저마찰 코팅층, 코팅방법 및 코팅장비
    51.
    发明公开
    저마찰 코팅층, 코팅방법 및 코팅장비 有权
    低摩擦涂层,低摩擦涂层方法和低摩擦涂装装置

    公开(公告)号:KR1020140078497A

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:KR1020120147920

    申请日:2012-12-17

    CPC classification number: C09D1/00 C09D7/61 C23C14/0688

    Abstract: Disclosed are a low friction coating layer, a coating method, and a coating apparatus, capable of preventing the concentration non-uniformity of low friction metal in a coating layer by making power in starting a coating process using a low friction metal source higher than power in terminating the coating process using the lower friction metal source, making power in starting a coating process using a titanium (Ti) source lower than power in terminating the coating process using the Ti source, and making an injection flux or a temperature in starting a coating process under nitrogen (Ni) atmosphere gas higher than the injection flux or the temperature in terminating the coating process under the Ni atmosphere gas.

    Abstract translation: 公开了一种低摩擦涂层,涂布方法和涂布装置,其能够通过使用高于功率的低摩擦金属源开始涂布工艺,从而防止涂层中低摩擦金属的浓度不均匀 在使用下摩擦金属源终止涂覆工艺时,使用低于功率的钛(Ti)源来开始涂覆工艺的能力,以终止使用Ti源的涂覆工艺,并且使喷射流量或启动温度 在氮气(Ni)气氛下的涂层工艺比注入焊剂高或终止Ni气氛下的涂层工艺温度。

    PVD 코팅장비의 오염도 측정방법
    52.
    发明授权
    PVD 코팅장비의 오염도 측정방법 有权
    PVD涂层污染物水平测量方法

    公开(公告)号:KR101356166B1

    公开(公告)日:2014-01-27

    申请号:KR1020110105187

    申请日:2011-10-14

    Abstract: 본 발명은 PVD 코팅장비 내부에 증착된 코팅물질의 양을 측정하여 객관적인 클리닝 주기를 설정함으로써 클리닝 효율을 극대화시키도록 한 것으로, 코팅작업 전 PVD 코팅장비의 내면에 접착수단으로 실리콘웨이퍼를 부착하는 웨이퍼 부착단계; 코팅작업 종료 후 부착된 실리콘웨이퍼를 분리하고, 그 분리한 실리콘웨이퍼의 일부를 절단하는 웨이퍼 절단단계; 실리콘웨이퍼의 절단면 코팅두께를 측정하여 증착된 코팅물질의 오염량을 관찰하고, 오염량이 설정수치 이상인지를 확인하는 오염량 확인단계;를 포함하는 PVD 코팅장비의 오염도 측정방법이 소개된다.

    나노멀티레이어 코팅층 형성방법 및 형성장치
    53.
    发明公开
    나노멀티레이어 코팅층 형성방법 및 형성장치 无效
    用纳米多层形成涂层的方法和装置

    公开(公告)号:KR1020130060544A

    公开(公告)日:2013-06-10

    申请号:KR1020110126658

    申请日:2011-11-30

    Abstract: PURPOSE: A nanomultilayer coating layer forming method and a forming device are provided to improve corrosion resistance and conductivity by controlling a crystal growth direction through the control of bias voltage in a coating process and to use metal including excellent conductivity for a minute tissue and a multilayer on a CrN coating layer. CONSTITUTION: A Mo coating layer is formed on base metal by using a Mo target and Ar gas of a steering device(S100). A nitride film is formed by using the Ar gas and N-2 gas of an arc ionic plating device(S200). A nano complex coating layer of the Cr-Mo-N is formed on the base metal by simultaneously using a Mo target and the Ar gas of the steering device and the Ar gas, and N-2 gas, a Cr source of the arc ionic plating device(S300). The base metal revolves around a rotary shaft, and a multilayer on which the nano complex coating layer of Cr-Mo-N and the Mo coating layer are repeated is coated(S400). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S100) First coating step; (S200) Nitriding step; (S300) Second coating step; (S400) Multi coating step

    Abstract translation: 目的:提供纳米多层涂覆层形成方法和成形装置,以通过在涂布工艺中控制偏压来控制晶体生长方向,并且使用包括优异导电性的金属用于微小组织和多层膜来提高耐腐蚀性和导电性 在CrN涂层上。 构成:通过使用转向装置的Mo靶和Ar气体在母材上形成Mo涂层(S100)。 通过使用电弧离子镀装置的Ar气体和N-2气体来形成氮化膜(S200)。 通过同时使用Mo靶和转向装置的Ar气体和Ar气体,以及N-2气体,电弧离子的Cr源,在基体金属上形成Cr-Mo-N的纳米复合涂层 电镀装置(S300)。 基体金属围绕旋转轴旋转,并且涂覆其上重复Cr-Mo-N和Mo涂层的纳米复合物涂层的多层(S400)。 (附图标记)(AA)开始; (BB)结束; (S100)第一涂布步骤; (S200)氮化步骤 (S300)第二涂布步骤; (S400)多涂层步骤

    나노멀티레이어 코팅층, 그 형성방법 및 형성장치

    公开(公告)号:KR101926881B1

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:KR1020130166817

    申请日:2013-12-30

    Abstract: 스퍼터링기구와 아크이온플레이팅기구가 구비된 물리기상증착기를 이용한 코팅층 형성방법으로서, 모재에 스퍼터링기구의 Mo 타겟과 Ar 가스를 이용하여 Mo코팅층을 형성하는 제1코팅단계; 아크이온플레이팅기구의 Ar 가스 및 N
    2 가스를 이용하여 질화물 박막 형성 분위기를 형성하는 질화단계; 모재에 스퍼터링기구의 Mo 타겟과 Ar 가스 및 아크이온플레이팅기구의 Ar 가스, N
    2 가스 및 Cr 소스를 동시에 이용하여 Cr-Mo-N의 나노복합코팅층을 형성하는 제2코팅단계; 및 모재를 회전축을 중심으로 공전시킴으로써 Cr-Mo-N의 나노복합코팅층과 Mo코팅층이 반복되는 멀티레이어로 코팅하는 멀티코팅단계;를 포함하는 나노멀티레이어 코팅층 그 형성방법 및 형성장치가 소개된다.

    플라즈마 코팅에 의한 고체 전해질막의 제조방법
    57.
    发明公开
    플라즈마 코팅에 의한 고체 전해질막의 제조방법 无效
    通过等离子喷涂制造固体电解质膜的方法

    公开(公告)号:KR1020170111576A

    公开(公告)日:2017-10-12

    申请号:KR1020160037341

    申请日:2016-03-29

    CPC classification number: Y02E60/525 Y02P70/56

    Abstract: 본발명은플라즈마코팅에의한고체전해질막의제조방법에관한것으로, 보다상세하게는기존의전해질막형성시 고온소결과같이고온에서의열처리공정대신최적화된 RF 파워, 압력및 온도조건에서스퍼터링공정을실시하여제조함으로써생산성및 전지의안정성, 수명특성을향상시키면서도고밀도및 고출력의고체전해질막을형성할수 있으며, 박막화및 대면적화가가능하고, 우수한이온전도도를가져전지의성능을크게향상시킬수 있는플라즈마코팅에의한고체전해질막의제조방법에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种固体电解质膜的制造方法通过等离子喷涂,并且更具体地,通过在RF功率进行溅射过程中,压力和温度条件的优化而不是eseoui热处理工艺温度,在形成常规电解质膜,高温牛结果 由生产率制备并提高可靠性,电池的寿命特性,同时仍具有高密度并且可以通过使在电池的性能sikilsu等离子体涂层的显著增加形成薄膜和大面积的高输出的固体电解质膜缩锻可能的,和优良的离子传导性,所述固体 电解质膜的制备方法。

    다공성 고분자 수지층 및 그 제조방법
    58.
    发明授权
    다공성 고분자 수지층 및 그 제조방법 有权
    多孔聚合物树脂层及其制造方法

    公开(公告)号:KR101744806B1

    公开(公告)日:2017-06-08

    申请号:KR1020140177800

    申请日:2014-12-10

    Abstract: 본발명은, 0.3 ㎜내지 1.5 ㎜의최대직경을갖는기공을포함하는바인더수지; 및상기바인더수지에분산된에어로겔;을포함하고, ASTM E1269 에의해측정한체적열용량이 3,200 KJ/(mK) 이하인다공성고분자수지층및 그제조방법에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及包含最大直径为0.3mm至1.5mm的孔的粘合剂树脂; 并且,通过ASTM E1269测定的体积热容量为3,200KJ /(mK)以下的分散于粘合剂树脂中的气凝胶以及该多孔质聚合物树脂层的制造方法。

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