用于保持基板的顶环及基板处理装置

    公开(公告)号:CN112894612A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN202011291745.X

    申请日:2020-11-18

    Abstract: 本发明提供一种用于保持基板的顶环及基板处理装置,顶环能够将基板均匀地按压于研磨垫。用于保持基板(WF)的顶环(302)包括:基座部件(301),该基座部件与顶环轴(18)连结;弹性膜(320),该弹性膜安装于基座部件(301),在该弹性膜与基座部件(301)之间形成用于对基板(WF)进行加压的加压室(322);以及基板吸附部件(330),该基板吸附部件保持于弹性膜(320),并包括多孔质部件(334),该多孔质部件具有用于吸附基板(WF)的基板吸附面(334a)和与减压单元(31)连通的减压部(334b)。

    基板保持装置及基板处理装置
    44.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112103237A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN202010546521.2

    申请日:2020-06-16

    Inventor: 柏木诚

    Abstract: 本发明提供一种基板保持装置及基板处理装置,该基板保持装置使晶片等基板进行圆运动,并且能够一边使基板以其轴心为中心旋转,一边稳定地保持该基板。基板保持装置(10)具备:多个辊(11a、11b);使多个辊(11a、11b)旋转的多个电动机(29a、29b);围绕中心轴线(CP)排列的多个偏心轴(13a、13b);多个致动器(18)。多个偏心轴(13a、13b)由多个可动轴(13b)和多个基准轴(13a)构成,多个致动器(18)分别与多个可动轴(13b)连结,多个致动器(18)构成为,使多个可动轴(13b)向接近多个基准轴(13a)的方向以及从多个基准轴(13a)远离的方向移动。

    研磨头以及研磨装置
    45.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110919527A

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201910887678.9

    申请日:2019-09-19

    Abstract: 在使用被划分为圆状或环状的薄膜的基板研磨装置中,在方形的基板的角部以及边部的中央的附近局部地对按压力进行调节是困难的。本发明公开了一种研磨头以及研磨装置,该研磨头是用于通过安装于研磨台的研磨垫来对方形的基板进行研磨的研磨装置的研磨头,具备:头主体部;多个弹性袋,该多个弹性袋设置于头主体部的应与研磨台相对的表面;以及基板保持板,该基板保持板用于保持基板,并且由弹性袋向远离头主体部的方向按压该基板保持板,在头主体部设置有与各个弹性袋连通的袋用流路,研磨头还具备设置于弹性袋与基板保持板之间的至少两块支撑板,弹性袋隔着支撑板而按压基板保持板。

    基板保持部件
    46.
    外观设计

    公开(公告)号:CN305255950S

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201930028261.8

    申请日:2019-01-18

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:基板保持部件。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品是用于保持基板的基板保持部件。
    3.本外观设计产品的设计要点:整体形状和结构。
    4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.本外观设计产品设计1的左视图与右视图对称,设计2的左视图与右视图对称,故省略本外观设计产品设计1的左视图和设计2的左视图。
    6.本外观设计产品为相似外观设计,设计1是基本设计。

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