公开(公告)号：KR100252215B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019970017064

申请日：1997-05-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이중선 ,  임기환 ,  안요한 ,  최재흥

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N1/24 ,  G01N1/26 ,  G01N2015/1486

Abstract: PURPOSE: A system for monitoring the condition of a clean room measurement apparatus and a monitoring method thereof are provided to perform on-line the monitoring for the measuring instruments arranged in the clean room by observing the errors of the measuring instruments with a local area network(LAN). CONSTITUTION: A host computer(20) is connected to a LAN node processor(24) via an interface(22), and performs a warning operation by comparing the signals transmitted from a plurality of sensors and particle counters(16, 18). The particle counter(16) applies the voltage signal in response to the counted result to a signal converter(30). The signal converter(30) converts the voltage signal into the electrical signal of RS-232-C standard to transmit the LAN node processor(24). The particle counter(16) comprises a pump(32) for pumping air or gas. A flow controller(34) detects the quantity of flow pumped by pump(32), and converts an electrical signal to transmit to a signal converter(36).

Abstract translation: 目的：提供一种用于监测洁净室测量装置的状况的系统及其监视方法，通过用局域网观察测量仪器的误差，对布置在洁净室中的测量仪器进行在线监测 （LAN）。 构成：主计算机（20）经由接口（22）连接到LAN节点处理器（24），并且通过比较从多个传感器和粒子计数器（16,18）发送的信号来执行警告操作。 粒子计数器（16）将计数结果响应于电压信号施加到信号转换器（30）。 信号转换器（30）将电压信号转换成RS-232-C标准的电信号，以传送LAN节点处理器（24）。 颗粒计数器（16）包括用于泵送空气或气体的泵（32）。 流量控制器（34）检测由泵（32）泵送的流量，并将电信号转换成信号转换器（36）。

公开(公告)号：KR1020000015652A

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019980035688

申请日：1998-08-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김혁기 ,  한윤수 ,  류재준 ,  안요한

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: The wafer box prevents the generation of a particle due to the wearing with a wafer cassette. CONSTITUTION: A wafer box(10) receives a wafer cassette(11) where a wafer is placed in. The wafer box has a support pin(15) formed in the top inner side to receive and to support the wafer cassette. The wafer box prevents the wearing with the wafer by forming the support pin with a wear-resistant material. The wear-resistant material is formed by mixing an original material with a sub material. The original material is selected among composite materials such as polybutyl terephthalate and polyetheretherketone, and the sub material is selected among carbon-fiber and carbon-powder.

Abstract translation: 目的：晶圆盒可防止因晶片盒磨损而产生颗粒。 构成：晶片盒（10）接收放置晶片的晶片盒（11）。晶片盒具有形成在顶部内侧的支撑销（15），用于接收和支撑晶片盒。 晶片盒通过用耐磨材料形成支撑销来防止与晶片的磨损。 耐磨材料通过将原材料与副材料混合而形成。 原材料选自聚对苯二甲酸丁二醇酯和聚醚醚酮等复合材料，子材料选自碳纤维和碳粉。

公开(公告)号：KR100191234B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960035153

申请日：1996-08-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  김대원

IPC: H01L21/66

Abstract: 반도체 제조공정에 사용되는 초순수의 용존산소를 측정하여 규정된 초순수가 항상 각 제조설비에 공급될 수 있도록 하는 반도체 제조용 초순수의 용존산소 측정장치에 관한 것이다.
본 발명의 구성은 초순수배관(11)으로 흐르는 초순수의 일부가 연결배관(13)을 통해 용존산소측정기(12)로 공급되도록 하여 초순수의 용존산소를 측정하도록 된 반도체 제조용 초순수의 용존산소 측정장치에 있어서, 초순수배관(11)에 초순수저장탱크(15)를 유입배관(16)으로 연결하여 일정량의 초순수를 저장하고, 초순수배관(11)으로부터 용존산소측정기(12)로 초순수의 공급이 중단될 때 초순수저장탱크(15)에 저장된 초순수를 용존산소측정기(12)로 공급하도록 된 것이다.
따라서 설비의 가동이 중단된 상태에서도 초순수의 용존산소를 지속적으로 측정하는 것이 가능하므로 다시 설비를 가동시키는 경우에도 용존산소측정기의 안정화시간이 필요없어 설비의 가동율 및 제품의 생산성이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100187440B1

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019960006862

申请日：1996-03-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류재준 ,  안요한

IPC: H01L21/00

Abstract: 반도체장치 제조를 위한 클린룸(Clean Room) 내부의 파티클(Particle)에 대한 공간별 분포 및 양을 평가할 수 있도록 복수의 프로브를 설치하여 개조한 멀티 프로브 파티클 측정 장치에 관한 것이다.
본 발명은, 공기 흡입을 위한 복수개의 프로브(Probe), 튜브를 통하여 상기 복수 개의 프로브로부터 흡입되는 공기 중 테스트할 위치의 프로브로부터 흡입되는 공기를 선택적으로 배출하는 매니폴드(Manifold), 상기 매니폴드에 연결되어 상기 매니폴드에서 상기 프로브를 통한 공기흡입이 이루어지도록 펌핑동작하는 펌프 및 상기 매니폴드로부터 배출되는 공기에 포함된 파티클의 크기 및 양을 분석하는 파티클 카운터로 이루어진다.
따라서, 반도체 제조공정이 진행되는 클린룸 내부의 여러 위치에서의 파티클 측정에 필요한 시간이 감소되며, 공간적 및 시간적으로 정확하게 파티클 성향이 분석될 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980082260A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019970017065

申请日：1997-05-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  김태협

IPC: H01L21/66

Abstract: 반도체장치 제조공정을 관리하기 위한 네트워크가 형성된 시스템에서 RS-485나 RS-422 통신 방식을 사용하는 측정설비 및 기타 장치의 정상적인 신호 입출력 여부를 테스트하는 신호 전송 상태 테스트 장치에 관한 것으로서, RS-485 및 RS-422 통신 방식의 전송신호와 수신신호의 전송속도를 각각 감쇄하는 신호 카운터, 상기 신호카운터에서 감쇄된 각 신호의 레벨을 조정하는 신호레벨 조정부 및 상기 신호레벨 조정부에서 조정된 각 신호가 병렬 구성된 복수 개의 발광다이오드 별로 인가되는 발광부를 구비하여 상기 장치의 신호 입출력을 위한 포트와 케이블 사이에 접속되도록 구성되어 있어서 RS-485 및 RS-422 통신 신호의 정상적인 입출력이 손쉽게 체크될 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980015717A

公开(公告)日：1998-05-25

申请号：KR1019960035153

申请日：1996-08-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안요한 ,  김대원

IPC: H01L21/66

Abstract: 반도체 제조공정에 사용되는 초순수의 용존산소를 측정하여 규정된 초순수가 항상 각 제조설비에 공급될 수 있도록 하는 반도체 제조용 초순수의 용존산소 측정장치에 관한 것이다.
본 발명의 구성은 초순수배관(11)으로 흐르는 초순수의 일부가 연결배관(13)을 통해 용존산소측정기(12)로 공급되도록 하여 초순수의 용존산소를 측정하도록 된 반도체 제조용 초순수의 용존산소 측정장치에 있어서, 초순수배관(11)에 초순수저장탱크(15)를 유입배관(16)으로 연결하여 일정량의 초순수를 저장하고, 초순수배관(11)으로부터 용존산소측정기(12)로 초순수의 공급이 중단될 때 초순수저장탱크(15)에 저장된 초순수를 용존산소측정기(12)로 공급하도록 된 것이다.
따라서 설비의 가동이 중단된 상태에서도 초순수의 용존산소를 지속적으로 측정하는 것이 가능하므로 다시 설비를 가동시키는 경우에도 용존산소측정기의 안정화시간이 필요없어 설비의 가동율 및 제품의 생산성이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970051826A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950065738

申请日：1995-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이중선 ,  김대열 ,  안요한 ,  전재강

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 능동 구동형 에어 크린 롬 및 그 제어 방법에 관한 것으로서, 본 발명은 에어 크린 룸의 바닥을 간편하게 변경하여 샤워 효율을 극대화할 수 있는 능동 구동형 에어 크린 룸 및 그 제어 방법을 제공하는데 그 목적을 두고 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 능동 구동형 에어 크린 룸은 에어 크린 룸의 바닥에 설치된 복수 개의 샤워 디스크에 작업자가 탑승하였는가의 여부를 감지하는 감지부와, 상기 감지부에 의해 감지된 신호에 따라 구동되는 구동부와, 상기 구동부에 의해 연동되는 샤워 디스크의 작동과 동시에 공기를 분사하는 분사부와, 상기 분사부의 작동에 의해 이탈된 파티클을 배출하는 복수 개의 배출공으로 구성됨을 특징으로 한다.
한편 본 발명에 의한 능동 구동형 에어 크린 룸의 제어 방법은 전동기의 회전수 및 그 작동 방법(수동/자동)을 제어부에 입력하는 제1입력 스텝과, 상기 제1입력 스텝에 의해 입력된 자료를 근거로 제어부에서 전동기와 분사부를 동시에 작동시키는 작동 스텝과, 상기 작동 스텝에 의해 구동되는 전동기의 작동 상태에 관한 자료를 검출하여 제어부에 입력시키는 제2입력 스텝과, 상기 제2입력 스텝에 의해 입력된 자료를 근거로 제어부에서 전동기와 분사부를 동시에 정지시키는 정지 스텝으로 구성됨을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020080060539A

公开(公告)日：2008-07-02

申请号：KR1020060134757

申请日：2006-12-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임창수 ,  류주아 ,  문경록 ,  안요한 ,  이양구 ,  임숙희

IPC: H01L21/02

Abstract: An air filtering device and an air cleaning system of a semiconductor manufacturing line with the same are provided to maximize production yield by preventing the polluted air from being transferred between a duct and a frame of the filter. A predetermined pressure air is supplied into a main body of a duct(132). A filter media(146) having multiple holes filters contaminants included in the air by passing the air from the duct main body therethrough. A filter frame(144) surrounds edges of the filter media, and is coupled with the main body of the duct. A sealing member(142) seals a gap between the filter frame and the main body of the duct, so that air can not be transferred through the gap.

Abstract translation: 提供具有该空气过滤装置和半导体制造生产线的空气净化系统以通过防止污染的空气在管道和过滤器的框架之间传递来最大化生产产量。 预定的压力空气被供应到管道（132）的主体中。 具有多个孔的过滤介质（146）通过使来自导管主体的空气通过而对包含在空气中的污染物进行过滤。 过滤器框架（144）围绕过滤介质的边缘并且与管道的主体联接。 密封构件（142）密封过滤器框架和管道主体之间的间隙，使得空气不能通过间隙传递。

公开(公告)号：KR100830586B1

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：KR1020060126452

申请日：2006-12-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류주아 ,  임창수 ,  안요한 ,  최형석 ,  문경록

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/7085

Abstract: An apparatus and a method of exposing a substrate are provided to grasp properties of fluid using various measuring devices by simultaneously providing a small amount of fluid and a large amount of fluid according to properties of the measuring devices. An apparatus of exposing a substrate includes a light source, an illumination optical system, a projection optical system, and an immersion lithography unit. The light source emits light. The illumination optical system emits the light from the light source toward a reticle loaded on a reticle stage. The projection optical system irradiates the light from the reticle toward the substrate loaded on a substrate stage. The immersion lithography unit provides liquid to an optical path between the projection optical system and the substrate. The immersion lithography unit includes a vessel filled with the liquid, a supply line supplying the liquid to the vessel, a first drain line draining the liquid in the vessel, and a monitoring unit(100) having at least one or more measuring portions measuring properties of the liquid flowing through the first drain line.

Abstract translation: 提供一种暴露基板的装置和方法，以根据测量装置的特性同时提供少量的流体和大量的流体，利用各种测量装置来掌握流体的性质。 曝光基板的装置包括光源，照明光学系统，投影光学系统和浸没光刻单元。 光源发光。 照明光学系统将来自光源的光发射到装载在标线片台上的掩模版。 投影光学系统将来自掩模版的光照射到负载在基板台上的基板。 浸没光刻单元向投影光学系统和基板之间的光路提供液体。 浸没光刻单元包括填充有液体的容器，向容器供应液体的供应管线，排出容器中的液体的第一排水管线以及具有至少一个或多个测量部件的测量部件的监测单元（100） 流过第一排水管线的液体。

公开(公告)号：KR100719373B1

公开(公告)日：2007-05-17

申请号：KR1020050073884

申请日：2005-08-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최형석 ,  이용훈 ,  안요한 ,  이옥선

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70983

Abstract: 본 발명은 반도체 노광 설비 및 펠리클 검사 방법에 관한 것으로, 본 발명의 반도체 노광 설비는, 레티클과 펠리클이 분리되어 상기 레티클은 레티클 척의 상면에 탑재되고 상기 펠리클은 상기 레티클 척의 하면에 탈착가능하게 고정되어 상기 레티클 및 펠리클 사이에 일정한 공간을 형성하고, 상기 공간에 퍼징 기체를 도입 및 배출시키는 개구가 상기 레티클 척에 형성된 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 레티클 척 구조상에 간단하고 유용한 퍼징 시스템을 구현할 수 있어서 레티클의 패턴면에 대한 오염제어가 용이한 효과가 있다.
반도체, 레티클, 레티클 스테이지, 레티클 척, 펠리클

Abstract translation: 本发明涉及一种半导体曝光设备和防护膜检查方法，本发明的半导体曝光装置中，是分划板和薄膜分离光罩被固定到安装和防护膜是在掩模版卡盘的标线片卡盘顶表面上的下表面可分离 形成掩模版和薄膜之间，并且其中适当的空间用于引入和排出吹扫气体到形成在光罩夹具的空间中的开口。 利用这种结构，有这是容易控制污染到分划板的图案表面的效果，有可能实现一个简单的和有用的净化系统来构造光罩夹具。