Abstract:
본 발명은 전극 내 서로 연결된 상태의 전극활물질 입자들 사이에 형성된 기공 구조(pore structure)를 그대로 유지하면서, 전극활물질 입자 표면상에 가교 고분자(cross-linking polymer) 코팅층이 형성된 것이 특징인 전극 및 이의 제조방법, 상기 전극을 포함하는 전기 화학 소자를 제공한다. 본 발명에 따른 전극은 전극 내 전극활물질 입자 표면에 형성된 가교 고분자 코팅층으로 인해, 전지의 안전성이 향상됨과 동시에 전지의 성능 저하가 최소화될 수 있다. 가교 고분자, 안전성, 성능, 전기 화학 소자, 리튬 이차 전지
Abstract:
Provided are a method for forming a pattern of self-assembling monomolecular layer by using a printing technique, and a method for forming a pattern comprising dipping the pattern of self-assembling monomolecular layer into polymer solution capable of ion bonding, and forming a multilayered thin film by self-assembling mode. The method for forming a patterned substrate comprises the steps of (i) printing a compound of formula(1), X-(CH2)n-Y, on substrate by using inkjet, roll, or microcontact printing method, so as to form a pattern of monomolecular layer, and (ii) dipping the substrate into polymer solution reacting with the monomolecular layer to form a high molecular layer, and using the polymer layer as etching resist. In the formula(1), n is an integer of 2-20, X is thiol(-SH), imidazole or silyl group, Y is a functional group capable of ion bonding, and R is ethoxy or methoxy. The method for patterning a substrate comprises the steps of (a) forming a polymer film by the method as the above, (b) treating the film with heat and reacting the polymers with each other, so as to improve thermal and physical stability of the film.
Abstract:
본 발명은 환형 실록산계 화합물과 이 화합물을 가교제로 함유하는 고체 고분자 전해질 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 환형 실록산 화합물에 폴리알킬렌옥시드아크릴기가 도입되어 있는 신규 구조의 환형 실록산계 화합물과, 상기 환형 실록산계 화합물을 가교제로 함유하고 여기에 다른 전해질 구성성분인 가소제, 리튬염 및 경화형 개시제를 함유시켜 상온에서의 이온 전도도와 전기화학적 안정성이 개선된 전해질 박막, 소형 및 대용량 리튬-폴리머 이차전지의 고분자 전해질 등으로 적용할 수 있을 뿐만 아니라 상기 환형실록산계 가교제 내의 폴리알킬렌옥시드 길이 조절에 따라 제조된 고분자 전해질의 물성을 용이하게 조절할 수 있는 고체 고분자 전해질 조성물에 관한 것이다. 환형 실록산, 가교제, 폴리알킬렌옥시드아크릴기, 이온 전도도, 고체 고분자 전해질
Abstract:
본 발명은 다이메틸실록산기가 균일하게 분산된 형태의 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 메틸트리알콕시실란(T 구조형)과 다이메틸다이클로로실란(D 구조형)을 몰비로 2 : 1 혼합한 용액을 열처리하여 두 물질이 서로 TDT 형으로 결합된 형태의 전구체를 얻은 후, THF와 톨루엔의 혼합용매를 사용하여 졸-겔 반응시키고 암모니아수로 중화함으로써, 다이메틸실록산 분자가 메틸실록산 골격에 분자 수준으로 제어된 방법으로 균일하게 분산된 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 분자자기조립(Molecular Self-Assembled)법이나 랭무어-블로짓 (Langmuir-Blodgett)법 등으로 형성한 단분자 박막(monolayer)을 전자 활성층(electroactive layer)으로 이용하는 분자 전자 소자(molecular electronics devices)에 관한 것으로, 금속-분자-금속이 수직 구조를 이루며 어레이(array) 형태로 구현이 가능한 분자 전자 소자 및 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 기존의 방법으로 제작하기 어려운 어레이 형태의 소자를 용이하게 제조할 수 있도록 하며, 랭무어-블로짓(LB) 박막과 자기조립 박막 모두에 적용이 가능하다. 상, 하부 전극 사이에 소정의 기능기를 갖는 단분자 박막이 삽입된 분자 전자 소자는 분자의 특성에 따라 분자 다이오드, 분자 스위치, 분자 트랜지스터 등으로 작동될 수 있으며, 고집적 메모리 소자 및 논리 소자에도 적용이 가능하다. 또한, 얇은 박막과 유기물의 특징을 이용하면 유연한 전자 회로 소자(flexible electronic device)에도 적용이 가능하다.
Abstract:
PURPOSE: A novel compound containing a bis diacetylene group, an organic thin film using the compound and its preparation method are provided, to improve the uniformity of thickness and the heat stability of an organic thin film. CONSTITUTION: The compound containing a bis diacetylene group is represented by the formula 1, wherein R1 is H or a linear or branched alkyl group of C1-C12; and R2 is a single bond directly bonded to R or -Ph-, -Ph-C(=O)O- or -Ph-O-C(=O)-. The organic thin film is prepared by evaporation depositing the compound of the formula 1 on a substrate in vacuum and irradiating a UV ray to the deposited one. Preferably the pattern is formed on the organic thin film by using a mask in the irradiation of a UV ray.
Abstract:
PURPOSE: Provided is an aqueous cleaner composition for liquid crystal display panel, which effectively washes a residual liquid crystal and other soils attached on surface of liquid crystal panel, and minimizes corrosion of metal pad part and environmental pollution. CONSTITUTION: The composition is prepared by mixing 10-60 wt% of mixture of nonionic surfactant which consists of an aromatic alcohol of formula 1(wherein R1 represents hydrogen atom, alkyl group having C1-C12, or alkenyl group having C2-C12, R2 represents hydrogen atom, methyl group, formyl group or acetyl group, AO represents oxyethylene group or oxypropylene group, m is an integer of 0-2, n is an integer of 1-10, provided that n of AO may be same or different with each other), and an alkylene oxide appended to the aromatic alcohol, and nonionic surfactant which consists of a hydrocarbon alcohol(in which total carbon atom of terminal alkyl group of formula 2: R3-O-(AO)p-R4 is 8-18) and an alkylene oxide appended to the hydrocarbon alcohol; 2-50 wt% of short chain glycolether based solvent(in which total carbon atom of the terminal alkyl group of formula 3: R5-O-(AO)p-A6 is 1-5); 0.1-10 wt% of paraffinic and/or olefinic hydrocarbon organic solvent; 0.01-2 wt% of a foaming agent and anti-corrosion agent; and 5-70 wt% of purified water. In the formula 2 and formula 3, R3 represents alkyl group having C8-C18, alkenyl group having C8-C18, or alkylphenyl group having C14-C24, R4 represents hydrogen atom, methyl group, formyl group or acetyl group, AO is same as the above, p is an integer of 1-20, provided that p of AO may be same or different with each other, R6 represents alkyl group having C1-C6, alkenyl group having C2-C6, or acyl group having C1-C6, R5 represents alkyl group having C1-C6, alkenyl group having C2-C6, q is an integer of 1-4, and q of AO may be same or different with each other.
Abstract:
PURPOSE: Provided is a polymethylsilsesquioxane(PMSSQ) copolymer containing uniformly dispersed dimethylsiloxane, which is excellent in heat-resistance and flexibility and used as a base material of an insulating film in terms for a semiconductor. CONSTITUTION: The PMSSQ copolymer is produced by a process comprising the steps of: preparing a ligand-exchanged alkoxysilane compound by heat-treating a mixture solution comprising methyltrialkoxy silane and dimethyl dialkoxy silane in the molar ratio of 0.95:0.05-0.70:0.30 at a temperature of 70-150deg.C; sol-gel reacting the ligand exchanged alkoxysilane compound in an organic solvent comprising tetrahydrofuran and toluene at 0-60deg.C by using water and an acid; and adding ammonia water solution to the solution to neutralize the solution. The each unit of the dimethylsiloxane is dispersion-bonded to the skeleton of methylsiloxane.