中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

66 records (took 0.022 seconds)

    ＴｉＡｇＮ 코팅층, 코팅방법 및 코팅장비
    23.
    发明公开
    ＴｉＡｇＮ 코팅층, 코팅방법 및 코팅장비 无效
    TIAGN涂层，TIAGN涂层方法和TIAGN涂层设备

    公开(公告)号：KR1020140077354A

    公开(公告)日：2014-06-24

    申请号：KR1020120146054

    申请日：2012-12-14

    Applicant: 현대자동차주식회사

    Inventor： 홍웅표 ,  여인웅 ,  강혁 ,  최광훈

    IPC: C23C14/06 ,  C23C14/22

    CPC classification number: C23C14/0641 ,  C01B21/0602 ,  C01B21/0761 ,  H01J37/32082

    Abstract: Introduced in the present invention are a TiAgN coating layer, a TiAgN coating method, and a TiAgN coating apparatus. The TiAgN coating layer is coated applied onto a base material having a surface roughness of 0.05-0.1 um by a plasma coating method, and is formed by periodically applying and stopping an Ag source under the state of maintaining nitrogen atmospheric gas and applying a Ti source. In the coating step, the Ti source and the Ag source are arranged to face each other across the base material. A jig for fixating the base material is coated while rotating in a velocity of 20-50 rpm. Moreover, in the coating step, the Ag source is applied and stopped in a period of 30-240 seconds.

    Abstract translation: 在本发明中引入了TiAgN涂层，TiAgN涂覆法和TiAgN涂覆装置。 通过等离子体涂覆法将TiAgN涂层涂布在表面粗糙度为0.05〜0.1μm的基材上，并且在保持氮气气氛的状态下周期性地施加和停止Ag源而形成，并施加Ti源 。 在涂布步骤中，Ti源和Ag源布置成跨越基底材料彼此面对。 用于固定基材的夹具以20-50rpm的速度旋转涂覆。 此外，在涂布步骤中，Ag源在30-240秒的时间内施加和停止。

    코팅층 표면 처리 방법
    24.
    发明授权
    코팅층 표면 처리 방법 有权
    涂层表面处理方法

    公开(公告)号：KR101382997B1

    公开(公告)日：2014-04-08

    申请号：KR1020120013022

    申请日：2012-02-08

    Applicant: 현대자동차주식회사

    Inventor： 최광훈 ,  여인웅 ,  홍웅표 ,  강혁

    IPC: C23C14/22 ,  C23C14/24 ,  C03C15/00

    CPC classification number: C23C14/0641 ,  C23C14/024

    Abstract: 본 발명은 코팅층 형성 공정상 공정 압력을 조절하여 표면 모폴로지 미세화 및 Ag 함량을 증가시켜 고온에서 표면 특성(저마찰 및 내마모 특성)을 향상시킬 수 있는 코팅층 표면 처리 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
    상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 코팅층 표면 처리 방법은 피코팅재를 챔버 내에서 가열하는 히팅 단계; 상기 가열된 피코팅재의 표면에서 이물질을 제거하는 클리닝 단계; 상기 피코팅재의 표면에 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 버퍼층 위에 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지며, 상기 코팅층 형성 시 공정 압력을 조절하여 고온에서 표면 특성을 향상시킬 수 있도록 된 것을 특징으로 한다.

    저마찰 코팅층 형성방법
    25.
    发明公开
    저마찰 코팅층 형성방법 有权
    低摩擦生产涂层的方法

    公开(公告)号：KR1020130058323A

    公开(公告)日：2013-06-04

    申请号：KR1020110124270

    申请日：2011-11-25

    Applicant: 현대자동차주식회사

    Inventor： 여인웅 ,  홍웅표 ,  최광훈 ,  강혁

    IPC: C23C14/34

    CPC classification number: C23C14/0641 ,  C23C14/325 ,  C23C14/3492 ,  C23C14/58 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3497 ,  Y10T428/24372

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a low friction coating layer is provided to improve low frictional properties by forming Ag particles on an existing coating layer with controlling bias voltage and sputter power. CONSTITUTION: A method for forming a low frication coating layer comprises a coating step, a fraction increasing step, and a nanoparticle forming step. In the coating step, TiAgN coating layer is formed on the surface of a basic material using Ti arc sources and Ag sputtering sources. In the fraction increasing step, Ag fraction on the surface increases by boosting sputtering power and bias voltage for a certain period of time. In the nanoparticle forming step, Ag nanoparticles are formed on the surface by being maintained in a temperature rise section for a certain period of time. [Reference numerals] (AA) Gas (N); (BB) Arc ion source (Ti); (CC) Sputter ion source (Ag)

    Abstract translation: 目的：提供一种形成低摩擦涂层的方法，以通过在具有控制偏压和溅射功率的现有涂层上形成Ag颗粒来改善低摩擦性能。 构成：形成低烧结涂层的方法包括涂布步骤，级分增加步骤和纳米颗粒形成步骤。 在涂覆步骤中，使用Ti电弧源和Ag溅射源在基材表面上形成TiAgN涂层。 在分数增加步骤中，表面上的Ag分数通过在一定时间段内提高溅射功率和偏压而增加。 在纳米颗粒形成步骤中，通过在温度上升部分保持一定时间而在表面上形成Ag纳米颗粒。 （附图标记）（AA）气体（N）; （BB）电弧离子源（Ti）; （CC）溅射离子源（Ag）

    연료전지용 분리판의 코팅 방법 및 연료전지용 분리판
    29.
    发明授权
    연료전지용 분리판의 코팅 방법 및 연료전지용 분리판 有权
    燃料电池分离器和燃料电池分离器涂层方法

    公开(公告)号：KR101713718B1

    公开(公告)日：2017-03-08

    申请号：KR1020150025293

    申请日：2015-02-23

    Applicant: 현대자동차주식회사

    Inventor： 최광훈 ,  홍웅표 ,  이치승 ,  박현달 ,  김보경 ,  박정연 ,  여인웅 ,  서지연

    IPC: H01M8/02 ,  C23C16/27 ,  C23C16/34

    CPC classification number: H01M8/0228 ,  C23C16/26 ,  C23C16/34 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/50 ,  C23C28/04 ,  C23C28/042 ,  C23C28/42 ,  H01M8/0206 ,  H01M8/0215 ,  H01M2250/20 ,  Y02T90/32

    Abstract: 본발명의일 실시예에의한연료전지용분리판의코팅방법은질화금속프리커서를기화시켜프리커서가스를제조하는단계; 프리커서가스및 반응성가스를포함하는질화금속코팅층형성가스를반응챔버내로도입시키는단계; 반응챔버에전압을가하여프리커서가스및 반응성가스를플라즈마상태로변화시켜모재상에질화금속코팅층을형성하는단계; 탄소원가스를포함하는탄소층형성가스를반응챔버내로도입시키는단계; 및반응챔버에전압을가하여탄소원가스를플라즈마상태로변화시켜질화금속코팅층상에탄소코팅층을형성하는단계;를포함할수 있다.

    Abstract translation: 根据本公开一种形式的用于燃料电池用隔膜的涂布方法包括以下步骤：使金属氮化物前体蒸发以获得前体气体; 将含有前体气体和反应性气体的金属氮化物涂层形成气体引入反应室; 向反应室施加电压，使得前体气体和反应性气体可以转化为等离子体状态，从而在基板上形成金属氮化物涂层; 将含有碳质气体的碳层形成气体引入所述反应室; 并向反应室施加电压，使碳质气体转化为等离子体状态，从而在金属氮化物涂层上形成碳涂层。

    TiAgMoN 코팅층 형성방법
    30.
    发明授权
    TiAgMoN 코팅층 형성방법 有权
    用于涂覆TiAgMoN层的TiAgMoN方法

    公开(公告)号：KR101583882B1

    公开(公告)日：2016-01-12

    申请号：KR1020130155318

    申请日：2013-12-13

    Applicant: 현대자동차주식회사

    Inventor： 최광훈 ,  김보경 ,  여인웅 ,  서지연 ,  홍웅표 ,  강혁

    IPC: C23C14/24 ,  C23C14/06

    Abstract: Ti소스, Mo소스, Ag소스및 질소, 아르곤분위기가스를이용하여플라즈마코팅하는 TiAgMoN 코팅층형성방법으로서, 코팅챔버를진공처리하는진공단계; 챔버내에아르곤가스를투입하고 Ti소스에전원을인가하여모재의표면에 Ti를충돌시켜클리닝하면서모재의표면에 Ti 버퍼층을형성하는 Ti 버퍼링단계; 챔버내에질소가스를투입하고 Ti소스에전원을인가하여 Ti 버퍼층의표면에 TiN 버퍼층을형성하는 TiN 버퍼링단계; 및챔버내에아르곤가스와질소가스를투입하고 Ti소스, Mo소스및 Ag소스에각각전원을인가하여 TiN 버퍼층의표면에 TiAgMoN 코팅층을형성하되, 코팅층에서 Ag의비율이 20~25 at%가되도록 Ag소스의파워를제어하고, Mo의비율이 10~13 at%가되도록 Mo소스의파워를제어하는코팅단계;를포함하고, 상기 Ti 버퍼링단계는, 모재와 TiN 버퍼층사이의격자상수차이를감소시켜계면간접합강도를향상시키도록 Ti 버퍼층을형성시키고, 상기 TiN 버퍼링단계는, Ti 버퍼층과 TiAgMoN 코팅층사이의격자상수차이를감소시켜계면간접합강도를향상시키도록 TiN 버퍼층을형성하는것을특징으로하는 TiAgMoN 코팅층형성방법이소개된다.

Patent Agency Ranking