振动传感器及其制造方法
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102401693B

    公开(公告)日:2014-12-17

    申请号:CN201110272018.3

    申请日:2011-09-13

    Inventor: 吉田隆司

    Abstract: 本发明提供一种振动传感器,其包括:设置在单晶硅衬底之上的单晶硅振动梁,该振动梁的断面形状在垂直于单晶硅衬底表面的方向上比在平行于单晶硅衬底表面的方向上长;由硅制成的壳体,围绕振动梁具有间隙,并且与单晶硅衬底一起形成真空室;板状第一电极板,与单晶硅衬底的表面平行布置,第一电极板的一端连接到振动梁;板状第二和第三电极板,与单晶硅衬底的表面平行布置,并且彼此相对,振动梁置于其间;以及形成在振动梁与第二和第三电极板的相对侧表面上的粗糙。

    微机械的惯性传感器及其制造方法

    公开(公告)号:CN103424107A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201310177524.3

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 建议了用于提高微机械惯性传感器的测量灵敏度的措施,所述惯性传感器包括至少一个具有已处理的正面的ASIC构件(10)、一个具有微机械的传感器结构的MEMS构件(20)以及一个罩形晶片(31)。所述MEMS构件(20)的传感器结构包括至少一个振动质量(25)并且延伸在所述MEMS构件(20)的整个厚度上。所述MEMS构件(20)通过支座结构(15)装配在所述ASIC构件(10)的已处理的正面上,并且通过在所述MEMS衬底(20)中以及在所述支座结构的相邻支架(15)中的穿通接触件(22)与所述ASIC构件(10)电连接。所述罩形晶片(31)装配在所述MEMS构件(20)的微机械传感器结构上方。根据本发明,至少在所述振动质量(25)的区域中构造至少一个在所述MEMS衬底(20)中的盲孔(23),所述盲孔用与所述穿通接触件(22)相同的导电材料填充。这种导电的材料具有比所述MEMS衬底材料更高的密度。

    振动传感器及其制造方法
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102401693A

    公开(公告)日:2012-04-04

    申请号:CN201110272018.3

    申请日:2011-09-13

    Inventor: 吉田隆司

    Abstract: 本发明提供一种振动传感器,其包括:设置在单晶硅衬底之上的单晶硅振动梁,该振动梁的断面形状在垂直于单晶硅衬底表面的方向上比在平行于单晶硅衬底表面的方向上长;由硅制成的壳体,围绕振动梁具有间隙,并且与单晶硅衬底一起形成真空室;板状第一电极板,与单晶硅衬底的表面平行布置,第一电极板的一端连接到振动梁;板状第二和第三电极板,与单晶硅衬底的表面平行布置,并且彼此相对,振动梁置于其间;以及形成在振动梁与第二和第三电极板的相对侧表面上的粗糙。

    具有组合的驱动和探测的MEMS转速传感器

    公开(公告)号:CN107850430A

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201680042151.0

    申请日:2016-05-24

    CPC classification number: G01C19/5733 B81B2201/025 G01C19/5719

    Abstract: 本发明提出一种转速传感器,该转速传感器具有带有主延伸平面的衬底和至少一个相对于衬底可运动的结构,其中,该结构能够被激励而从所述结构的静止位置中以与基本上平行于所述主延伸平面的驱动方向基本上平行的运动分量振动,其中,所述转速传感器为了激励所述振动而包括至少一个被所述结构携动的梳状电极和至少一个相对于所述衬底固定的梳状电极,其中,通过所述携动的梳状电极和/或所述固定的梳状电极的电压加载能够引起所述激励,其中,所述携动的梳状电极和所述固定的梳状电极如此构造,使得能够探测由于所述转速传感器的围绕基本上垂直于所述驱动方向并且基本上垂直于所述探测方向走向的轴线的转速而以沿着基本上垂直于所述驱动方向的探测方向的力分量作用到所述结构上的力。

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