公开(公告)号：EP2550562A4

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：EP11759653

申请日：2011-03-25

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： KATO KEITA ,  TARUTANI SHINJI ,  TSUCHIHASHI TORU ,  KAMIMURA SOU ,  ENOMOTO YUICHIRO ,  FUJII KANA ,  IWATO KAORU ,  KATAOKA SHOHEI ,  MIZUTANI KAZUYOSHI

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24

Abstract: Provided is a method of forming a pattern, ensuring excellent exposure latitude (EL) and focus latitude (depth of focus DOF). The method of forming a pattern includes (A) forming a film from a resist composition, the resist composition, (B) exposing the film to light, and (C) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent, thereby forming a negative pattern. The resist composition contains (a) a resin that is configured to decompose when acted on by an acid and &Dgr;SP thereof represented by formula (1) below is 2.5 (MPa)1/2 or above, (b) a compound that is composed to generate an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (c) a solvent. &Dgr;SP=SPF−SPI  (1)

Abstract translation: 提供了一种形成图案的方法，确保优异的曝光宽容度（EL）和聚焦纬度（焦深DOF）。 形成图案的方法包括（A）从抗蚀剂组合物形成膜，抗蚀剂组合物，（B）将膜曝光，和（C）使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光膜，从而形成 负模式。 抗蚀剂组合物含有（a）在被酸作用时被分解的树脂，下式（1）表示的＆Dgr; SP为2.5（MPa）1/2以上，（b） 被组合以在暴露于光化射线或辐射时产生酸，和（c）溶剂。 ＆DGR; SP = SPF-SPI（1）

公开(公告)号：EP2486452A4

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：EP10822151

申请日：2010-10-05

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： ENOMOTO YUICHIRO ,  KAMIMURA SOU ,  TARUTANI SHINJI ,  KATO KEITA ,  IWATO KAORU

IPC: G03F7/038 ,  C08F220/10 ,  C08F232/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/325 ,  G03F7/327 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

公开(公告)号：JP2015014726A

公开(公告)日：2015-01-22

申请号：JP2013141817

申请日：2013-07-05

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

Inventor： IWATO KAORU ,  WATANABE TAKAHIRO

IPC: G03F7/038 ,  C08J7/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325

Abstract: 【課題】パターンの超微細化に伴うパターン倒れの問題が改善され、且つ、解像性並びにラフネス特性に優れる微細パターンを形成することが可能なパターン形成方法、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、前記膜を露光する工程、露光した前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してパターンを形成する工程、及び、超臨界流体により前記パターンを処理する工程を含むパターン形成方法。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，其改善由图案的超微细加工引起的图案塌陷的问题，并且可以形成具有优异的分辨率和粗糙度特性的精细图案，包括图案形成的电子器件制造方法 方法和这种电子器件。解决方案：提供了一种图案形成方法，包括：将光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物施加到基底上以形成膜的步骤; 电影曝光的一个步骤; 使用含有有机溶剂的显影液来显影曝光膜以形成图案的步骤; 以及使用超临界流体处理图案的步骤。

公开(公告)号：JP2014010436A

公开(公告)日：2014-01-20

申请号：JP2012149543

申请日：2012-07-03

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： FUKUHARA TOSHIAKI ,  IWATO KAORU

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/20 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method that enables formation of a pattern excellent in uniformity of a local pattern dimension and line width roughness, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition to be used for the method.SOLUTION: The pattern forming method comprises steps of: (1) forming a film comprising the following composition; (2) irradiating the film with actinic rays or radiation; and (3) developing the film to form a negative pattern. The composition used is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: a resin (P) including a repeating unit (P1) having a cyclic carbonate structure and a repeating unit (P2) expressed by general formula (P2-1) below; and a compound (B) that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够形成局部图案尺寸和线宽粗糙度均匀性优异的图案的图案形成方法，并且提供用于该方法的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物 解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（1）形成包含以下组成的膜; （2）用光化射线或辐射照射薄膜; 和（3）显影膜以形成负图案。 所使用的组合物是光化学射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含：包含具有环状碳酸酯结构的重复单元（P1）和由通式（P2-1）表示的重复单元（P2））的树脂（P） 下面; 和通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物（B）。

公开(公告)号：JP2013178370A

公开(公告)日：2013-09-09

申请号：JP2012041989

申请日：2012-02-28

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： MATSUDA TOMOKI ,  SHIBUYA AKINORI ,  TOKUGAWA YOKO ,  ITO JUNICHI ,  KATAOKA SHOHEI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  TANGO NAOHIRO ,  IWATO KAORU ,  YOSHITOME MASAHIRO ,  SUGIYAMA SHINICHI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition improved in CDU and roundness and suited even for a liquid immersion process with a line width of 45 nm or less; an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern formation method which use the composition; and an electronic device manufacturing method and an electronic device.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound (A) represented by the specified general formula (1), and a resin (B) whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid. (The meaning of each symbol in the general formula (1) is described in the claims.)

Abstract translation: 要解决的问题：提供：提高CDU和圆度的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，甚至适用于线宽为45nm以下的液浸工艺; 光化射线敏感或辐射敏感膜和使用该组合物的图案形成方法; 电子装置的制造方法和电子装置。光解射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有由通式（1）表示的化合物（A）和在 碱性显影剂通过酸的作用而增加。 （在权利要求中描述了通式（1）中每个符号的含义）。

公开(公告)号：JP2013129837A

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：JP2013005419

申请日：2013-01-16

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： ENOMOTO YUICHIRO ,  TARUYA SHINJI ,  KAMIMURA SATOSHI ,  IWATO KAORU ,  KATO KEITA ,  SHIBUYA AKINORI

IPC: C08F20/36 ,  C07D211/46 ,  C07D211/62 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method capable of forming a pattern with wide depth of focus (DOF) and small line width roughness (LWR), excellent in pattern shape, and reduced in bridge defect; and to provide a chemically amplified negative resist composition.SOLUTION: A pattern forming method includes: a step (α) of forming a film by using a chemically amplified negative resist composition; a step (β) of exposing the film; and a step (γ) of developing by using a developer containing an organic solvent. The resist composition includes (A) a resin whose solubility to the developer containing the organic solvent is decreased by the action of an acid, (B) a compound that generates an acid by irradiation of an active ray or a radioactive ray, (D) a solvent, and (G) a compound that has at least one of a fluorine atom and a silicon atom, and that has basicity or whose basicity is increased by the action of the acid.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够形成宽焦点（DOF）和小线宽粗糙度（LWR）的图案的图案形成方法，图案形状优异，桥缺陷减少; 并提供化学放大的负性抗蚀剂组合物。解决方案：图案形成方法包括：通过使用化学放大的负性抗蚀剂组合物形成膜的步骤（α） 暴露电影的一步（＆bgr）; 和通过使用含有有机溶剂的显影剂显影的步骤（γ）。 抗蚀剂组合物包含（A）通过酸的作用使对含有有机溶剂的显影剂的溶解度降低的树脂，（B）通过活性射线或放射线照射产生酸的化合物，（D） 溶剂，和（G）具有氟原子和硅原子中的至少一个的化合物，并且具有通过酸的作用具有碱性或碱度增加的化合物。

公开(公告)号：JP2013120245A

公开(公告)日：2013-06-17

申请号：JP2011267348

申请日：2011-12-06

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： TANGO NAOHIRO ,  KATAOKA SHOHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  ITO JUNICHI ,  MATSUDA TOMOKI ,  IWATO KAORU ,  SUGIYAMA SHINICHI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  YOSHITOME MASAHIRO ,  TOKUGAWA YOKO

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of satisfying, in a high level, all of reducing the number of development defects (bridge defects), reducing fluctuations of a critical dimension (CD) of a pattern line width per 1°C of PEB temperature (PEB temperature dependence), and enlarging a focus latitude in a space (space-DOF (depth of focus)), and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin, a method for forming a pattern, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device using the above composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin having a repeating unit expressed by general formula (1A) and a repeating unit expressed by general formula (1B) that is decomposed by an acid to generate a carboxyl group, and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In general formula (1A), L represents a single bond or a divalent connecting group; and Z represents a cyclic acid anhydride group.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够高水平地满足显影缺陷（桥缺陷）数量的所有降低的光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物，减少临界尺寸的波动（ CD），PEB温度（PEB温度依赖性）每1℃的图案线宽度，以及放大空间（空间自由度（深度焦点））中的焦点纬度），并且提供光化学敏感或辐射 - 使用光化射线敏感或辐射敏感树脂的感光膜，形成图案的方法，使用上述组合物的电子器件的制造方法和电子器件。 光敏性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）具有由通式（1A）表示的重复单元的树脂和由酸分解的通式（1B）表示的重复单元 以产生羧基，和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。 在通式（1A）中，L表示单键或二价连接基团; Z表示环状酸酐基。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013113944A

公开(公告)日：2013-06-10

申请号：JP2011258327

申请日：2011-11-25

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： SUGIYAMA SHINICHI ,  KATAOKA SHOHEI ,  SHIBUYA AKINORI ,  ITO JUNICHI ,  MATSUDA TOMOKI ,  IWATO KAORU ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  TANGO NAOHIRO ,  TOKUGAWA YOKO ,  YOSHITOME MASAHIRO

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition achieving a favorable cross-sectional shape with high rectangularity, a high film residual rate and reduction of bridge defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition, and a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin having a repeating unit expressed by following general formula (1), a repeating unit having a lactone structure or a sultone structure, and a repeating unit that is decomposed by an action of an acid to generate an alkali-soluble group; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In general formula (1), L represents a single bond or a divalent connecting group; Rrepresents a hydrogen atom or an alkyl group; and Z represents a cyclic acid anhydride group.

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有高矩形性，高膜残留率和桥缺陷减少的良好横截面形状的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并提供抗蚀剂膜和 使用该组合物的图案形成方法，以及电子设备和电子设备的制造方法。 光敏性或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）具有由以下通式（1）表示的重复单元的树脂，具有内酯结构或磺内酯结构的重复单元，和 通过酸的作用分解以产生碱溶性基团的重复单元; 和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。 在通式（1）中，L表示单键或二价连接基团; R 1 表示氢原子或烷基; Z表示环状酸酐基。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013025050A

公开(公告)日：2013-02-04

申请号：JP2011159325

申请日：2011-07-20

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： IWATO KAORU

IPC: G03F7/039 ,  C07C309/06 ,  C07C309/09 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent pattern profile and focal depth margin even if a pattern is formed directly using a high-reflection substrate without an antireflection film, and suited for implantation, and to provide a pattern forming method.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin containing at least a type of repeating unit represented by general formulas (PG1), (PG2), and (PG3), and a lactone structure; (B) a photo-acid-generating agent; and (C) solvent.

Abstract translation: 要解决的问题：即使使用没有抗反射膜的高反射基板直接形成图案，也可以提供具有优异的图案轮廓和焦距深度余量的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并且适合 用于植入，并提供图案形成方法。 光敏射线敏感性树脂组合物包含：（A）含有至少一种由通式（PG1），（PG2）和（PG3）表示的重复单元的树脂，和 内酯结构; （B）光酸生成剂; 和（C）溶剂。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012128383A

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：JP2011002060

申请日：2011-01-07

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： ENOMOTO YUICHIRO ,  TARUYA SHINJI ,  KAMIMURA SATOSHI ,  IWATO KAORU ,  KATO KEITA ,  SHIBUYA AKINORI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, focus latitude, bridge defect preventing performance and dependency of sensitivity on post exposure baking (PEB) temperature, and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: a resin, which contains a first repeating unit having a group that is decomposed by an action of an acid to produce an alcoholic hydroxyl group, and the solubility of which with a developing solution containing an organic solvent is decreased by the action of the acid; a first compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; a solvent; and a second compound having at least one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or increasing basicity by the action of the acid.

Abstract translation: 要解决的问题：提供粗糙度特性，聚焦纬度，桥缺陷防止性能以及敏感度对后曝光烘烤（PEB）温度的依赖性以及图案形成方面优异的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物 方法使用该组合物。 光敏射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包括：树脂，其含有具有通过酸作用分解以产生醇羟基的基团的第一重复单元，以及溶解度 其中含有有机溶剂的显影溶液通过酸的作用而降低; 通过用光化射线或辐射照射产生酸的第一种化合物; 溶剂; 和具有氟原子和硅原子中的至少一个的第二化合物，并且通过酸的作用具有碱性或增加的碱性。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT