사용해야 하는 종래의 He-Ne 레이저에 비해 비교적 간단한 광학계로 빠른 정렬과 높은 정렬 정밀도를달성할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019960026075A
公开(公告)日：1996-07-20
申请号：KR1019940033474
申请日：1994-12-09
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 웨이퍼 스탭퍼에 있어서 반도체 미세회로 패턴을 지닌 마스크 패턴이 옮겨질 웨이퍼 사이를 정렬하는 정렬장치 및 그 방법에 관한 것으로 웨이퍼를 바로 노광위치에서 정렬을 수행하고 노광을 하며 또는 노광을 수행하는 동안에도 웨이퍼 정렬을 수행할 수 있으며 정렬광을 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법으로써 off-axis 정렬 방식에서 웨이퍼 스테이지 base-line 오차가 근본적으로 발생하지 않도록 하는 웨이퍼 스탭퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR100388490B1
公开(公告)日：2003-06-25
申请号：KR1019990022660
申请日：1999-06-17
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: An off-axial aperture with a fly's eye lens and a fabricating method thereof are provided to pass a larger quantity of light through the off-axial aperture, thereby increasing a throughput and facilely fabricating the aperture. CONSTITUTION: The device comprises a light shielding area formed at a center portion; a light penetrating area formed around the light shielding area and comprised of a fly's eye lens. The aperture further comprises a partial light penetrating area formed at a portion except the light shielding area and the light penetrating area and having a lower permeability than that of the light penetrating area. In the aperture, the light penetrating area formed into a quadruple, hexapole or annular type. A method of fabricating the off-axial aperture comprises the steps of: forming a light shielding pattern on an entire surface of a transparent substrate(100); forming the first resist pattern having a curved surface at a fly's eye lens area of the substrate; and performing an etching process to form the fly's eye lens on the substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种具有蝇眼透镜的离轴孔径及其制造方法，以使较大量的光通过离轴孔径，从而增加产量并便于制造孔径。 构成：该装置包括形成在中心部分的遮光区域; 在遮光区域周围形成的由蝇眼透镜构成的透光区域。 该孔还包括形成在除遮光区域和透光区域之外的部分处并且具有比透光区域的导磁率低的导磁率的部分光穿透区域。 在光圈中，透光区域形成四极，六极或环形类型。 一种制造离轴孔径的方法包括以下步骤：在透明基板（100）的整个表面上形成光屏蔽图案; 在基板的蝇眼透镜区域形成具有曲面的第一抗蚀剂图案; 并执行蚀刻工艺以在基板上形成蝇眼透镜。
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公开(公告)号：KR100293910B1
公开(公告)日：2001-06-15
申请号：KR1019990013748
申请日：1999-04-19
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G03F7/20
Abstract: 1.청구범위에기재된발명이속한기술분야엑시머레이저를광원으로사용하는반도체노광장비용광학계에있어, 초점심도를확장한광학계구성에관한것으로, 본발명은광원인 ArF 엑시머레이저와조명광학계후단에제 1 렌즈군, 반사경(folding mirror), 제 2 렌즈군, 편광광 분할기, 1/4 파장평판 ,구면반사경, 제 3 렌즈군으로구성된광학계에복굴절물질로제작된광학부품을내장한다. 복굴절물질로광학부품을제작하여광학계를구성하는광학부품으로서광학계내에설치하면입사한빛의편광방향에따라서굴절률에차이가나타나게되어빛이지나가게되는경로가달라지게되고, 그결과광학계의광축방향을따라상을맺는위치가달라지게되어일정한범위에서연속적으로상을맺게함으로써원하는해상도의상을얻을수 초점심도를확장시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR100270583B1
公开(公告)日：2000-12-01
申请号：KR1019980021700
申请日：1998-06-11
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 미세패턴 형성장비의 반사굴절 광학계에 사용되는 편극 영향 제거판에 관한 것이다.
종래의 경우에는 웨이퍼면에 도달하는 빛의 선편광된 편극을 없애주기 위하여 이상 광선과 정상 광선 사이의 위상차를 90도 발생시켜 원편광을 만들어주는 1/4 파장판을 사용하거나, 원하는 방향의 편극을 만들어 주기 위하여 위상을 180도 발생시키는 1/2 파장판을 사용하였다. 그런데, 이러한 파장판은 사용 파장과 물질의 굴절률에 의해서 결정되는 두께로 정확히 가공해야 하므로 제작이 어렵다. 또한, 파장판의 가공을 쉽게 하기 위해서 차수를 높이면 두께가 두꺼워져서 입사각이 커지면 효율이 떨어지는 단점이 있다.
본 발명에서는 편극 영향 제거판을 통과하면 입사각에 따른 편극이 제각기 달라져 불규칙하게 되는 것을 이용하여 프리즘과 상면(웨이퍼) 사이에 편극 영향 제거판을 위치시켜 선편광된 광의 편극 영향을 제거하므로써 패턴의 모양에 따른 선폭 변화가 없도록 할 수 있다.
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