中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

38 records (took 0.02 seconds)

    N-터셔리-부톡시말레이미드 공중합체 제조방법
    32.
    发明公开
    N-터셔리-부톡시말레이미드 공중합체 제조방법 失效

    公开(公告)号：KR1019930019714A

    公开(公告)日：1993-10-18

    申请号：KR1019920003540

    申请日：1992-03-04

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  구덕일 ,  강종희

    IPC: C08F222/40

    Abstract: 본 발명은 새로운 말레이미드계 단량체인 N-터셔리-부록시말레이미드를 라디칼 개시제 존재하에 단독 중합시키거나 또는 이 단량체와 스티렌계의 단량체등 다른 단량체와 라디칼 개시제 존재하에 공중합시켜 Nt-부톡시말레이미드 공중합체를 제조하고, 이 공중합체를 이용하여 미세가공 공정의 레지스트 미세화상을 형성하는 방법으로, 본 발명에 의하여 고감도, 고해상성으로 만들어지는 레지스트 화상은 내열성이 매우 우수하여 초미세가공공정에 유리하게 적용될수 있다.

    피톤치드 방출 스텐트
    34.
    发明公开
    피톤치드 방출 스텐트 有权
    PHYTONCIDE释放支架

    公开(公告)号：KR1020120119786A

    公开(公告)日：2012-10-31

    申请号：KR1020110037976

    申请日：2011-04-22

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 한동근 ,  박귀덕 ,  강종희 ,  강성남 ,  김시은 ,  이재의 ,  구재환 ,  정명호

    IPC: A61F2/82 ,  A61L27/34 ,  A61L27/04 ,  A61L27/50

    CPC classification number: A61F2/82 ,  A61F2250/0067 ,  A61F2310/00011 ,  A61F2310/0097 ,  A61L31/022 ,  A61L31/10 ,  A61L31/14 ,  A61L31/16

    Abstract: PURPOSE: A phytoncide releasing stent is provided to more efficiently emit phytoncide in a living body. CONSTITUTION: A phytoncide releasing stent comprises a coating layer in which the mixture of phytoncide and biodegradable polymer is coated on the surface thereof. A stent is made of a metal material selected from stainless steel, cobalt-chrome, platinum-chrome, tantalum, titanium, nitinol, gold, platinum, silver, and their alloy. The biodegradable polymer is selected from a group consisting of polyglycolic acid, poly-L-lactic acid, poly-D-lactic acid, poly-D,L-lactic acid, poly-e-carprolactone, polylactic acid-glycolic acid copolymer, poly-L-lactic acid-e-caprolactone copolymer, polyethylene glycol, polyamino acid, polyanhydride, polyortho ester, polydioxanone, polyphosphazene, cellulose acetate butylate, cellulose triacetate, and their copolymer.

    Abstract translation: 目的：提供一种放液剂释放支架，以更有效地在活体中释放出杀藻素。 构成：放液剂释放支架包括涂层，其中植物保护剂和可生物降解聚合物的混合物在其表面上被涂覆。 支架由选自不锈钢，钴铬，铂铬，钽，钛，镍钛诺，金，铂，银及其合金的金属材料制成。 生物降解性聚合物选自聚乙醇酸，聚-L-乳酸，聚-D-乳酸，聚-D，L-乳酸，聚己内酯，聚乳酸 - 乙醇酸共聚物，聚 -L-乳酸 - ε-己内酯共聚物，聚乙二醇，聚氨基酸，聚酐，聚缩醛酯，聚二恶烷酮，聚磷腈，乙酸纤维素丁酸酯，三乙酸纤维素及其共聚物。

    보호된 히드록시안트라퀴논 유도체 및 그의 공중합체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
    35.
    发明公开
    보호된 히드록시안트라퀴논 유도체 및 그의 공중합체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법 失效
    保护的羟基四氢喹啉衍生物及其共聚物，使用它们形成荧光图像的方法

    公开(公告)号：KR1020010038524A

    公开(公告)日：2001-05-15

    申请号：KR1019990046511

    申请日：1999-10-26

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  김종만 ,  한동근 ,  강종희

    IPC: C07C50/16

    CPC classification number: Y02P20/55

    Abstract: PURPOSE: Provided are hydroxy protected 1,4-dihydroxyanthraquinone derivatives used as a precursor of material for forming fine fluorescent image, copolymers thereof applied to material for recording and a sensor, and a process for forming the fine fluorescent image by using the copolymers. CONSTITUTION: The hydroxy protected 1,4-dihydroxyanthraquinone derivatives are represented by the formula (1), and the copolymers thereof represented by the formula (2) are produced by radical polymerizing the hydroxy protected 1,4-dihydroxyanthraquinone derivatives and comonomers selected from the group consisting of styrene, maleimide, and methacrylate in the presence of a polymerization initiator. And the process for forming the fine fluorescent image comprises the steps of: dissolving the copolymers containing the hydroxy protected 1,4-dihydroxyanthraquinone and a photoacid generator in an organic solvent; spreading the solution on a substrate and drying to from a thin film; prebaking the thin film coated substrate; treating under the condition of chemical amplification to remove the hydroxy protecting group from the copolymers. In the formula, R1 is hydroxy protecting group, one of A and B is H, R2 is O or NH, R3 is vinyl, alpha-methyl vinyl, or 4-biphenyl, one of C and D is H and the other is represented by the formula (c) or (d), R4 is hydrogen or methyl, R5 is methyloxycarbonyl or phenyl, m is an integer of 0-20, x and y are independently an integer of 10-5000.

    Abstract translation: 目的：提供用作形成细荧光图像的材料的前体的羟基保护的1,4-二羟基蒽醌衍生物，其用于记录材料的共聚物和传感器，以及通过使用该共聚物形成微细荧光图像的方法。 构成：羟基保护的1,4-二羟基蒽醌衍生物由式（1）表示，其由式（2）表示的共聚物通过自由基聚合羟基保护的1,4-二羟基蒽醌衍生物和选自以下的共聚单体制备： 在聚合引发剂存在下由苯乙烯，马来酰亚胺和甲基丙烯酸酯组成的组。 并且形成细荧光图像的方法包括以下步骤：将含有羟基保护的1,4-二羟基蒽醌和光致酸产生剂的共聚物溶解在有机溶剂中; 将溶液铺展在基材上并从薄膜干燥; 预烘烤薄膜涂布基材; 在化学扩增条件下处理以从共聚物中除去羟基保护基团。 在该式中，R 1是羟基保护基，A和B之一是H，R 2是O或NH，R 3是乙烯基，α-甲基乙烯基或4-联苯基，C和D之一是H，另一个被表示 通过式（c）或（d），R 4是氢或甲基，R 5是甲氧基羰基或苯基，m是0-20的整数，x和y独立地是10-5000的整数。

    초고집적 반도체의 고해상도 레지스트 재료용 지환족 유도체 및그의 제조 방법
    36.
    发明授权
    초고집적 반도체의 고해상도 레지스트 재료용 지환족 유도체 및그의 제조 방법 失效
    用于高分辨率耐高温材料的高分子衍生物及其制备方法

    公开(公告)号：KR100249453B1

    公开(公告)日：2000-03-15

    申请号：KR1019980007697

    申请日：1998-03-09

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  한동근 ,  김종만 ,  강종희 ,  이찬우 ,  이재형

    IPC: C08F222/40

    Abstract: 본 발명에는 하기 화학식 1로 표시되는 지환족 유도체 및 그의 제조 방법이 개시되어 있다.

    -(M
    a )
    x -(M
    b )
    y -(M
    c )
    u -(M
    d )
    v -


    식 중,
    M
    a 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 노르보르넨 단량체로서 이고,
    M
    b 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 디노르보르넨 단량체로서 이며,
    M
    c 는 전자 결핍성 단량체로서 이고,
    M
    d 는 (메트)아크릴산 에스테르 단량체로서 이며,
    R
    1 및 R
    2 는 서로 독립적으로 H 또는 산소 원자수 1 내지 4개를 갖는 이탈기, 예를 들면 H, COOH, CH
    2 OH, COOC
    2 H
    5 , COOC(CH
    3 )
    3 , 메틸 에스테르, 테트라히드로피라닐 에스테르, 테트라히드로푸라닐 에스테르, 1-에톡시에틸 에스테르 또는 t-부틸 카르보네이트이며,
    R
    3 은 O, NH 또는 N-CH
    2 CH
    3 이고,
    R
    4 는 H 또는 CH
    3 이고,
    R
    5 는 CH
    3 , CH
    2 CH
    3 , CH
    2 CH
    2 CH
    2 CH
    3 또는 C(CH
    3 )
    3 이며,
    x+y+u+v의 총 몰수를 기준으로,
    x는 0 내지 0.2, 바람직하게는 0.01 내지 0.1의 몰비를 갖는 값이고,
    y는 0.25 내지 0.5의 몰비를 갖는 값이며,
    u는 x+y이고,
    v는 0.1 내지 0.33의 몰비를 갖는 값이다.
    이러한 지환족 유도체는 ArF 엑시머 레이저 영역에서의 투명성, 고해상도 및 고감도를 갖고, 기존의 노볼락 수지와 대등한 건식 엣칭 내성을 가지며, 기존의 알칼리 현상액을 적용할 수 있고, 특히 웨이퍼에 대한 접착성 및 현상성이 개선된다. 그러므로, 이러한 지환족 유도체를 사용하여 ArF 엑시머 레이저 가공용 고해상도 레지스트 재료를 제조할 수 있다.

    N-터셔리-부톡시말레이미드 공중합체 제조방법
    38.
    发明授权
    N-터셔리-부톡시말레이미드 공중합체 제조방법 失效
    生产N-叔丁氧基马来酰亚胺共聚物的方法

    公开(公告)号：KR1019940010966B1

    公开(公告)日：1994-11-21

    申请号：KR1019920003540

    申请日：1992-03-04

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  구덕일 ,  강종희

    IPC: C08F222/40

    Abstract: The N-tert-butoxymaleimide/styrene copolymer is produced by radical- copolymerizing N-tert-butoxymaleimide monomer and styrene derivative in the presence of a radical copolymerization initiator i.e. benzoyl peroxide or azobis (isobutylonitrile). The styrene derivative is pref. styrene, p-acetoxy styrene, p-methyl styrene, p-chloro styrene, m-chloromethyl styrene, p-tert- butoxycarbonyloxy styrene or p-trimethylsilyl styrene. The copolymer is used as a microlithographic resist having a high radiation-sensibility, resolution and heat resistance.

    Abstract translation: N-叔丁氧基马来酰亚胺/苯乙烯共聚物通过在自由基共聚引发剂即过氧化苯甲酰或偶氮双（异丁腈）的存在下，使N-叔丁氧基马来酰亚胺单体和苯乙烯衍生物自由基共聚来制备。 苯乙烯衍生物是优选的。 苯乙烯，对乙酰氧基苯乙烯，对甲基苯乙烯，对氯苯乙烯，间氯甲基苯乙烯，对叔丁氧基羰基氧基苯乙烯或对三甲基甲硅烷基苯乙烯。 该共聚物用作具有高辐射敏感性，分辨率和耐热性的微光刻抗蚀剂。

Patent Agency Ranking