公开(公告)号：CN118176088A

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN202280067725.5

申请日：2022-10-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 田岛一博 ,  柏木诚 ,  古泽磨奈人

IPC: B24B37/30 ,  B24B37/32 ,  H01L21/683

Abstract: 无论基板的被吸附面的平坦度如何都能可靠地吸附基板。基板吸附构件(330)包含：多孔质构件(334)，具有用于吸附基板(WF)的基板吸附面(334a)和与减压装置连通的减压部(334b)；遮蔽构件(332)，具有第一遮蔽构件(332‑1)和框状的第二遮蔽构件(332‑2)，该第一遮蔽构件遮蔽多孔质构件(334)中与基板吸附面(334a)为相反侧的面(334c)，该第二遮蔽构件遮蔽多孔质构件(334)的侧面(334d)的至少一部分；及框状的弹性密封构件(336)，以将多孔质构件(334)包围的方式安装于第二遮蔽构件(332‑2)，并具有与基板(WF)接触的接触面(336a)。

公开(公告)号：CN118782514A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202410409796.X

申请日：2024-04-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 古泽磨奈人 ,  藤泽真於

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 一种基板输送装置及具备基板输送装置的基板处理装置，在通过向四边形的基板喷出液体和/或气体的工序输送基板时，抑制基板的损伤。基板输送装置用于输送四边形的基板，具有：多个第一输送辊，该多个第一输送辊构成为支承基板的下表面；多个第一辊轴，在各第一辊轴安装有至少三个第一输送辊；马达，该马达用于使所述第一辊轴旋转；多个第二输送辊，该多个第二输送辊构成为仅在所述基板的宽度方向的中央部支承所述基板的上表面；多个第二辊轴，在各第二辊轴安装有构成为仅支承所述基板的宽度方向的中央部的一个第二输送辊；以及多个导向辊，该多个导向辊与所述基板的两侧面相对地引导所述基板的输送。

公开(公告)号：CN112894612B

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202011291745.X

申请日：2020-11-18

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  佐鸟博俊 ,  柏木诚 ,  古泽磨奈人

IPC: B24B37/32 ,  B24B37/34 ,  B24B37/10

Abstract: 本发明提供一种用于保持基板的顶环及基板处理装置，顶环能够将基板均匀地按压于研磨垫。用于保持基板(WF)的顶环(302)包括：基座部件(301)，该基座部件与顶环轴(18)连结；弹性膜(320)，该弹性膜安装于基座部件(301)，在该弹性膜与基座部件(301)之间形成用于对基板(WF)进行加压的加压室(322)；以及基板吸附部件(330)，该基板吸附部件保持于弹性膜(320)，并包括多孔质部件(334)，该多孔质部件具有用于吸附基板(WF)的基板吸附面(334a)和与减压单元(31)连通的减压部(334b)。

公开(公告)号：CN116438632A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202180076294.4

申请日：2021-10-25

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 真继阿沙葵 ,  谷泽昭寻 ,  古泽磨奈人 ,  青山英治 ,  斋藤步 ,  笹谷祐介 ,  小林贤一 ,  宫泽康之 ,  相马刚 ,  能条启一

IPC: H01L21/304

Abstract: 实现能够以简单的构造使基板的清洗力提高的清洗组件及基板处理装置。清洗组件包含：第一搬送机构(210‑1)，该第一搬送机构用于将被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)沿着搬送路径(405)搬送至下游侧的基板交接位置(418)；超声波清洗槽(440)，该超声波清洗槽配置于从搬送路径(405)离开的位置，并用于清洗被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)；移载机(420)，该移载机用于在搬送路径(405)的基板交接位置(418)与超声波清洗槽(440)之间移载基板(WF)；及第二搬送机构(210‑2)，该第二搬送机构用于将通过移载机(420)而从超声波清洗槽(440)移载至基板交接位置(418)的基板(WF)沿着搬送路径(405)进一步向下游侧搬送。

公开(公告)号：CN115666853A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180038346.9

申请日：2021-05-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 古泽磨奈人 ,  赤泽贤一 ,  小林贤一

IPC: B24B41/02 ,  B24B37/005 ,  B24B37/30 ,  B24B41/047 ,  B24B41/06 ,  B24B55/06 ,  H01L21/304

Abstract: 实现一种适合表面基准研磨的研磨装置。研磨装置100包含：沿着基板300的第一方向(X方向)配置的多个基板保持机构200；沿着与第一方向(X方向)交叉的第二方向(Y方向)配置的多个研磨头201；夹着基板300而与多个研磨头201相对，并在第二方向(Y方向)延伸的载台202；及用于使多个研磨头201与载台202在第一方向(X方向)移动的驱动机构500、600。

公开(公告)号：CN112894612A

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN202011291745.X

申请日：2020-11-18

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  佐鸟博俊 ,  柏木诚 ,  古泽磨奈人

IPC: B24B37/32 ,  B24B37/34 ,  B24B37/10

Abstract: 本发明提供一种用于保持基板的顶环及基板处理装置，顶环能够将基板均匀地按压于研磨垫。用于保持基板(WF)的顶环(302)包括：基座部件(301)，该基座部件与顶环轴(18)连结；弹性膜(320)，该弹性膜安装于基座部件(301)，在该弹性膜与基座部件(301)之间形成用于对基板(WF)进行加压的加压室(322)；以及基板吸附部件(330)，该基板吸附部件保持于弹性膜(320)，并包括多孔质部件(334)，该多孔质部件具有用于吸附基板(WF)的基板吸附面(334a)和与减压单元(31)连通的减压部(334b)。