有機単分子膜の形成方法および形成装置
    43.
    发明专利
    有機単分子膜の形成方法および形成装置 有权
    用于形成有机单分子膜的方法和装置

    公开(公告)号:JP2015101772A

    公开(公告)日:2015-06-04

    申请号:JP2013244184

    申请日:2013-11-26

    CPC classification number: C23C16/50 B05D1/60 B05D3/0433 C23C16/452 B05D1/62

    Abstract: 【課題】有機単分子膜を短時間で制御性良く形成することができる有機単分子膜の形成方法および形成装置を提供する。 【解決手段】被処理体表面に有機材料ガスを供給して有機単分子膜を形成するにあたり、チャンバ1内の被処理体Sに、被処理体の表面と化学結合を形成する結合サイトを有する有機分子を含む有機材料ガスを供給するとともに、有機材料ガスが被処理体Sに到達する前に有機材料ガスに励起水素生成機構4により生成した励起水素を供給して有機分子の結合サイトの末端を水素に置換し、その後、該水素に置換された末端と被処理体Sとの反応により有機単分子膜を形成する。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种形成有机单分子膜的方法和装置,其能够在短时间内形成有机单分子膜,具有良好的可控性。解决方案:一种形成有机单分子膜的方法,其能够提供有机材料 将待处理的物体S的表面的气体形成有机单分子膜包括:将具有与被处理体S的表面形成化学键的键合位置的有机分子的有机材料气体供给到体 S在腔室1中加工; 在有机材料气体到达要处理的主体S之前,将由激发氢气产生机构4形成的激发的氢气供给到有机材料气体,以用氢代替有机分子的键合位置的末端; 然后通过被氢取代的末端与被处理体S的反应形成有机单分子膜。

    스테인리스 스틸 소재의 고무 일체화 코팅처리방법
    47.
    发明授权
    스테인리스 스틸 소재의 고무 일체화 코팅처리방법 有权
    不锈钢橡胶涂层方法

    公开(公告)号:KR101682435B1

    公开(公告)日:2016-12-06

    申请号:KR1020160108442

    申请日:2016-08-25

    Inventor: 심경섭

    Abstract: 본발명은고무가교가활성화되는특정조건을기존과차별화된방식으로설정함으로써고무내 휘발성불순물이효율적으로제거될뿐 아니라단계적인온도상승을기반으로하는일련의건조및 경화행위에기인하여보다안정적으로고무의물성이확보되게하는스테인리스스틸소재의고무일체화코팅처리방법에관한것으로, 서로다른온도범위내에서설정된적어도복수이상의열풍건조및 냉각을거쳐스테인리스스틸소재일면으로 NBR(nitrile-butadiene rubber) 코팅이이루어지되, 스테인리스스틸소재와 NBR(nitrile-butadiene rubber)을제1건조로와제2건조로에서일정시간동안순차위치시키고, NBR 내함유된불순물을휘발시키기위하여제1건조로와제2건조로의내부온도를각각 50~70℃와 60~80℃로설정유지시키면서열풍으로예열및 건조함에따라 NBR이반응할수 있는시간을확보하면서기포발생이방지되게하는제1단계; 제1,2건조로를거친스테인리스스틸소재와 NBR을제3건조로와제4건조로에서일정시간동안순차위치시키고, 제3건조로와제4건조로의내부온도를각각 90~120℃와 120~150℃로설정유지시키면서열풍으로건조함에따라스테인리스스틸의표면온도를상승유도하여스테인리스스틸의차가운표면으로인해 NBR 가교에방해되지않게하는제2단계; 제3,4건조로를거친스테인리스스틸소재와 NBR을제5건조로와제6건조로에서일정시간동안순차위치시키고, 제5건조로와제6건조로의내부온도를 180℃로설정유지시키면서열풍및 IR(Infra-red) 램프로건조하는제3단계; 제5,6건조로를거친스테인리스스틸소재와 NBR을제7건조로에서일정시간동안위치시키고, 제7건조로의내부온도를 200℃로설정유지시키면서열풍및 MIR(Medium wave Infra-red) 램프로건조하는제4단계; 제7건조로를거친스테인리스스틸소재와 NBR을 10~20℃범위내에서수냉또는기냉을통해급속냉각시킴에따라표면경도를높이는제5단계;를포함하여이루어지는것을특징으로한다.

    금형 모재 코팅 방법
    48.
    发明公开
    금형 모재 코팅 방법 有权
    用于涂料的基本材料的方法

    公开(公告)号:KR1020110042620A

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:KR1020090099372

    申请日:2009-10-19

    CPC classification number: B05D7/14 B05D3/0433 B05D3/12 B05D3/142

    Abstract: PURPOSE: A method for coating a base material for die is provided to increase the adhesion of a base material and a coating layer by removing a compound layer of the base material surface generated through plasma nitriding process through ion gun etching. CONSTITUTION: A method for coating a base material for die comprises the steps of: (S210) plasma-nitriding the surface of base material to form a diffusion layer from the surface of the base material to the inside thereof; (S220) performing the ion gun etching and removing a compound layer which inevitably occurs at the upper part of the diffusion layer is removed by plasma nitriding; and (S230) coating the surface of the diffusion layer from which a compound layer is removed with a predetermined material.

    Abstract translation: 目的:提供一种涂布模具用基材的方法,通过通过离子枪蚀刻除去通过等离子体氮化处理产生的基材表面的化合物层来增加基材和涂层的粘附性。 构成:用于涂布模具用基材的方法包括以下步骤:(S210)等离子体氮化基材表面以形成从基材表面到其内部的扩散层; (S220),通过等离子体氮化除去在扩散层的上部不可避免地发生的化合物层的离子枪蚀刻和去除; 和(S230)用规定的材料涂布除去了化合物层的扩散层的表面。

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