인쇄법을 이용한 금속 기판의 패턴 형성 방법
    22.
    发明授权
    인쇄법을 이용한 금속 기판의 패턴 형성 방법 有权
    인쇄을을이용소판의패턴형성방법

    公开(公告)号:KR100653959B1

    公开(公告)日:2006-12-05

    申请号:KR1020050117736

    申请日:2005-12-05

    Abstract: Provided are a method for forming a pattern of self-assembling monomolecular layer by using a printing technique, and a method for forming a pattern comprising dipping the pattern of self-assembling monomolecular layer into polymer solution capable of ion bonding, and forming a multilayered thin film by self-assembling mode. The method for forming a patterned substrate comprises the steps of (i) printing a compound of formula(1), X-(CH2)n-Y, on substrate by using inkjet, roll, or microcontact printing method, so as to form a pattern of monomolecular layer, and (ii) dipping the substrate into polymer solution reacting with the monomolecular layer to form a high molecular layer, and using the polymer layer as etching resist. In the formula(1), n is an integer of 2-20, X is thiol(-SH), imidazole or silyl group, Y is a functional group capable of ion bonding, and R is ethoxy or methoxy. The method for patterning a substrate comprises the steps of (a) forming a polymer film by the method as the above, (b) treating the film with heat and reacting the polymers with each other, so as to improve thermal and physical stability of the film.

    Abstract translation: 本发明提供一种使用印刷技术形成自组装单分子层图案的方法和形成图案的方法,该方法包括将自组装单分子层图案浸入能够离子键合的聚合物溶液中,并形成多层薄膜 电影采用自组装模式。 形成图案化衬底的方法包括以下步骤:(i)通过使用喷墨,辊式或微接触印刷方法在衬底上印刷式(1)的化合物X-(CH 2)n -Y,从而形成 (ii)将基板浸入与单分子层反应的聚合物溶液中以形成高分子层,并且使用该聚合物层作为抗蚀剂。 在式(1)中,n是2-20的整数,X是硫醇(-SH),咪唑或甲硅烷基,Y是能够离子键合的官能团,并且R是乙氧基或甲氧基。 用于图案化基板的方法包括以下步骤:(a)通过如上所述的方法形成聚合物膜,(b)用热处理膜并使聚合物彼此反应,以改善聚合物膜的热和物理稳定性 电影。

    환형 실록산계 화합물과 이 화합물을 가교제로 함유하는고체 고분자 전해질 조성물
    23.
    发明公开
    환형 실록산계 화합물과 이 화합물을 가교제로 함유하는고체 고분자 전해질 조성물 有权
    环状硅氧烷化合物和含有它的固体聚合物电解质复合材料

    公开(公告)号:KR1020060102414A

    公开(公告)日:2006-09-27

    申请号:KR1020050024250

    申请日:2005-03-23

    CPC classification number: C07F7/21

    Abstract: 본 발명은 환형 실록산계 화합물과 이 화합물을 가교제로 함유하는 고체 고분자 전해질 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 환형 실록산 화합물에 폴리알킬렌옥시드아크릴기가 도입되어 있는 신규 구조의 환형 실록산계 화합물과, 상기 환형 실록산계 화합물을 가교제로 함유하고 여기에 다른 전해질 구성성분인 가소제, 리튬염 및 경화형 개시제를 함유시켜 상온에서의 이온 전도도와 전기화학적 안정성이 개선된 전해질 박막, 소형 및 대용량 리튬-폴리머 이차전지의 고분자 전해질 등으로 적용할 수 있을 뿐만 아니라 상기 환형실록산계 가교제 내의 폴리알킬렌옥시드 길이 조절에 따라 제조된 고분자 전해질의 물성을 용이하게 조절할 수 있는 고체 고분자 전해질 조성물에 관한 것이다.
    환형 실록산, 가교제, 폴리알킬렌옥시드아크릴기, 이온 전도도, 고체 고분자 전해질

    다이메틸실록산기가 균일하게 도입된폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법
    24.
    发明授权
    다이메틸실록산기가 균일하게 도입된폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법 失效
    聚甲基倍半硅氧烷 - 二甲基硅氧烷共聚物的制备方法

    公开(公告)号:KR100516205B1

    公开(公告)日:2005-09-23

    申请号:KR1020020034837

    申请日:2002-06-21

    Abstract: 본 발명은 다이메틸실록산기가 균일하게 분산된 형태의 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 메틸트리알콕시실란(T 구조형)과 다이메틸다이클로로실란(D 구조형)을 몰비로 2 : 1 혼합한 용액을 열처리하여 두 물질이 서로 TDT 형으로 결합된 형태의 전구체를 얻은 후, THF와 톨루엔의 혼합용매를 사용하여 졸-겔 반응시키고 암모니아수로 중화함으로써, 다이메틸실록산 분자가 메틸실록산 골격에 분자 수준으로 제어된 방법으로 균일하게 분산된 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것이다.

    어레이 구조의 분자 전자 소자 및 그 제조 방법
    25.
    发明授权
    어레이 구조의 분자 전자 소자 및 그 제조 방법 失效
    阵列型分子电子器件及其制造方法

    公开(公告)号:KR100495866B1

    公开(公告)日:2005-06-16

    申请号:KR1020030057136

    申请日:2003-08-19

    Abstract: 본 발명은 분자자기조립(Molecular Self-Assembled)법이나 랭무어-블로짓 (Langmuir-Blodgett)법 등으로 형성한 단분자 박막(monolayer)을 전자 활성층(electroactive layer)으로 이용하는 분자 전자 소자(molecular electronics devices)에 관한 것으로, 금속-분자-금속이 수직 구조를 이루며 어레이(array) 형태로 구현이 가능한 분자 전자 소자 및 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 기존의 방법으로 제작하기 어려운 어레이 형태의 소자를 용이하게 제조할 수 있도록 하며, 랭무어-블로짓(LB) 박막과 자기조립 박막 모두에 적용이 가능하다. 상, 하부 전극 사이에 소정의 기능기를 갖는 단분자 박막이 삽입된 분자 전자 소자는 분자의 특성에 따라 분자 다이오드, 분자 스위치, 분자 트랜지스터 등으로 작동될 수 있으며, 고집적 메모리 소자 및 논리 소자에도 적용이 가능하다. 또한, 얇은 박막과 유기물의 특징을 이용하면 유연한 전자 회로 소자(flexible electronic device)에도 적용이 가능하다.

    비스다이아세틸렌기를 포함하는 신규 화합물, 이 화합물을이용한 유기박막과 박막의 제조방법
    26.
    发明授权
    비스다이아세틸렌기를 포함하는 신규 화합물, 이 화합물을이용한 유기박막과 박막의 제조방법 失效
    비스다이아세틸렌기를포함하는신규화합물,이화합물을이용한유기박막과박막의의제조방법

    公开(公告)号:KR100464064B1

    公开(公告)日:2005-01-03

    申请号:KR1020020020930

    申请日:2002-04-17

    Abstract: PURPOSE: A novel compound containing a bis diacetylene group, an organic thin film using the compound and its preparation method are provided, to improve the uniformity of thickness and the heat stability of an organic thin film. CONSTITUTION: The compound containing a bis diacetylene group is represented by the formula 1, wherein R1 is H or a linear or branched alkyl group of C1-C12; and R2 is a single bond directly bonded to R or -Ph-, -Ph-C(=O)O- or -Ph-O-C(=O)-. The organic thin film is prepared by evaporation depositing the compound of the formula 1 on a substrate in vacuum and irradiating a UV ray to the deposited one. Preferably the pattern is formed on the organic thin film by using a mask in the irradiation of a UV ray.

    Abstract translation: 目的:提供含有双丁炔基的新型化合物,使用该化合物的有机薄膜及其制备方法,以改善有机薄膜的厚度均匀性和热稳定性。 构成:含有双联乙炔基团的化合物由式1表示,其中R1是H或C1-C12的直链或支链烷基; 并且R 2是直接与R或-Ph - , - Ph-C(= O)O-或-Ph-O-C(= O) - 键合的单键。 有机薄膜通过在真空中将式1的化合物蒸发沉积在基板上并且向沉积的基板照射紫外线来制备。 优选通过在紫外线照射下使用掩模在有机薄膜上形成图案。

    액정디스플레이 패널용 수계 세정제 조성물
    27.
    发明公开
    액정디스플레이 패널용 수계 세정제 조성물 有权
    用于液晶显示面板的水性清洁剂组合物

    公开(公告)号:KR1020020066756A

    公开(公告)日:2002-08-21

    申请号:KR1020010007096

    申请日:2001-02-13

    Abstract: PURPOSE: Provided is an aqueous cleaner composition for liquid crystal display panel, which effectively washes a residual liquid crystal and other soils attached on surface of liquid crystal panel, and minimizes corrosion of metal pad part and environmental pollution. CONSTITUTION: The composition is prepared by mixing 10-60 wt% of mixture of nonionic surfactant which consists of an aromatic alcohol of formula 1(wherein R1 represents hydrogen atom, alkyl group having C1-C12, or alkenyl group having C2-C12, R2 represents hydrogen atom, methyl group, formyl group or acetyl group, AO represents oxyethylene group or oxypropylene group, m is an integer of 0-2, n is an integer of 1-10, provided that n of AO may be same or different with each other), and an alkylene oxide appended to the aromatic alcohol, and nonionic surfactant which consists of a hydrocarbon alcohol(in which total carbon atom of terminal alkyl group of formula 2: R3-O-(AO)p-R4 is 8-18) and an alkylene oxide appended to the hydrocarbon alcohol; 2-50 wt% of short chain glycolether based solvent(in which total carbon atom of the terminal alkyl group of formula 3: R5-O-(AO)p-A6 is 1-5); 0.1-10 wt% of paraffinic and/or olefinic hydrocarbon organic solvent; 0.01-2 wt% of a foaming agent and anti-corrosion agent; and 5-70 wt% of purified water. In the formula 2 and formula 3, R3 represents alkyl group having C8-C18, alkenyl group having C8-C18, or alkylphenyl group having C14-C24, R4 represents hydrogen atom, methyl group, formyl group or acetyl group, AO is same as the above, p is an integer of 1-20, provided that p of AO may be same or different with each other, R6 represents alkyl group having C1-C6, alkenyl group having C2-C6, or acyl group having C1-C6, R5 represents alkyl group having C1-C6, alkenyl group having C2-C6, q is an integer of 1-4, and q of AO may be same or different with each other.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于液晶显示面板的水性清洁剂组合物,其有效地洗涤残留液晶和附着在液晶面板表面上的其它污垢,并且最小化金属垫部件的腐蚀和环境污染。 组成:通过混合10-60重量%的由式1的芳族醇(其中R 1表示氢原子,具有C 1 -C 12的烷基或具有C 2 -C 12的链烯基,或具有C 2 -C 12的链烯基)组成的非离子表面活性剂的混合物 表示氢原子,甲基,甲酰基或乙酰基,AO表示氧化乙烯基或氧丙烯基,m表示0-2的整数,n表示1-10的整数,条件是AO的n可以相同或不同, 和芳族醇附着的烯化氧,以及由烃醇(其中式2的末端烷基的总碳原子:R3-O-(AO)p-R4)为8- 18)和附着在烃醇上的环氧烷烃; 2-50重量%的短链糖基醚溶剂(其中式3的末端烷基的总碳原子为:R5-O-(AO)p-A6为1-5); 0.1-10重量%的链烷烃和/或烯烃有机溶剂; 0.01-2重量%的发泡剂和防腐剂; 和5-70重量%的纯化水。 在式2和式3中,R 3表示具有C 8 -C 18的烷基,具有C 8 -C 18的链烯基或C 14 -C 24的烷基苯基,R 4表示氢原子,甲基,甲酰基或乙酰基,AO与 以上,p为1-20的整数,条件是AO的p彼此可以相同或不同,R6表示具有C1-C6烷基,C2-C6烯基或C1-C6酰基, R 5表示具有C 1 -C 6的烷基,具有C 2 -C 6的链烯基,q表示1〜4的整数,A 0的q可以相同也可以不同。

    열가교형 폴리실록산 전해질 조성물 및 이를 이용한 고체 고분자 전해질 박막의 제조방법
    28.
    发明授权
    열가교형 폴리실록산 전해질 조성물 및 이를 이용한 고체 고분자 전해질 박막의 제조방법 失效
    热可交联聚硅氧烷电解质组合物及其制备固体聚合物电解膜的方法

    公开(公告)号:KR100344910B1

    公开(公告)日:2002-07-19

    申请号:KR1019990044522

    申请日:1999-10-14

    Abstract: 본발명은에틸렌글리콜올리고머를포함하는 3개의반응성기를갖는새로운가교제, 폴리알킬렌옥시드기가도입된폴리하이드로메틸실록산, 리튬염, 폴리알킬렌글리콜디알킬에테르및 백금촉매를포함하는가교형폴리실록산전해질조성물; 및이로부터제조되는망상구조를갖는고체고분자전해질박막에관한것이다. 본발명에의해제조된고체고분자전해질조성물은제막성및 전기화학적안정성이우수하고상온에서의이온전도도가최고 5.6 x 10S/cm 정도이다.

    균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법
    30.
    发明公开
    균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법 失效
    生产含有均匀二甲基硅氧烷的聚异丁烯共聚物的方法

    公开(公告)号:KR1020020009018A

    公开(公告)日:2002-02-01

    申请号:KR1020000042165

    申请日:2000-07-22

    Abstract: PURPOSE: Provided is a polymethylsilsesquioxane(PMSSQ) copolymer containing uniformly dispersed dimethylsiloxane, which is excellent in heat-resistance and flexibility and used as a base material of an insulating film in terms for a semiconductor. CONSTITUTION: The PMSSQ copolymer is produced by a process comprising the steps of: preparing a ligand-exchanged alkoxysilane compound by heat-treating a mixture solution comprising methyltrialkoxy silane and dimethyl dialkoxy silane in the molar ratio of 0.95:0.05-0.70:0.30 at a temperature of 70-150deg.C; sol-gel reacting the ligand exchanged alkoxysilane compound in an organic solvent comprising tetrahydrofuran and toluene at 0-60deg.C by using water and an acid; and adding ammonia water solution to the solution to neutralize the solution. The each unit of the dimethylsiloxane is dispersion-bonded to the skeleton of methylsiloxane.

    Abstract translation: 目的:提供含有均匀分散的二甲基硅氧烷的聚甲基倍半硅氧烷(PMSSQ)共聚物,其耐热性和柔韧性优异,并用作半导体用绝缘膜的基材。 构成:PMSSQ共聚物通过包括以下步骤的方法生产:包括以下步骤制备配体交换的烷氧基硅烷化合物:通过热处理包含甲基三烷氧基硅烷和二甲基二烷氧基硅烷的混合溶液,摩尔比为0.95:0.05-0.70:0.30 温度70-150℃; 溶胶 - 凝胶使配合物交换的烷氧基硅烷化合物在含有四氢呋喃和甲苯的有机溶剂中在0-60℃下通过使用水和酸反应; 并向溶液中加入氨水溶液中和溶液。 二甲基硅氧烷的每个单元分散结合到甲基硅氧烷的骨架上。

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