EUV反射镜和包括EUV反射镜的光学系统

    公开(公告)号:CN104919537B

    公开(公告)日:2018-06-05

    申请号:CN201380070253.X

    申请日:2013-12-06

    Abstract: EUV反射镜包括基板和施加在所述基板上的多层布置,所述多层布置对于具有来自极紫外范围(EUV)的波长λ的辐射有反射效应,并包含具有交替层的多个层对,所述交替层包含高折射率层材料和低折射率层材料。多层布置具有:周期性第一层组(LG1),具有第一数目N1>1的第一层对,所述第一层对布置在所述多层布置的辐射入射侧附近,并具有第一周期厚度P1;周期性第二层组(LG2),具有第二数目N2>1的第二层对,所述第二层对布置在所述第一层组和所述基板之间,并具有第二周期厚度P2;以及第三层组(LG3),具有第三数目N3的第三层对,所述第三层对布置在所述第一层组和所述二层组之间。所述第一数目N1大于所述第二数目N2。所述第三层组具有平均第三周期厚度P3,所述平均第三周期厚度与平均周期厚度PM=(P1+P2)/2偏差周期厚度差ΔP,其中所述周期厚度差ΔP基本上对应于四分之一波层的光学层厚度λ/4与所述第三数目N3和cos(AOIM)之乘积的商,其中,AOIM是设计所述多层布置所针对的平均入射角。

    极紫外集光器
    27.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102385257B

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201110254363.4

    申请日:2011-08-31

    Abstract: 一种收集且传输来自EUV辐射源的辐射的EUV集光器(15)包括:至少一个反射EUV辐射源的发射的集光器反射镜(23),其被关于中轴(24)旋转对称配置;以及冷却该至少一个集光器反射镜(23)的冷却装置(26),其中该冷却装置(26)包括至少一个冷却元件(27),所述冷却元件各自具有关于集光器反射镜(23)的巷道,以使得所述巷道在垂直于中轴(24)的平面内的投影具有主方向,所述主方向和预先确定的优选方向(29)一起包围至多为20°的角度。由集光器(15)传输以用来照明物场的辐射的质量由所述类型的集光器(15)改善。

    用于相位对比成像的X射线探测器

    公开(公告)号:CN101952900B

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN200980105199.1

    申请日:2009-02-09

    CPC classification number: G21K1/06 G21K2201/067 G21K2207/005

    Abstract: 本发明涉及一种X射线探测器(30),其包括敏感元件(Pi-1,b,Pia,Pib,Pi+1,a,Pi+1,b)的阵列和在两个不同的敏感元件前方以不同的相位和/或周期设置的至少两个分析器光栅(G2a,G2b)。优选地,所述敏感元件被组织为例如四个相邻的敏感元件的宏像素(IIi),其中相互具有不同相位的分析器光栅设置在所述敏感元件前面。特别地,将探测器(30)应用于X射线设备(100)以生成相位对比图像,这是由于X射线设备允许对由其在不同位置同时生成的强度图样(I)进行采样。

    使用平面几何结构的光栅设备进行X射线相衬成像和暗场成像的方法

    公开(公告)号:CN102971620A

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201180032532.8

    申请日:2011-04-04

    Abstract: 一种适于记录对象的吸收、相衬和暗场图像的X射线装置。该设备提高了低吸收样本的可见度并且降低了所需的辐射剂量。该设备包括:a)X射线源;b)至少两个光栅构成的光栅组;c)具有空间调制检测灵敏度的位置灵敏检测器(PSD);d)用于记录检测器(PSD)的图像的装置;e)用于估计每个像素的强度以将用于每个单独的像素的对象的特征标识为吸收主导像素和/或差分相位衬度主导像素和/或X射线散射主导像素的装置;f)其中,通过从0到π或2π连续或逐步地旋转样本或相对于样本旋转设备来采集一系列图像;g)其中,根据X射线平行于衬底穿过光栅的新的平面几何结构来制造光栅;h)从而光栅结构沿着X射线路径延伸,X射线路径确定这些光栅结构对X射线造成的相移和衰减,X射线路径不再由结构的厚度给定,而是由光栅结构的长度给定。

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