公开(公告)号：EP1395523B1

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：EP02724011.8

申请日：2002-05-02

Applicant: 3M Innovative Properties Company

Inventor： ANDERSON, Mark T. ,  SCHARDT, Craig R. ,  ONSTOTT, James R. ,  DONALDS, Lawrence J. ,  CHIARELI, Alessandra O.

IPC: C03C3/06 ,  C03C13/04 ,  C03C23/00 ,  C03C25/60 ,  G02B6/22 ,  H01S5/00 ,  C03B37/018

CPC classification number: G02B6/02009 ,  C03B37/01807 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/36 ,  C03B2203/22 ,  C03C3/06 ,  C03C13/046 ,  C03C23/0095 ,  C03C25/104 ,  C03C25/1065 ,  C03C25/608 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/3417 ,  C03C2201/3476 ,  C03C2201/36 ,  C03C2203/52 ,  G02B6/02285 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03633 ,  G02B6/0365 ,  G02B6/03655 ,  G02B6/03694 ,  G02B6/2551 ,  H01S3/06708 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/06729 ,  H01S3/06754

Abstract: An optical article including a core; at least one cladding layer; and a narrow fluorine reservoir between the core and the cladding layer. The fluorine reservoir has a higher concentration of fluorine than either the cladding layer or the core. One particular embodiment includes a core including a halide-doped silicate glass that comprises approximately the following in cation-plus-halide mole percent 0.25-5 mol% Al2O3, 0.05-1.5 mol% La2O3, 0.0005-0.75 mol% Er2O3, 0.5-6 mol% F, 0-1 mol% Cl.

公开(公告)号：EP1043282A4

公开(公告)日：2004-03-31

申请号：EP99951132

申请日：1999-10-28

Applicant: ASAHI GLASS CO LTD

Inventor： IKUTA YOSHIAKI ,  KIKUGAWA SHINYA ,  SHIMODAIRA NORIAKI ,  MASUI AKIO ,  YOSHIZAWA SHUHEI

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/90 ,  Y10S501/905

Abstract: A synthetic quartz glass for optical use which is used through irradiation of rays of light from the ultraviolet region to the vacuum ultraviolet region, characterized in that the quartz glass contains fluorine and has a ratio of the intensity of a scattering peak at 2250 cm (I 2250) to that of a scattering peak at 800 cm (I 800), that is I 2250/I 800, in a laser Raman spectrum of 1 x 10 or less and an absorption coefficient of the light having a wave length of 245 nm of 2 x 10 cm or less.

公开(公告)号：EP1340723A2

公开(公告)日：2003-09-03

申请号：EP03004655.1

申请日：2003-03-03

Applicant: Schott Glas ,  CARL-ZEISS-STIFTUNG trading as SCHOTT GLAS

Inventor： Natura, Ute, Dr. ,  Menzel, Andreas ,  Alkemoer, Jochen, Dr. ,  Martin, Rolf ,  von der Gönna, Gordon, Dr. ,  Schmidt, Matthias ,  Coriand, Frank ,  Schmiady, Thomas ,  Sohr, Oliver, Dr. ,  Voitsch, Andreas

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorform aus synthetischem Quarzglas, geeignet zur Beaufschlagung mit DUV-Strahlung im Wellenlängenbereich unter 250 nm, mit einem Kernbereich, der im wesentlichen frei von Schichtungen ist, dessen OH-Gehalt größer als 900 ppm, dessen CI-Gehalt kleiner als 50 ppm, und dessen H 2 -Verbrauch größer als 0,5 x 10 18 Moleküle/cm 3 ist, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass die DUV-Widerstandfähigkeit durch einen relativen H 2 -Verbrauch gegeben ist, der mit zunehmender Energiedosis in eine Sättigung geht.
Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vorform aus Quarzglas vorgeschlagen, bei dem auf eine rotierende Fläche eine Brennerflamme gerichtet ist, und der Rohstoff SiCl 4 unter Anwesenheit von H 2 und O 2 bei Temperaturen oberhalb 2000° Celsius umgesetzt, zu SiO 2 auf der rotierenden Fläche abgeschieden und sofort glasig aufgeschmolzen wird, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Flamme durch die zentrale Mitteldüse 0,92 bis 1,12 kg/h SiCl 4 bei einer Strömungsgeschwindigkeit von 15 m/s bis 21 m/s zugeführt wird.

Abstract translation: 用于波长低于250nm的深紫外（DUV）的合成石英玻璃预制件，其核心区域不含高于900ppm的OH含量，Cl含量低于50ppm，H 2含量高于0.5×10 18分子/ cm 3 具有通过增加能量剂量达到饱和的相对H 2消耗确定其DUV电阻。 还包括通过火焰水解方法制造预成型件的独立权利要求。

公开(公告)号：EP1327613A1

公开(公告)日：2003-07-16

申请号：EP02027127.6

申请日：2002-12-04

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： Kühn, Bodo ,  Uebbing, Bruno, Dr.

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft einen Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil zur Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer sowie dessen Verwendung für den Einsatz in der Mikrolithographie in Verbindung mit ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer.
Ein derartiger Quarzglasrohling soll eine geringe induzierte Absorption aufweisen und gleichzeitig hinsichtlich Kompaktierung und Dekompaktierung optimiert sein. Der erfindungsgemäße Quarzglasrohling weist folgende Eigenschaften auf:

eine Glasstruktur im wesentlichen ohne Sauerstoffdefektstellen,
einen H 2 -Gehalt im Bereich von 3 x 10 17 Molekülen/cm 3 bis 2,0 x 10 18 Molekülen/cm 3 ,
einen OH-Gehalt im Bereich von 500 Gew-ppm bis 1000 Gew-ppm,
einen Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 2 x 10 17 Moleküle/cm 3
einen Chlorgehalt im Bereich von 60 Gew-ppm bis 120 Gew-ppm,
eine Inhomogenität im Brechungsindex Δn von weniger als 2 ppm und
eine Spannungsdoppelbrechung von weniger als 2 nm/cm.

Für die erfindungsgemäße Verwendung genügt der Quarzglasrohling hinsichtlich des minimalen und maximalen Wasserstoffgehalts C H2min bzw. C H2max , sowie des OH-Gehalts C OH den Bemessungsregeln (2), (3) und (4), wobei P für die Pulszahl und ε für die Energiedichte steht: C H2min [Moleküle/cm 3 ] = 1,0 x 10 8 ε 2 P C H2max [Moleküle/cm 3 ] = 2 x 10 19 ε C OH [Gew-ppm] = 1700 · ε[mJ/cm 2 ] 0,4    ± 50

Abstract translation: 石英玻璃坯料具有无氧缺陷部位的玻璃结构，氢含量为3×1017〜2.0×1018分/厘米3，羟基含量为500〜1000重量％。 ppm，硅氢基团含量小于2×10 17分子/ cm 3，氯含量为60-120wt。 ppm，折射率不均匀度DELTAn小于2ppm，电压双折射小于2nm / cm。 优选的特征：羟基（OH）含量为600-900，优选为750-950wt。 PPM。 氢含量为5×1017〜1.0×1018分子/ cm3。 氯含量为80-100wt。 PPM。

公开(公告)号：EP0917523A1

公开(公告)日：1999-05-26

申请号：EP98928299.0

申请日：1998-05-20

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： OHASHI, Norio ,  KURIYAMA, Michiyo ,  YAMAGATA, Shigeru ,  SUNADA, Shigemasa

IPC: C03B19 ,  C03B23 ,  C03B32 ,  C03C3

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B23/047 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/32 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/52

Abstract: An object of the present invention is to provide a synthetic silica glass optical material which exhibits excellent transmittance as well as durability for high output power vacuum ultraviolet rays, being emitted from, for example, ArF excimer lasers and Xe2 excimer lamps, and to provide a method for producing the same. A synthetic silica glass optical material for high output power vacuum ultraviolet rays made from ultra high purity synthetic silica glass for use in the wavelength region of from 165 to 195 nm, containing OH groups at a concentration of from 5 to 300 wtppm with a fluctuation width in OH group concentration (ΔOH/cm) of 10 wtppm or less, containing hydrogen molecules at a concentration of from 1 x 1017 to 1 x 1019 molecule/cm3 with a fluctuation width in hydrogen molecule concentration (ΔH¿2?/cm) of 1 x 10?17¿ molecule/cm3 or lower, and containing chlorine at a concentration of 50 wtppm or lower. Also claimed is a method for producing the same.

公开(公告)号：EP0762159A3

公开(公告)日：1997-07-02

申请号：EP96113926.8

申请日：1996-08-30

Applicant: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.

Inventor： Onishi, Masashi, Sumitomo Elec. Ind., Ltd. ,  Fukuda, Chie, Sumitomo Elec. Ind., Ltd. ,  Kanamori, Hiroo, Sumitomo Elec. Ind., Ltd.

IPC: G02B6/22 ,  C03B37/027 ,  C03C13/04

CPC classification number: G02B6/02261 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/027 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/222 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/26 ,  C03B2203/36 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/31 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03644 ,  G02B6/03655

Abstract: This invention relates to a dispersion-compensating fiber which can be drawn at a lower temperature and can further reduce optical transmission loss. This dispersion-compensating fiber comprises a core portion containing a high concentration of GeO 2 and a cladding portion formed around the outer periphery of the core portion. The cladding portion comprises a first cladding containing fluorine or the like as an index reducer, a second cladding having a higher refractive index than that of the first cladding, and a third cladding which becomes a glass region substantially noncontributory to propagation of signal light. In particular, the third cladding contains a desired impurity such that the glass viscosity thereof becomes lower than that of the second cladding or pure silica cladding at a predetermined temperature.

公开(公告)号：KR101840066B1

公开(公告)日：2018-05-04

申请号：KR1020137000457

申请日：2011-07-08

Applicant: 헤라우스 쿼츠 유케이 리미티드

Inventor： 코아페스,리차드벤자민 ,  먼디,알렌 ,  세이스,랜조지

IPC: C03B19/14 ,  C01B33/02 ,  C30B29/06

CPC classification number: C03B19/1492 ,  C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/52 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/131

Abstract: 이발명은외경 400 mm이고내경이 300 mm인투명합성유리질실리카글라스를제공하기위한것이다. 잉고트는기포와 100 ㎛이상의협잡물이거의없고불순물이 100 ppB를넘지않으며, 5 ppM 이하의염소농도를갖고있다. 또한본 발명은밀도가 0.4 g/cm이상인수트바디가산화저항성맨드렐에서증착되도록하는방법을제공한다. 수트바디는흑연, 실리콘카바이드, 실리콘카바이드피복실리콘카바이드또는유리질실리카로구성된맨드렐에서진공또는환원가스의존재하에진공또는헬륨분위기에서투명다공성글라스로소성된다.

公开(公告)号：KR101418601B1

公开(公告)日：2014-07-14

申请号：KR1020080052979

申请日：2008-06-05

Applicant: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

Inventor： 마이다,시게루 ,  오쯔까,히사또시

IPC: C03C8/12

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52

Abstract: 본 발명은 0 내지 250 ℃에서의 선 열팽창 계수가 -300 내지 300 ppb/℃의 범위 내이며, 25 ℃에서의 선 열팽창 계수 분포가 100 ppb/℃ 이하인 티타니아 도핑 석영 유리를 사용하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 몰드용 티타니아 도핑 석영 유리를 제공한다.
본 발명에 따르면, 미세 패턴 전사시 몰드의 온도 변화에 의한 변형을 억제할 수 있고, 위치 정밀도가 높은 나노임프린트에 의한 미세 패턴의 전사가 가능해진다.
나노임프린트 몰드, 석영 유리, 티타니아, 선 열팽창 계수, 미세 패턴 전사

公开(公告)号：KR101076491B1

公开(公告)日：2011-10-24

申请号：KR1020060123770

申请日：2006-12-07

Applicant: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

Inventor： 마이다,시게루 ,  야마다,모또유끼

IPC: C03C17/00 ,  C03C17/06

CPC classification number: C03B19/1407 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

Abstract: EUV 리소그래피용포토마스크기판등의 EUV 리소그래피용부재에요구되는높은표면정밀도를부여하는균질성이높은티타니아도핑석영유리를제공할수 있고, 티타니아도핑석영유리를포함하는 EUV 리소그래피용포토마스크기판등의 EUV 리소그래피용부재는평탄도나열팽창특성이우수해진다.

公开(公告)号：KR1020070120083A

公开(公告)日：2007-12-21

申请号：KR1020077004944

申请日：2006-03-30

Applicant: 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 ,  신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤

Inventor： 웨버유르겐 ,  포게토비아스 ,  트로머마틴 ,  쿠엔보도 ,  키르스트울리히 ,  베르덱커발트라우드

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/062 ,  C03C17/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/006 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/54 ,  C30B25/12 ,  C30B31/14 ,  C30B35/00 ,  Y02P40/57

Abstract: An ideal quartz glass for a wafer holder for application in an etching environment is characterised both by high purity and also a high dry etching resistance. According to the invention, such a quartz glass may be achieved, whereby the quartz glass is doped with nitrogen, at least in a region near the surface, has an average content of metastable hydroxy groups of less than 30 wt. ppm, the fictive temperature is less than 1250 °C and the viscosity at a temperature of 1200 °C is at least 1013 dPas. A commercial method for production of such a quartz glass comprises the following method steps: fusion of a SiO2 raw material to give a quartz glass blank, whereby the SiO2 raw material or the quartz glass blank is subjected to a dehydration process, heating of the SiO2 raw material or the quartz glass blank to a nitriding temperature in the range between 1050 °C and 1850 °C under an atmosphere containing ammonia, a temperature treatment, by means of which the quartz glass of the quartz glass blank is brought to a fictive temperature of 1250 °C or less and a surface treatment of the quartz glass blank to give the quartz glass holder.

Abstract translation: 用于在蚀刻环境中应用的晶片保持器的理想石英玻璃的特征在于高纯度和高耐干蚀刻性。 根据本发明，可以实现这种石英玻璃，由此至少在靠近表面的区域中石英玻璃掺杂有氮，其平均羟基含量小于30wt。 ppm，假想温度低于1250℃，1200℃温度下的粘度至少为1013 dPas。 生产这种石英玻璃的商业方法包括以下方法步骤：将SiO 2原料熔化以得到石英玻璃坯料，由此使SiO 2原料或石英玻璃坯料进行脱水处理，加热SiO 2 原料或石英玻璃坯料，在含有氨的气氛下，在1050℃至1850℃的范围内的氮化温度进行温度处理，通过该温度处理将石英玻璃坯料的石英玻璃变为假想温度 为1250℃以下，对石英玻璃坯料进行表面处理，得到石英玻璃支架。