公开(公告)号：KR1020100134643A

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：KR1020107022509

申请日：2009-04-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  스즈끼도모히로

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/26

CPC classification number: H01L21/2686 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67115

Abstract: 웨이퍼(W)가 수용되는 챔버(2)와, 챔버(2) 내의 웨이퍼(W)에 대해 광을 조사하는 복수의 LED(33)를 갖는 가열원(17a, 17b)과, 가열원(17a, 17b)의 LED(33)에 급전하는 전원부(60)와, 전원부(60)로부터 발광 소자로의 급전을 제어하는 급전 제어부(42a, 42b)와, LED(33)로부터의 광을 투과하는 광투과 부재(18a, 18b)와, 챔버(2) 내를 배기하는 배기 기구를 구비하고, 급전 제어부(42a, 42b)는 LED(33)를 직류 구동한다.

公开(公告)号：KR1020100105751A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：KR1020107016874

申请日：2009-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  미야시타히로유키 ,  스즈키도모히로 ,  요네다마사타케 ,  오오야가즈히로

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/26

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/268 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67115

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 등에 대해 어닐을 실행하는 어닐 장치에 관한 것이다．본 발명에 따르면, 웨이퍼 W의 면을 향하도록 마련되며, 웨이퍼에 대하여 광을 조사하는 복수의 LED (33)을 가지는 가열원 (17a, 17b)과 발광소자 (33)로부터의 광을 투과하는 광투과부재 (18a, 18b)와, 가열원에 직접 접촉하도록 마련된 Al로 구성된 냉각부재 (4a,4b)를 가지며, 상기 가열원(17a, 17b)은 표면에 상기 복수의 발광 소자를 은 페이스트 (56)에 의해 부착된 AlN로 이루어지는 지지체(32)와, 상기 지지체(32)의 이면측에 땝납 57에 의해 접합된 Cu제의 열확산 부재를 포함하고, 이들을 유닛화하여 구성된 복수개의 발광 소자 어레이를 구비하고, 상기 발광 소자 어레이는 실리콘 그리스를 거쳐서 상기 냉각 부재에 고정되어 있는 어닐 장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR100978965B1

公开(公告)日：2010-08-30

申请号：KR1020067025314

申请日：2001-12-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사이토데츠야 ,  가사이시게루

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4408 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4411 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68792

Abstract: 본 발명에 따른 처리 용기(102)내에 있어서 가열 수단(108)을 구비한 탑재대(104)에 탑재된 기판을 가열하는 기판 가열 장치는, 제 1 재료로 구성되고, 탑재대를 지지하는 지지부(202)와, 제 1 재료와 열 전도율이 상이한 제 2 재료로 구성되고, 지지부와 처리 용기를 밀봉하는 밀봉부(204)와, 지지부와 밀봉부를 기밀하게 접합하는 접합부(206)를 구비하고 있다. 이러한 구성에 의하면, 상이한 열 전도율을 갖는 제 1 재료와 제 2 재료를 적절하게 선택함으로써, 탑재대의 상부와 하부 사이의 열 구배를 작게 하는 것이 가능해져, 그 결과 탑재대의 지지 구조의 길이를 짧게 하는 것이 가능해진다.

公开(公告)号：KR100945320B1

公开(公告)日：2010-03-08

申请号：KR1020097002784

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: 본 발명의 성막 장치는, 챔버를 규정하는 처리 용기와, 상기 챔버내에 설치되고 피처리 기판이 탑재될 수 있는 탑재대와, 상기 탑재대에 대향하여 설치되고 다수의 가스 토출 구멍을 갖는 샤워헤드와, 상기 샤워헤드를 거쳐 상기 챔버내에 처리 가스를 공급하는 가스 공급 기구와, 상기 샤워헤드의 온도를 제어하는 샤워헤드 온도 제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

公开(公告)号：KR1020090083490A

公开(公告)日：2009-08-03

申请号：KR1020097014511

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: A film forming device, characterized by comprising a treatment container specifying a chamber, a loading table installed in the chamber and allowing a treated substrate to be loaded thereon, a shower head installed opposite to the loading table and having a large number of gas discharge holes, a gas feeding mechanism for feeding treatment gas into the chamber through the shower head, and a shower head temperature control means for controlling the temperature of the shower head. ® KIPO & WIPO 2009

Abstract translation: 一种成膜装置，其特征在于，包括：指定室的处理容器;安装在所述室中的载置台，并且处理的基板被装载在其上;安装在所述装载台相对的并具有大量排气孔的喷淋头 用于通过喷淋头将处理气体供给到室内的气体供给机构，以及用于控制喷淋头温度的喷淋头温度控制装置。 ®KIPO＆WIPO 2009

公开(公告)号：KR100883834B1

公开(公告)日：2009-02-16

申请号：KR1020030032298

申请日：2003-05-21

Applicant: 나가노 니혼 무센 가부시키가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마다후미오 ,  기타무라도시아키 ,  고바야시히로유키 ,  로쿠야마고이치 ,  구보타아키히로 ,  가사이시게루 ,  오기노다카시 ,  오사다유키

IPC: H03H7/00

CPC classification number: H01R24/542 ,  H01R24/44 ,  H01R2103/00

Abstract: 관형상의 외부도체와 외부도체내에 설치된 내부도체에 의해 정합기본체가 구성됨과 동시에, 정합기본체내에 수용된 입력단측슬러그 및 출력단측슬러그를 구비하며, 양 유전체는, 그 중심위치와 정합기본체에 있어서의 입력단 또는 출력단과의 거리, 및 양유전체의 서로의 대향면간의 거리를 조정가능하게 입력단 및 출력단 간에 슬라이드 가능하게 구성되며, 입력단측슬러그는, 그 반대면끼리가 Nλ/4(λ는 정합기본체내의 입력신호의 관내파장으로, N은 홀수)에 상당하는 소정거리만큼 고정적으로 서로 이간시킨 슬러그를 구비하며, 출력단측슬러그는 그 반대면 끼리 상기 소정거리만큼 고정적으로 서로 이간시킨 슬러그를 구비하고 있다.
동축형,임피던스, 정합기

公开(公告)号：KR100839679B1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：KR1020087002453

申请日：2002-02-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  미야시타히로유키

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67248 ,  H01L21/67115

Abstract: 본 발명은 진공 흡인 가능한 처리 용기 내에 설치된 탑재대에 피처리체를 탑재하는 탑재 공정과, 상기 피처리체를 소정의 온도까지 온도를 높이는 승온 공정을 구비한 열 처리 방법에 관한 것이다. 상기 승온 공정의 적어도 일부에서, 상기 피처리체는 상기 피처리체의 중앙부의 온도가 높고 주연부의 온도가 낮은 온도 분포가 유지된 상태로 승온되도록 이루어져 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种安装工序中，和用于安装在安装在一个热处理方法包括加热步骤，以增加温度至预定温度的可用真空处理槽的载置台的工件要处理的对象。 至少在加热步骤的至少一部分，是由将被处理的物体被提升到状态，较低的温度曲线周边的温度高时，物体的中心部分的温度被保持。

公开(公告)号：KR1020080038395A

公开(公告)日：2008-05-06

申请号：KR1020087005649

申请日：2006-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  오사다유키

IPC: H01J23/34 ,  H05B6/68 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H05B6/666 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/043

Abstract: It is possible to increase the service life of a magnetron. There is provided a magnetron service life judgment method. A microwave generation device includes: a magnetron (74) having a cathode (80) containing a filament (78) and an anode (82) containing a hollow resonator (84) arranged to oppose to each other; a filament current measuring unit (100); and an application voltage measuring unit (102) for measuring voltage applied to the filament. According to the current and the voltage obtained by the current measuring unit (100) and the voltage measuring unit (102), a resistance value calculation unit (104) obtains a resistance value of the filament. A temperature calculating unit (106) calculates the filament temperature from the resistance value according to the resistance-temperature dependent characteristic. A filament power source (98) is controlled by a power control unit (110) so that the filament temperature is within a predetermined temperature range. Moreover, the voltage applied to the filament is successively lowered and the voltage applied to the filament when the moding phenomenon occurs is obtained as the moding voltage and the magnetron service life is judged according to the moding voltage.

Abstract translation: 可以增加磁控管的使用寿命。 提供磁控管使用寿命判断方法。 微波产生装置包括：磁控管（74），具有含有灯丝（78）的阴极（80）和包含相互相对配置的中空谐振器（84）的阳极（82） 灯丝电流测量单元（100）; 以及用于测量施加到灯丝​​上的电压的施加电压测量单元（102）。 根据由电流测量单元（100）和电压测量单元（102）获得的电流和电压，电阻值计算单元（104）获得灯丝的电阻值。 温度计算单元（106）根据电阻温度依赖特性从电阻值计算灯丝温度。 灯丝电源（98）由功率控制单元（110）控制，使得灯丝温度在预定的温度范围内。 此外，当作为调制电压并且根据调制电压判断磁控管使用寿命时，施加到灯丝​​的电压被连续地降低，并且当发生调制现象时施加到灯丝​​的电压被获得。

公开(公告)号：KR100676979B1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：KR1020057018178

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: 본 발명의 성막 장치는, 챔버를 규정하는 처리 용기와, 상기 챔버내에 설치되고 피처리 기판이 탑재될 수 있는 탑재대와, 상기 탑재대에 대향하여 설치되고 다수의 가스 토출 구멍을 갖는 샤워헤드와, 상기 샤워헤드를 거쳐 상기 챔버내에 처리 가스를 공급하는 가스 공급 기구와, 상기 샤워헤드의 온도를 제어하는 샤워헤드 온도 제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

公开(公告)号：KR1020070004126A

公开(公告)日：2007-01-05

申请号：KR1020067024611

申请日：2002-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사이시게루 ,  가케가와다카시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45572 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/28556

Abstract: A film forming device, characterized by comprising a treatment container specifying a chamber, a loading table installed in the chamber and allowing a treated substrate to be loaded thereon, a shower head installed opposite to the loading table and having a large number of gas discharge holes, a gas feeding mechanism for feeding treatment gas into the chamber through the shower head, and a shower head temperature control means for controlling the temperature of the shower head. ® KIPO & WIPO 2007

Abstract translation: 一种成膜装置，其特征在于，包括：指定室的处理容器;安装在所述室中的载置台，并且处理的基板被装载在其上;安装在所述装载台相对的并具有大量排气孔的喷淋头 用于通过喷淋头将处理气体供给到室内的气体供给机构，以及用于控制喷淋头温度的喷淋头温度控制装置。 ®KIPO＆WIPO 2007