公开(公告)号：KR1020140087998A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：KR1020130133605

申请日：2013-11-05

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 송현지 ,  박은수 ,  임상학 ,  곽택수 ,  김고은 ,  김미영 ,  김보선 ,  김봉환 ,  나융희 ,  배진희 ,  서진우 ,  윤희찬 ,  이한송 ,  전종대 ,  한권우 ,  홍승희 ,  황병규

IPC: C08G77/38 ,  C08G77/26 ,  C08L83/08 ,  H01B3/46

CPC classification number: C08G77/54 ,  C08G77/60 ,  C08G77/62 ,  C09D183/02 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  H01B3/02 ,  H01B3/303 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/0229 ,  H01L21/02326

Abstract: Provided is a modified hydrogenated polysiloxazane prepared by reacting hydrogenated polysiloxazane with a silane compound selected from the group consisting of polysilane, polycyclosilane and a silane oligomer. The modified hydrogenated polysiloxazane has small molar ratio of nitrogen atoms with respect to silicon atoms, and can markedly decrease layer shrinkage ratio during manufacturing a silica-based insulating layer when applied in a composition for manufacturing the silica-based insulating layer.

Abstract translation: 本发明提供了一种通过氢化聚硅氧氮烷与选自聚硅烷，聚环硅烷和硅烷低聚物的硅烷化合物反应制备的改性氢化聚硅氧氮烷。 改性氢化聚硅氧氮烷相对于硅原子具有小的氮原子摩尔比，并且当在用于制造二氧化硅基绝缘层的组合物中时，在制造二氧化硅基绝缘层期间可以显着降低层收缩率。

公开(公告)号：KR1020110075694A

公开(公告)日：2011-07-06

申请号：KR1020090132215

申请日：2009-12-28

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 최세영 ,  김재현 ,  김남광 ,  정의준 ,  김상균 ,  한권우 ,  성현후

IPC: G02B1/14 ,  C09D5/02 ,  C09D7/12 ,  C09D133/06 ,  C09D133/08 ,  C09D179/04 ,  C08L33/08 ,  G02B1/04 ,  C08K5/06 ,  C08L79/04 ,  G02B5/20

CPC classification number: G02B1/14 ,  C08K5/06 ,  C08L33/08 ,  C08L79/04 ,  C09D5/024 ,  C09D7/63 ,  C09D133/06 ,  C09D133/08 ,  C09D179/04 ,  G02B1/041 ,  G02B1/105 ,  G02B5/201 ,  Y10T428/10 ,  Y10T428/1005 ,  Y10T428/1036 ,  Y10T428/105 ,  C08L33/10 ,  C08L61/28

Abstract: PURPOSE: A resin composition for a protection layer of a color filter is provided to ensure high stability to the curing within molecules in the formation of a color filter protective film, excellent chemical resistance, and flatness. CONSTITUTION: A resin composition for a protection layer of a color filter comprises (A) 40-90 weight% of an acrylate-based resin including a repeating unit represented by chemical formulas 1-3, (B) 1-10 weight% of a melamine-based resin represented by chemical formula 4, (C) 0.1-0.5 weight% of a thermal acid generator, and (D) the balance of a solvent. The acrylate-based resin comprises 5-80 mole% of a repeating unit represented by chemical formula 1, 1-70 mole% of a repeating unit represented by chemical formula 2, and 10-45 mole% of a repeating unit represented by chemical formula 3.

Abstract translation: 目的：提供一种用于滤色器保护层的树脂组合物，以确保在形成滤色器保护膜期间分子内的固化的高稳定性，优异的耐化学性和平坦度。 构成：用于滤色器保护层的树脂组合物包括（A）40-90重量％的丙烯酸酯类树脂，其包含由化学式1-3，（B）表示的重复单元，1-10重量％的 由化学式4表示的三聚氰胺类树脂，（C）热酸产生剂的0.1-0.5重量％，（D）余量的溶剂。 丙烯酸酯类树脂包含5-80摩尔％的由化学式1表示的重复单元，1-70摩尔％的由化学式2表示的重复单元，10-45摩尔％的由化学式表示的重复单元 3。

公开(公告)号：KR1020090059965A

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：KR1020070127078

申请日：2007-12-07

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 이길성 ,  김재현 ,  이창민 ,  정의준 ,  한권우 ,  권오범 ,  최정식 ,  김종섭 ,  장두원 ,  조정현 ,  정슬영

IPC: G03F7/004 ,  H01L27/146

CPC classification number: G03F7/033 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028

Abstract: A photocurable resin composition is provided to manufacture an image sensor without a lower part over coating film due to excellent pattern formation property and chemical resistance and to reduce the generation of cross talk and the degradation of photosensitivity even if a pixel size of the image sensor is reduced. A photocurable resin composition for forming a pad protective layer comprises alkali soluble resin, a reactive unsaturated compound, a photoinitiator and solvent. The alkali soluble resin is a copolymer comprising a component represented by chemical formula 1 of 5 ~ 50 weight%; a component represented by chemical formula 2 of 1 ~ 25 weight%; and a component represented by chemical formula 3 of 45 ~ 90 weight%. In chemical formula 1, R11 ~ R13 are selected from the group consisting of hydrogen atom, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted cycloalkyl group, substituted or unsubstituted aryl group, and substituted or unsubstituted heteroaryl group.

Abstract translation: 提供了一种光固化树脂组合物，由于优异的图案形成性和耐化学性而制造了没有涂布膜下部的图像传感器，并且即使图像传感器的像素尺寸是图像传感器的像素尺寸，也减少了串扰的产生和光敏性的降低 降低。 用于形成垫保护层的光固化树脂组合物包括碱溶性树脂，反应性不饱和化合物，光引发剂和溶剂。 碱溶性树脂是包含由化学式1表示的成分为5〜50重量％的成分的共聚物; 由化学式2表示的成分为1〜25重量％的成分; 和由化学式3表示的成分为45〜90重量％的成分。 在化学式1中，R 11〜R 13选自氢原子，取代或未取代的烷基，取代或未取代的环烷基，取代或未取代的芳基和取代或未取代的杂芳基。

公开(公告)号：KR101767083B1

公开(公告)日：2017-08-10

申请号：KR1020130133605

申请日：2013-11-05

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 송현지 ,  박은수 ,  임상학 ,  곽택수 ,  김고은 ,  김미영 ,  김보선 ,  김봉환 ,  나융희 ,  배진희 ,  서진우 ,  윤희찬 ,  이한송 ,  전종대 ,  한권우 ,  홍승희 ,  황병규

IPC: C08G77/38 ,  C08G77/26 ,  C08L83/08 ,  H01B3/46

CPC classification number: C08G77/54 ,  C08G77/60 ,  C08G77/62 ,  C09D183/02 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  H01B3/02 ,  H01B3/303 ,  H01B3/46 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02211 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/0229 ,  H01L21/02326

Abstract: 수소화폴리실록사잔에폴리실란, 폴리사이클로실란및 실란올리고머로이루어진군에서선택되는실란화합물을반응시켜제조되는개질수소화폴리실록사잔을제공한다. 상기개질수소화폴리실록사잔은, 실리콘원자에대한질소원자의몰비가작기때문에실리카계절연층형성용조성물에적용되어실리카계절연층형성시막 수축률을현저히감소시킬수 있다.

公开(公告)号：KR1020140093542A

公开(公告)日：2014-07-28

申请号：KR1020130006096

申请日：2013-01-18

Applicant: 제일모직주식회사 ,  연세대학교 원주산학협력단

Inventor： 한권우 ,  홍승희 ,  이한송 ,  황병규 ,  김상균 ,  임상학 ,  박성진 ,  이명의 ,  조현모

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/0754 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0273

Abstract: According to an embodiment, provided are a resist underlayer composition including at least one of an organic silane-based compound selected from chemical compounds represented by chemical formula 1 below; and a solvent. In chemical formula 1, R1 and R2 are defined the same as in the specification.

Abstract translation: 根据实施方案，提供了抗蚀剂下层组合物，其包含选自下述化学式1表示的化合物的有机硅烷系化合物中的至少一种; 和溶剂。 在化学式1中，R1和R2的定义与说明书中相同。

公开(公告)号：KR1020140086727A

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：KR1020120157567

申请日：2012-12-28

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 김미영 ,  홍승희 ,  이한송 ,  한권우 ,  황병규 ,  곽택수 ,  김고은 ,  김봉환 ,  김상균 ,  박은수 ,  배진희 ,  송현지 ,  윤희찬 ,  임상학

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01L21/0273 ,  H04B1/40

Abstract: (a) 기판위에재료층을제공하는단계; (b) 상기재료층위에유기물로이루어진제1 레지스트하층막을형성하는단계; (c) 상기제1 레지스트하층막위에실리콘계레지스트하층막용조성물을스핀-온-코팅하여제2 레지스트하층막을형성하는단계; (d) 상기제2 레지스트하층막위에캡핑층(capping layer)을형성하는단계; (e) 상기캡핑층 위에방사선-민감성이미지화층을형성하는단계; (f) 상기방사선-민감성이미지화층을패턴방식으로방사선에노출시킴으로써상기방사선-민감성이미지화층 내에서방사선-노출된영역의패턴을생성시키는단계; (g) 상기방사선-민감성이미지화층 및상기제 2 레지스트하층막의부분을선택적으로제거하여상기제 1 레지스트하층막의부분을노출시키는단계; (h) 패턴화된제 2 레지스트하층막및 상기제 1 레지스트하층막의부분을선택적으로제거하여재료층의부분을노출시키는단계; (i) 제 1 레지스트하층막을마스크로하여재료층의노출된부분을에칭함으로써패턴화된재료형상을형성시키는단계; 및 (j) 잔존하는상기방사선-민감성이미지화층을제거하는단계를포함하는반도체집적회로디바이스의제조방법을제공한다.

Abstract translation: 一种制造半导体集成电路器件的方法包括以下步骤：（a）在衬底上提供材料层; （b）在所述材料层上形成由有机材料制成的第一抗蚀剂下膜; （c）通过在第一抗蚀剂下膜上旋涂硅基抗蚀剂下膜组合物来形成第二抗蚀剂下膜; （d）在第二抗蚀剂下膜上形成覆盖层; （e）在覆盖层上形成辐射敏感成像层; （f）根据图案化方法通过将辐射敏感成像层暴露于辐射来在辐射敏感成像层中产生辐射曝光区域图案; （g）通过选择性地去除所述辐射敏感成像层和所述第二抗蚀剂下膜的一部分来暴露所述第一抗蚀剂下膜的一部分; （h）通过选择性地去除所述图案化的第二抗蚀剂下膜和所述第一抗蚀剂下膜的一部分来暴露所述材料层的一部分; （i）通过使用第一抗蚀剂下膜作为掩模蚀刻材料层的暴露部分来形成图案化材料形状; 和（j）去除剩余的辐射敏感成像层。

公开(公告)号：KR1020140086726A

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：KR1020120157566

申请日：2012-12-28

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 한권우 ,  김미영 ,  홍승희 ,  이우진 ,  이한송 ,  임상학 ,  황병규 ,  김상균

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  H01L21/0273 ,  H04B1/40

Abstract: The present invention relates to a composition for a resist bottom layer and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit device using the same. The composition for a resist bottom layer comprises: an organic-silane-based compound produced by polycondensation of hydrolyzates generated from a compound presented by chemical formula 1, chemical formula 2, or chemical formula 3; and a solvent. [chemical formula 1] [R^1O]_3Si-X, [chemical formula 2] [R^2O]_3Si-R^3, [chemical formula 3] Y-L-R^4R^5Si-O-SiR^4R^5-L-Y R^1 or R^5, X, L, and Y are same as stated in the description.

Abstract translation: 抗蚀剂底层用组合物及其制造方法技术领域本发明涉及抗蚀剂底层用组合物及其制造方法。 抗蚀剂底层的组合物包括：通过由化学式1，化学式2或化学式3表示的化合物产生的水解产物缩聚制备的有机硅烷系化合物; 和溶剂。 [化学式1] [R 1 O] 3 Si-X，[化学式2] [R 2 O] 3 Si-R 3，[化学式3] YLR 4 4R 5 Si-O-SiR 4 4R 5 -LY R 1或R 5，X，L和Y与说明书中所述相同。

公开(公告)号：KR100918691B1

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：KR1020070127078

申请日：2007-12-07

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 이길성 ,  김재현 ,  이창민 ,  정의준 ,  한권우 ,  권오범 ,  최정식 ,  김종섭 ,  장두원 ,  조정현 ,  정슬영

IPC: G03F7/004 ,  H01L27/146

CPC classification number: G03F7/033

Abstract: 본 발명은 (A) 알칼리 가용성 수지, (B) 반응성 불포화 화합물, (C) 광개시제, 및 (D) 용제를 포함하며, 상기 (A) 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 구성 단위를 5 내지 50 중량%, 화학식 2로 표시되는 구성 단위를 1 내지 25 중량%, 및 화학식 3으로 표시되는 구성 단위를 45 내지 90 중량%로 포함하는 공중합체인 것인 패드(pad) 보호막 형성용 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용하는 이미지 센서(image sensor)의 제조 방법을 제공한다.
[화학식 1]

[화학식 2]

[화학식 3]

상기 R
11 내지 R
13 , R
21 내지 R
24 , 및 R
31 내지 R
33 에 대한 정의는 명세서의 상세한 설명에 기재된 바와 같다. 상기 패드 보호막 형성용 감광성 수지 조성물은 패턴성, 에칭성, 및 내화학성이 우수하여, 하부 오버코팅막 없이도 이미지 센서를 제조할 수 있도록 한다.
이미지센서, 감광성수지조성물, 패드, 패드보호막, 오버코팅막, 알칼리가용성수지

公开(公告)号：KR101583225B1

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：KR1020120158167

申请日：2012-12-31

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 홍승희 ,  송현지 ,  김미영 ,  곽택수 ,  김고은 ,  김봉환 ,  나융희 ,  박은수 ,  배진희 ,  윤희찬 ,  이한송 ,  임상학 ,  한권우 ,  황병규

IPC: H01B3/46 ,  C08L83/08

Abstract: 열에의해분해될수 있는보호기로보호되어있는열염기발생제를포함하는실리카계절연층형성용조성물을제공한다. 상기실리카계절연층형성용조성물은고온에서산화반응에의해치밀한실리카글래스로전환되었을때, 기재의수축률및 실리카계절연층의수축률을감소시키고, 보관안정성을개선시킬수 있다.

公开(公告)号：KR1020140125203A

公开(公告)日：2014-10-28

申请号：KR1020130043079

申请日：2013-04-18

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 배진희 ,  이한송 ,  임완희 ,  김고은 ,  곽택수 ,  김보선 ,  김상균 ,  나융희 ,  박은수 ,  서진우 ,  송현지 ,  조연진 ,  한권우 ,  황병규

IPC: C11D3/43 ,  H01L21/3105

CPC classification number: H01L21/0206 ,  C08G77/54 ,  C08G77/62 ,  C09D183/14 ,  C09D183/16 ,  C11D7/266 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02214 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02326 ,  H01L27/1085 ,  H01L28/40 ,  C11D3/43 ,  H01L21/3105

Abstract: The present invention relates to a rinse liquid for an insulating film and a method for rinsing an insulating film, wherein the rinse liquid includes a solvent represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, R^1 and R^a to R^e are defined as in the specification.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于绝缘膜的冲洗液和一种用于漂洗绝缘膜的方法，其中冲洗液包括由化学式1表示的溶剂。在化学式1中，R 1和R 2 a至R e 被定义为在说明书中。