透明導電膜及び透明導電膜の製造方法
    33.
    发明申请
    透明導電膜及び透明導電膜の製造方法 审中-公开
    透明导电薄膜和透明导电薄膜的制造方法

    公开(公告)号:WO2014188918A1

    公开(公告)日:2014-11-27

    申请号:PCT/JP2014/062783

    申请日:2014-05-14

    Abstract:  本発明は、透明導電膜及び透明導電膜の製造方法に関する。透明導電膜は、透明基体(12)と、該透明基体(12)上に形成された金属配線部(14)とを有する透明導電膜(10)において、金属配線部(14)の電極部(18)を構成する金属細線(24)が、Ra 2 /Sm>0.01μmを満たす表面形状を有し、且つ、金属体積率が35%以上である。なお、Raは算術平均粗さを示し、表面粗さ測定箇所の金属配線の厚み以下であって、単位がμmである。Smは凹凸の平均間隔であって、0.01μm以上である。

    Abstract translation: 本发明涉及一种透明导电膜及其制造方法。 这种透明导电膜(10)包括透明基底(12)和形成在透明基底(12)上的金属布线部分(14)和构成电极部分(18)的金属细线(24) 金属配线部(14)具有满足Ra2 / Sm>0.01μm,金属体积比为35%以上的表面形状。 在这方面,Ra表示在表面粗糙度的测量点处的金属布线的厚度不大于其单位为μm的算术平均粗糙度; Sm表示轮廓不规则的平均间距,不小于0.01μm。

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