웨이퍼 사이에 형성된 디커플링 커패시터, 그 디커플링커패시터를 포함하는 웨이퍼 스택 패키지, 및 그 패키지제조 방법
    51.
    发明授权
    웨이퍼 사이에 형성된 디커플링 커패시터, 그 디커플링커패시터를 포함하는 웨이퍼 스택 패키지, 및 그 패키지제조 방법 有权
    在晶片之间形成的去耦合电容器,包括相同电容器的晶片堆叠封装以及制造相同封装的方法

    公开(公告)号:KR100881182B1

    公开(公告)日:2009-02-05

    申请号:KR1020060115428

    申请日:2006-11-21

    Inventor: 강선원 백승덕

    Abstract: 본 발명은 파워 및 그라운드에 대한 안정화 효과를 극대화할 수 있는 디커플링 커패시터, 그 디커플링 커패시터를 포함하는 웨이퍼 스택 패키지 및 그 패키지 제조방법을 제공한다. 그 디커플링 커패시터는 제1 웨이퍼의 상면으로 형성된 제1 전극; 제2 웨이퍼의 하면으로 형성된 제2 전극; 및 제1 및 제2 웨이퍼를 결합시키며 고유전율을 가진 고유전 접착물질;을 포함하고, 제1 전극 및 제2 전극을 커패시터의 두 전극으로 하고 고유전 접착물질을 유전체로 하여 웨이퍼 사이에 형성된다. 또한, 그 웨이퍼 스택 패키지는 인쇄회로기판(printed circuit board: PCB); PCB 상에 적층되며, 각각 제1 면에 제1 전극이 형성되어 있고 제2 면에 제2 전극이 형성된 적어도 2개의 웨이퍼; 및 웨이퍼들을 각각 결합시키며 고유전율을 가진 고유전 접착물질;을 포함하며, 제1 전극 및 제2 전극이 커패시터의 두 전극이 되고 고유전 접착물질이 커패시터의 유전체가 되어 웨이퍼 사이로 디커플링 커패시터가 형성된다.

    반도체 소자의 금속배선 형성방법
    56.
    发明公开
    반도체 소자의 금속배선 형성방법 无效
    在半导体器件中制作分布金属线的方法

    公开(公告)号:KR1020050059617A

    公开(公告)日:2005-06-21

    申请号:KR1020030091318

    申请日:2003-12-15

    Abstract: 본 발명은 금속배선을 형성하는 공정이 단순화되도록 시드메탈층의 에칭 공정이 생략된 반도체 소자의 금속배선 형성방법에 관한 것으로서, 반도체 소자 상에 네가티브 경사(negative slope)를 가지는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 그 포토레지스트 패턴 및 그 반도체 소자 상에 시드메탈층(seed metal layer)을 형성하는 단계와, 그 시드메탈층이 형성된 포토레지스트 패턴을 리프트-오프(lift-off)시켜 그 포토레지스트 패턴을 그 반도체 소자로부터 분리하는 단계와, 그 반도체 소자 상에 잔존하는 잔존 시드메탈층 상에 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
    이에 따라, 에칭에 의한 화학적 손상이 방지되고, 언더컷(U)이 발생되지 않아 미세선폭의 메탈라인 작업이 가능하며, 시드메탈층 상에 적층되는 금속층이 그 시드메탈층의 상면뿐 아니라 모든 측면도 덮으므로 각 층간의 접합특성이 향상됨과 동시에 배리어(barrier) 특성이 향상되는 이점이 있다.

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