公开(公告)号：KR1020080066974A

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：KR1020087013076

申请日：2006-10-20

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  포멘코프아이고르브이. ,  베르그스테츠로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  라로빅이반

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/70583 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/034 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/105 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2333

Abstract: A method and apparatus may comprise a line narrowed pulsed excimer or molecular fluorine gas discharge laser system which may comprise a seed laser oscillator producing an output comprising a laser output light beam of pulses which may comprise a first gas discharge excimer or molecular fluorine laser chamber; a line narrowing module within a first oscillator cavity; a laser amplification stage containing an amplifying gain medium in a second gas discharge excimer or molecular fluorine laser chamber receiving the output of the seed laser oscillator and amplifying the output of the seed laser oscillator to form a laser system output comprising a laser output light beam of pulses, which may comprise a ring power amplification stage wherein the output of the seed laser oscillator passes through the amplifying gain medium of the ring power amplification stage at least two times per loop.

Abstract translation: 一种方法和装置可以包括线变窄的脉冲准分子或分子氟气放电激光系统，其可以包括种子激光振荡器，其产生包括可以包括第一气体放电准分子或分子氟激光室的脉冲的激光输出光束的输出; 第一振荡器腔内的线窄模块; 在第二气体放电准分子或分子氟激光室中包含放大增益介质的激光放大级，其接收种子激光振荡器的输出并放大种子激光振荡器的输出，以形成激光系统输出，该激光系统输出包括：激光输出光束 脉冲，其可以包括环形功率放大级，其中种子激光振荡器的输出通过环形功率放大级的放大增益介质至少每循环两次。

公开(公告)号：KR100358447B1

公开(公告)日：2002-10-25

申请号：KR1020000012732

申请日：2000-03-14

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  벅스다니엘엘.

IPC: H01L21/263

Abstract: 고 에너지 포톤 소스가 개시되었다. 한 쌍의 플라즈마 핀치 전극이 진공 챔버에 위치된다. 이 챔버는 소망하는 스펙트럼 라인을 제공하기 위해 선택된 활성 가스 및 노블 버퍼 가스를 포함하는 작용 가스를 함유한다. 펄스 파워 소스는 활성 가스의 스펙트럼 라인에서 방사선을 제공하는 작용가스에서 초고온, 고밀도 플라즈마 핀치를 발생시키기 위해 전그 사이에서 전기 방전을 일으키기에 충분한 전압으로 전기 펄스를 공급한다. 고 밀도 핀치의 위치 바로 위에 위치된 블라스트 실드는 그 축방향 연장을 제한하는 핀치를 한정하는 물리적 장벽을 제공한다. 바람직한 실시예에서, 플라즈마와 대면하는 실드의 표면은 돔 형상이다. 바람직한 실시예에서, 외부 반사 방사선 콜렉터-디렉터는 플라즈마 핀치에서 발생된 방사선을 수집하여 소망하는 방향으로 지향시킨다. 또한 바람직한 실시예에서 리튬 증기이고 버퍼 가스는 헬륨이고 방사선-콜렉터는 고 그레이징 입사 반사도를 갖는 물질로 코팅되거나 이 물질로 만들어 진다. 반사물질을 위한 양호한 선택은 몰리브데늄, 팔라디윰, 루데늄, 로듐, 금 또는 텅스텐이다.

公开(公告)号：KR1020020059825A

公开(公告)日：2002-07-13

申请号：KR1020027006940

申请日：2000-11-22

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  사이벌스키레이몬드에프. ,  포멘코프이고르브이. ,  에르쇼프알렉산더아이.

IPC: H01S3/22

Abstract: 높은 반복률의 고 에너지 레이저 빔을 생성하는 라인 협소화된 레이저내의 열 왜곡을 최소화하는 격자 기반 라인 협소화 디바이스용 헬륨 퍼지가 개시된다. 출원인은 종래의 질소 퍼지에 비해 헬륨 퍼지를 사용함으로써 성능면에서 실질적인 향상을 보여주었다. 바람직한 실시예에서, 헬륨 가스의 흐름은 격자(16)를 가로지른다. 다른 실시예에서, 퍼지 가스 압력은 감소되어서, 고온 가스 레이어의 광학효과를 감소시킨다.

公开(公告)号：KR1020020032545A

公开(公告)日：2002-05-03

申请号：KR1020027001587

申请日：2000-07-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처폴씨. ,  스미스브레트디. ,  벅스다니엘엘.

IPC: H01S3/00

Abstract: 2000㎐ 이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(20), 고체 스위치(44-46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(50)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로에서 압축되고 승압 펄스 변압기는 피크 전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그램된 프로세서(102)를 포함하는 펄스 제어 시스템은 초 당 적어도 4000 전하의 비율로 약 1% 미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다. 2000 내지 4000㎐ 이상의 펄스율에서 동작할 수 있는 바람직한 실시예에서, 가포화 인덕터(48,54,64)의 수냉장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR1020010074954A

公开(公告)日：2001-08-09

申请号：KR1020017002844

申请日：1999-08-18

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 모튼리차드지. ,  파틀로윌리엄엔.

IPC: H01S3/10

Abstract: 펄스 증배기 광학 시스템(79)은 엑시머 레이저 출력 빔을 수신하고, 각각 레이저 출력 빔에 비교하여 실질적으로 감소된 강도를 갖는 다수의 펄스를 갖는 증배기 출력 빔을 생성한다. 본 발명은 리소그래피 머신내의 광학 장비에 대한 이광자흡수 손상을 감소시키기 위한 ArF엑시머 레이저의 향상으로서 특별히 중요하다. DUV 스펙트럼 영역내의 용융 실리카의 압축 및 과다감광과 같은, 이광자과정을 포함하는 손상 머신에 대해, 피크전력에서의 4 감소의 요인은 레이저에 의해 방출된 단일 펄스내의 모든 에너지를 송출하는 단계에 비교하여 약 16 의 요인에 의해 합성 4-펄스 버스트에 의해 이루어지는 이광자흡수 손상의 양을 감소시킨다. 바람직한 실시예에서, 펄스 증배기 시스템은 엑시머 레이저상에 사전 정렬되고 빠르게 설치될 수 있는 모듈내에 포함된다.

公开(公告)号：KR1020010029769A

公开(公告)日：2001-04-16

申请号：KR1020000029940

申请日：2000-06-01

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  벅스다니엘엘.

IPC: H05H3/00

Abstract: PURPOSE: A plasma converging light source having improved pulse power source system is provide to work at a high repeat speed and generate high-energy ultraviolet rays and X-ray radiation by installing a pair of plasma pinch electrodes in a vacuum chamber including a working gas. CONSTITUTION: A pair of plasma pinch electrodes(8) are arranged within a vacuum chamber. The chamber houses a rear gas buffer groups and a working gas containing the active gas selected to impart desirable spectral rays. The pulse power source(10) provides electric pulses at voltage sufficiently higher than the voltage for forming a discharge between the electrodes in order to impart the radiation at the spectral ray of the active gas described above by forming the plasma pinch of an extremely high temperature and high density. More preferably, the electrodes are constituted coaxially with an axial anode. The optimization of a capacitance value and the length and shape of the anode is provided and a more preferable active gas supply system is disclosed.

Abstract translation: 目的：提供具有改进的脉冲电源系统的等离子体会聚光源，以高重复速度工作，并通过在包括工作气体的真空室中安装一对等离子体夹持电极而产生高能紫外线和X射线辐射 。 构成：一对等离子体夹紧电极（8）设置在真空室内。 该室容纳后气体缓冲剂组和含有活性气体的工作气体，以选择所述活性气体以赋予期望的光谱射线。 脉冲电源（10）提供的电脉冲的电压足够高于用于形成电极之间的放电的电压，以便通过形成极高温度的等离子体夹紧来使辐射在上述活性气体的光谱射线 和高密度。 更优选地，电极与轴向阳极同轴地构成。 提供电容值的优化以及阳极的长度和形状，并且公开了更优选的活性气体供应系统。

公开(公告)号：KR100246724B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019960082560

申请日：1996-12-31

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 왓슨톰에이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  라슨도날드지. ,  포멘코프이고르브이. ,  드로이터앤서니제이. ,  다스팰러쉬피.

IPC: H01S3/036

CPC classification number: H01S3/036 ,  F28D2021/0077 ,  H01S3/04 ,  H01S3/041 ,  H01S3/225

Abstract: 예를 들면, 사진 평판술이나 외과에서 유용한 레이저를 개시한다. 일실시예에서는 레이저에 방사실과 종래의 무배플 인클로저보다 인클로저내의 구성요소들을 확실하게 냉각시킬 수 있는 냉각 공기를 더 적게 필요로 하는 배플 인클로저내에 폐쇄되어 있는 열-발생(heat-generating) 전자장치가 포함되어 있다. 조화 공기의 양을 감소시키는 방법도 제공된다. 또다른 실시예에는 레이저에 열교환 시스템이 갖추어져 있고, 이 열교환시스템은 열교환기를 통하는 물의 흐름을 조절하는 유량 배분 밸브를 조정함으로써, 열교환기를 통하여 계속적으로 변하는 열교환율을 제공하여 레이징 가스의 온도를 일정하게 유지한다. 레이저 빔을 제공하는 방법 및 레이저 빔의 균일성을 향상시키는 방법도, 본 발명의 레이저 및 방법을 활용하는 사진평판방법과 함께 깨시한다.

公开(公告)号：KR1019970060605A

公开(公告)日：1997-08-12

申请号：KR1019960082560

申请日：1996-12-31

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 왓슨톰에이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  라슨도날드지. ,  포멘코프이고르브이. ,  드로이터앤서니제이. ,  다스팰러쉬피.

IPC: H01S3/036

Abstract: 예를 들면, 사진 평판술이나 외과에서 유용한 레이저를 개시한다. 일실시예에서는 레이저에 방사실과 종래의 무배플 인클로저보다 인클로저내의 구성요소들을 확실하게 냉각시킬 수 있는 냉각 공기를 더 적게 필요로 하는 배플 인클로저내에 폐쇄되어 있는 열-발생(heat-generating) 전자장치가 포함되어 있다. 조화 공기의 양을 감소시키는 방법도 제공된다. 또다른 실시예에는 레이저에 열교환 시스템이 갖추어져 있고, 이 열교환시스템은 열교환기를 통하는 물의 흐름을 조절하는 유량 배분 밸브를 조정함으로써, 열교환기를 통하여 계속적으로 변하는 열교환율을 제공하여 레이징 가스의 온도를 일정하게 유지한다. 레이저 빔을 제공하는 방법 및 레이저 빔의 균일성을 향상시키는 방법도, 본 발명의 레이저 및 방법을 활용하는 사진평판방법과 함께 개시한다.