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    成膜控制装置、成膜装置以及成膜方法
    31.
    发明公开
    成膜控制装置、成膜装置以及成膜方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN116419986A

    公开(公告)日：2023-07-11

    申请号：CN202280005853.7

    申请日：2022-02-04

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 大泷芳幸 ,  松平学幸 ,  山口刚 ,  宫内充祐

    IPC: C23C14/54

    Abstract: 成膜控制装置具有：光源(42)，其对配置于旋转体(25)的基板(S)照射光；受光部(46)，对于从所述光源照射的光，该受光部接收透过形成在所述基板上的薄膜的层的透过光或者被形成在所述基板上的薄膜的层反射的反射光；位置信息取得部(48)，其取得与所述旋转体的圆周方向的位置对应的位置信息；以及控制部(4)，其对成膜条件进行控制，所述控制部包含：时机控制部，其根据由所述位置信息取得部取得的所述旋转体的圆周方向的位置信息来确定作为目标的基板的位置，对接收从所述光源向该确定的位置的基板照射的光的透过光或者反射光的时机进行控制；膜厚判定部，其根据由所述受光部接收到的透过光或者反射光，计算由多个层构成的薄膜的各层的膜厚，判定所述各层的膜厚与构成具有期望的分光特性的薄膜的各层的目标膜厚的膜厚差；以及成膜条件设定部，其在所述各层的膜厚相对于所述目标膜厚存在规定值以上的膜厚差的情况下，对针对该层的成膜条件进行校正以使得存在该膜厚差的层的膜厚成为该层的目标膜厚，然后设定所述成膜条件。

    溅射装置和使用了该溅射装置的成膜方法
    32.
    发明公开
    溅射装置和使用了该溅射装置的成膜方法 无效

    公开(公告)号：CN114375346A

    公开(公告)日：2022-04-19

    申请号：CN202180005205.7

    申请日：2021-02-10

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 大胡嘉规 ,  宫内充祐 ,  青山贵昭

    IPC: C23C14/35 ,  C23C14/50 ,  C23C14/54

    Abstract: 具备：成膜室(11)，其中，在基板(S)形成膜；减压装置(19)，其使上述成膜室内为减压气氛；圆盘状的基板架(12)，其可旋转地设置于上述成膜室内，在一个主表面具有可自转地保持上述基板的基板保持部(14)；驱动装置(13)，其使上述基板架旋转；成膜工艺区(R1)，其形成于上述成膜室内的与上述基板架的外周区域对应的空间，设有溅射电极(16)；反应工艺区(R2)，其形成于上述成膜室内的与上述基板架的中心区域对应的空间，设有等离子体产生装置(17)；和气体导入装置(18)，其向上述成膜室内导入放电气体和反应气体。

    反应性溅射装置和使用了该反应性溅射装置的复合金属化合物或混合膜的成膜方法
    33.
    发明授权
    反应性溅射装置和使用了该反应性溅射装置的复合金属化合物或混合膜的成膜方法 有权

    公开(公告)号：CN110637103B

    公开(公告)日：2022-03-08

    申请号：CN201880001742.2

    申请日：2018-04-20

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 税所慎一郎

    IPC: C23C14/34

    Abstract: 本发明具备：成膜室；基板支托，其设置于上述成膜室，对进行成膜的基板S进行保持；减压机，其将上述成膜室减压至规定压力；放电气体导入机，其将放电气体导入至上述成膜室；与一个上述基板对置的两个以上的溅射电极，它们分别具备作为成膜材料的靶材；直流电源，其对上述两个以上的溅射电极供给电力；两个以上的脉冲波转换开关，它们连接在上述直流电源与上述两个以上的溅射电极之间，将施加至各个溅射电极的直流电压转换成脉冲波电压；可编程发送器，其能够将与供给至上述两个以上的溅射电极的各个电力相对应的脉冲产生控制信号图案编程，按照该编程，分别对上述两个以上的脉冲波转换开关进行控制；和脉冲反应气体导入机，其基于来自上述电力控制器的脉冲产生控制信号图案，对从上述反应气体导入机向上述成膜室的反应气体的导入进行控制。

    移载装置及使用了该移载装置的成膜装置
    34.
    发明公开
    移载装置及使用了该移载装置的成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN114144542A

    公开(公告)日：2022-03-04

    申请号：CN202080006975.9

    申请日：2020-07-30

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 大胡嘉规 ,  青山贵昭

    IPC: C23C14/50 ,  C23C14/56

    Abstract: 为了提供一种可确保成膜品质的稳定性、生产率高、小型且廉价的成膜装置，其具备：旋转体(21)，其为能够旋转的旋转体(21)，沿着该旋转体(21)的外周部设置有保持部(212)，应移载的对象物(3)以能够装卸的方式保持于该保持部(212)；以及移载机构(22)，其具有能够把持以及释放上述对象物(3)的把持机构(223)，将保持于规定设备(111)的对象物(3)移载到上述旋转体(21)的保持部(212)，并且将保持于上述旋转体(21)的其他对象物(3)移载到上述规定设备(111)。

    成膜方法和成膜装置
    36.
    发明公开
    成膜方法和成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN106256927A

    公开(公告)日：2016-12-28

    申请号：CN201510711369.8

    申请日：2015-10-28

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 石田将崇 ,  林达也 ,  菅原卓哉 ,  我妻伸哉 ,  宫内充祐 ,  姜友松 ,  长江亦周

    IPC: C23C14/34

    Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。本发明的方法是下述成膜方法：通过将施加有电压的多个基板依次导入成膜区域内的规定位置，成膜区域是利用溅射放电的溅射等离子体从靶材释放出的溅射粒子所到达的区域，由此使溅射粒子到达基板的表面并堆积，并进行使溅射等离子体中的离子撞击基板或溅射粒子的堆积物的等离子体处理，形成薄膜，其中，在形成于具有排气系统的真空容器内的成膜区域内，进行溅射粒子的堆积和基于溅射等离子体的等离子体处理而形成中间薄膜，然后通过使基板保持器旋转而使基板移动至被配置成与成膜区域在空间上分离的反应区域内，进行使溅射等离子体之外的其他等离子体中的离子撞击中间薄膜的等离子体再处理，形成薄膜。

    油扩散泵和用于该油扩散泵的油蒸气产生器
    37.
    发明公开
    油扩散泵和用于该油扩散泵的油蒸气产生器 失效

    公开(公告)号：CN106104009A

    公开(公告)日：2016-11-09

    申请号：CN201480077167.6

    申请日：2014-06-24

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 税所慎一郎

    IPC: F04F9/00

    CPC classification number: F04F5/54 ,  F04F5/20 ,  F04F5/40 ,  F04F5/44 ,  F04F9/00

    Abstract: 提供一种油扩散泵，其具备可消除在使用加热线作为工作油加热源时的问题的油蒸气产生器。一种真空泵，其中，在壳体(51)内配置有油蒸气产生器(70)，通过使该油蒸气产生器(70)工作来使工作油(8)气化从而产生油蒸气，将该油蒸气从喷射器(53、53a)喷射出去而对吸入气体进行排气动作。油蒸气产生器(70)具备：在立起设置方向上延伸的筒状的外壳(71)(被加热体)；隔着绝缘材料(73)缠绕在筒部件(71)的周围的感应线圈(75)；以及对感应线圈(75)施加交流电的供电单元。外壳(71)和感应线圈(75)以浸渍于储存在壳体(51)内的工作油(8)中的配置被组装于壳体。并且，构成为，通过使供电单元工作而对感应线圈(75)施加交流电，由此使外壳(71)自身加热，从而使工作油(8)气化。

    薄膜的成膜方法和成膜装置
    38.
    发明公开
    薄膜的成膜方法和成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN105307784A

    公开(公告)日：2016-02-03

    申请号：CN201580000240.4

    申请日：2015-05-01

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 佐守真悟 ,  高濑慎一 ,  菅原聪 ,  长江亦周 ,  姜友松

    IPC: B05D3/12 ,  B05C9/10

    CPC classification number: B05B17/04 ,  B05B9/04 ,  B05B13/0221 ,  B05B14/20 ,  B05B16/60 ,  B05D1/02 ,  B05D3/0493 ,  B05D5/083 ,  B05D2203/35 ,  C03C17/30 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/15

    Abstract: 本发明提供一种以低成本成膜出具备耐久性的薄膜的方法。该成膜方法使用成膜装置(1)。该装置(1)包括：基板(100)配置于内部下方的真空容器(11)、对该容器(11)内进行排气的真空泵(15)、设置于容器(11)外部且储藏成膜剂溶液(21)的储藏容器(23)、一端具有成为可排出成膜剂溶液(21)的排出部(19)的喷嘴(17)、加压储藏容器(23)内所储藏的成膜剂溶液(21)的液面的加压单元(气体供给源(29)等)。使用由2种以上材料构成的溶液作为成膜剂溶液(21)，所述溶液包含第1材料(S1)和具有高于该S1的蒸汽压(P1)的蒸汽压(P2)的第2材料(S2)，且第1材料的浓度为0.01重量％以上。对于该成膜剂溶液(21)，在P2以上的压力(其中，不包括高于P2一个数量级以上的压力)的气氛下，以0.05～0.3MPa的排出压将其排出至基板上。

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