Abstract:
Es wird ein Halbleiterbauelement (1) angegeben, mit - einer Mehrzahl von Halbleiterchips (2), die jeweils eine Halbleiterschichtenfolge (200) mit einem zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) aufweisen; - einer Strahlungsaustrittsseite (10), die parallel zu den aktiven Bereichen verläuft; - einer Montageseitenfläche (11), die für die Befestigung des Halbleiterbauelements vorgesehen ist und schräg oder senkrecht zur Strahlungsaustrittsseite verläuft; - einem Formkörper (4), der stellenweise an die Halbleiterchips angeformt ist und zumindest bereichsweise die Montageseitenfläche bildet; und - einer Kontaktstruktur (50), die auf dem Formkörper angeordnet ist und zumindest zwei Halbleiterchips der Mehrzahl von Halbleiterchips elektrisch leitend miteinander verbindet. Weiterhin werden eine Beleuchtungsvorrichtung (9) und ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von Halbleiterbauelementen (1) mit folgenden Schritten angegeben: a) Bereitstellen einer Halbleiterschichtenfolge (2) mit einer ersten Halbleiterschicht (21), einer zweiten Halbleiterschicht (22) und einem zwischen der ersten Halbleiterschicht und der zweiten Halbleiterschicht angeordneten, zur Erzeugung und/oder zum Empfangen von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (25); b) Ausbilden einer ersten Anschlussschicht (31) auf der der ersten Halbleiterschicht abgewandten Seite der zweiten Halbleiterschicht; c) Ausbilden einer Mehrzahl von Aussparungen (29) durch die Halbleiterschichtenfolge hindurch; d) Ausbilden einer Leitungsschicht (4) in den Aussparungen zur Herstellung einer elektrisch leitenden Verbindung zwischen der ersten Halbleiterschicht und der ersten Anschlussschicht; und e) Vereinzeln in die Mehrzahl von Halbleiterbauelementen, wobei aus der Halbleiterschichtenfolge für jedes Halbleiterbauelement ein Halbleiterkörper (20) mit zumindest einer der Mehrzahl von Aussparungen hervorgeht und die zumindest eine Aussparung in Draufsicht auf den Halbleiterkörper vollständig von dem Halbleiterkörper umgeben ist. Weiterhin wird ein Halbleiterbauelement angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (1) angegeben, mit: - einem optoelektronischen Halbleiterchip (2), umfassend - ein Aufwachssubstrat (21) mit einer Aufwachsfläche (21a), - eine auf der Aufwachsfläche (21a) aufgewachsene Schichtenfolge (22) mit einer Halbleiterschichtenfolge (221, 222, 223) mit einer aktiven Zone (222), - Kontaktstellen (29) zur elektrischen Kontaktierung der Halbleiterschichtenfolge (221, 222, 223) und - eine Isolationsschicht (26), die elektrisch isolierend ausgebildet ist - einem Anschlussträger (4), der an der der Aufwachsfläche (21a) abgewandten Deckfläche (2a) des optoelektronischen Halbleiterchips angebracht ist, wobei - die Halbleiterschichtenfolge (221, 222, 223) elektrisch leitend mit dem Anschlussträger (4) verbunden ist und - auf einer der Aufwachsfläche (21a) abgewandten Bodenfläche (21c) des Aufwachssubstrats (21) und allen Seitenflächen (21b) des Aufwachssubstrats (21) eine Konversionsschicht (5) aufgebracht ist.
Abstract:
Es wird ein oberflächenmontierbares optoelektronisches Halbleiterbauteil (100) angegeben. Das oberflächenmontierbare optoelektronische Halbleiterbauteil (100) umfasst einen optoelektronischen Halbleiterchip (10), ein strahlungsdurchlässiges Aufwachssubstrat (1), einen Gehäusekörper (20) und eine elektrisch leitende Verbindung (3), wobei der Gehäusekörper (20) zumindest stellenweise zwischen einer Seitenfläche (11) des Aufwachssubstrats (1) und der elektrisch leitenden Verbindung (3) angeordnet ist, der Gehäusekörper sämtliche Seitenflächen des Aufwachssubstrats vollständig bedeckt und der Gehäusekörper auf einer Fläche (12), die der Seitenfläche des Aufwachssubstrats abgewandt ist, Spuren eines Materialabtrags (13) oder Spuren eines Formwerkzeugs (26) aufweist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (1) angegeben, mit - einem Halbleiterchip (2), der eine Halbleiterschichtenfolge (200) mit einem zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) aufweist; - einer Strahlungsaustrittsfläche (10), die parallel zum aktiven Bereich verläuft; - einer Montageseitenfläche (11), die für die Befestigung des Halbleiterbauelements vorgesehen ist und schräg oder senkrecht zur Strahlungsaustrittsfläche verläuft und an der zumindest eine Kontaktfläche (51) für die externe elektrische Kontaktierung zugänglich ist; - einem Formkörper (4), der stellenweise an den Halbleiterchip angeformt ist und zumindest bereichsweise die Montageseitenfläche bildet; und - einer Kontaktbahn (55), die auf dem Formkörper angeordnet ist und den Halbleiterchip mit der zumindest einen Kontaktfläche elektrisch leitend verbindet. Weiterhin wird ein Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement und ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements, wobei auf einem Aufwachssubstrat eine Schichtstruktur mit einer positiv dotierten Halbleiterschicht (2 oder 3) und einer negativ dotierten Halbleiterschicht (3 oder 2) mit einer aktiven Zone zur Erzeugung von Licht und einer Spiegelschicht (4) aufgewachsen wird, wobei die Schichtstruktur über eine Verbindungsschicht (8) auf einer ersten Seite eines Trägers (10) befestigt wird, und wobei über eine zweite Seite des Trägers (10) elektrische Kontakte für die Schichtstruktur eingebracht werden und das Aufwachssubstrat entfernt wird.
Abstract:
Optoelektronischer Halbleiterchip (100), umfassend - eine Verdrahtungsschicht (3) mit einer ersten elektrisch leitenden Kontaktschicht (21) und einer zweiten elektrisch leitenden Kontaktschicht (22), - einer Isolationsschicht (5), die mit einem elektrisch isolierenden Material gebildet ist, und - zwei optoelektronische Halbleiterkörper (7), wobei jeder der optoelektronischen Halbleiterkörper (7) einen aktiven Bereich (73) umfasst, der zur Strahlungserzeugung vorgesehen ist, wobei - die Isolationsschicht (5) an einer den optoelektronischen Halbleiterkörpern (7) zugewandten Oberseite der zweiten elektrisch leitenden Kontaktschicht (22) angeordnet ist, - die erste elektrisch leitende Kontaktschicht (21) an einer der zweiten elektrisch leitenden Kontaktschicht (22) abgewandten Oberseite der Isolationsschicht (5) angeordnet ist, und - die optoelektronischen Halbleiterkörper (7) durch die Verdrahtungsschicht (3) elektrisch parallel zueinander verschaltet sind.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleitermodul (10) angegeben, das eine Mehrzahl von im Betrieb lichtemittierenden Bereichen (1) umfasst, wobei zumindest zwei aufeinander auftreffende Seitenkanten (11a, 11b) zumindest eines lichtemittierenden Bereichs (1) zueinander in einem Winkel (α) von mehr als 0° und weniger als 90° angeordnet sind. Weiter ist ein Display mit einer Mehrzahl von derartigen Modulen (10) angegeben.
Abstract:
Es wird eine Beleuchtungsvorrichtung angegeben, mit einem Piezo-Transformator (1), der eine Montagefläche (10) aufweist, an der zumindest zwei ausgangseitige Anschlussstellen (11) angeordnet sind, und zumindest einer substratlosen Lumineszenzdiode (2), die zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung eingerichtet ist, wobei die zumindest eine substratlose Lumineszenzdiode (2) zumindest mittelbar auf die Montagefläche (10) aufgebracht und mechanisch an der Montagefläche (10) befestigt ist, und die zumindest eine substratlose Lumineszenzdiode (2) elektrisch an zumindest zwei der ausgangseitigen Anschlussstellen (11) elektrisch leitend angeschlossen ist.
Abstract:
Es wird ein Leuchtdiodenchip angegeben, mit - einem Halbleiterkörper (1), der einen Strahlungserzeugenden aktiven Bereich (13) umfasst, - zumindest zwei Kontaktstellen (2a, 2b) zum elektrischen Kontaktieren des aktiven Bereichs, - einem Träger (3), und - einem Verbindungsmittel (4), das zwischen dem Träger (3) und dem Halbleiterkörper (1) angeordnet ist, wobei - der Halbleiterkörper (1) an seiner dem Träger (3) zugewandten Außenflächen eine Aufrauung (15) aufweist, - der Halbleiterkörper (1) mittels des Verbindungsmittels (4) mechanisch mit dem Träger (3) verbunden ist, - das Verbindungsmittel (4) stellenweise in direktem Kontakt mit dem Halbleiterkörper (1) und dem Träger (3) steht, und - die zumindest zwei Kontaktstellen (2a, 2b) an der dem Träger (3) abgewandten Oberseite des Halbleiterkörpers (1) angeordnet sind.