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公开(公告)号:DE102012106431A1
公开(公告)日:2013-01-24
申请号:DE102012106431
申请日:2012-07-17
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: MAHLER JOACHIM , MENGEL MANFRED , HOSSEINI KHALIL , SCHMIDT KLAUS , KALZ FRANZ-PETER
IPC: H01L21/58 , H01L21/60 , H01L23/495
Abstract: Ein elektronisches Bauteil weist einen elektrisch leitenden Träger auf. Der elektrisch leitende Träger weist eine Trägeroberfläche auf und ein Halbleiterchip weist eine Chipoberfläche auf. Die Trägeroberfläche und/oder die Chipoberfläche weisen eine nicht ebene Struktur auf. Der Chip wird an dem Träger mit der Chipoberfläche zu der Trägeroberfläche gerichtet derart befestigt, dass eine Spalte zwischen der Chipoberfläche und der Trägeroberfläche aufgrund der nicht ebenen Struktur der Trägeroberfläche und/oder der ersten Chipoberfläche bereitgestellt wird. Das elektronische Bauteil weist ferner eine erste galvanisch abgelagerte metallische Schicht, die sich in der Spalte befindet, auf.
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公开(公告)号:DE102012104304A1
公开(公告)日:2012-11-22
申请号:DE102012104304
申请日:2012-05-18
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HOSSEINI KHALIL , SCHULZE HANS-JOACHIM
IPC: H01L21/60 , C23C4/12 , H01L21/283 , H01L21/56 , H01L21/58 , H01L21/768 , H01L23/48
Abstract: Durch ein Verfahren wird eine Metallschicht auf einem Halbleiter-Substrat hergestellt. Eine Metallschicht wird durch Abscheiden von Metallpartikeln auf dem Halbleiter-Substrat hergestellt. Die Metallpartikel enthalten aus einem ersten Metallmaterial hergestellte Kerne und die Kerne umgebende Schalen. Die Schalen sind aus einem oxidationsbeständigen zweiten Metallmaterial hergestellt.
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公开(公告)号:DE102011053955A1
公开(公告)日:2012-03-29
申请号:DE102011053955
申请日:2011-09-27
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HOSSEINI KHALIL , MAHLER JOACHIM , MENGEL MANFRED
IPC: H01L23/488 , H01L21/60
Abstract: Ein Verfahren und ein System zum Verbessern der Zuverlässigkeit einer Halbleitervorrichtung werden bereitgestellt. In einer Ausführungsform wird eine Halbleitervorrichtung bereitgestellt, die einen Halbleiterchip (102), eine einen metallischen Werkstoff aufweisende Metallisierungsschicht (104), die auf einer Oberfläche (103) des Halbleiterchips (102) angeordnet ist, und eine den metallischen Werkstoff aufweisende Legierungsschicht (106), die auf der Metallisierungsschicht (104) angeordnet ist, umfasst.
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公开(公告)号:DE102011001770A1
公开(公告)日:2011-12-01
申请号:DE102011001770
申请日:2011-04-04
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HOSSEINI KHALIL
IPC: H01L21/56 , H01L21/304 , H01L21/60 , H01L23/31 , H01L23/48
Abstract: Es werden ein Verfahren und ein System zum Ausbilden eines dünnen Halbleiterbauelements offenbart. Bei einer Ausführungsform wird ein Systemträger (102) über einem Träger (100) bereitgestellt. Mindestens ein Halbleiterchip (108) wird auf dem Systemträger (102) bereitgestellt, und der mindestens eine Halbleiterchip (108) wird mit einem Kapselungsmaterial (120) gekapselt. Die Dicke des mindestens einen Halbleiterchips (108) und des Kapselungsmaterials (120) werden reduziert. Mindestens eine Durchverbindung (128, 130, 132) wird in dem Kapselungsmaterial (120) ausgebildet, und mindestens ein elektrisches Kontaktelement (134, 136, 138) wird über dem mindestens einen Halbleiterchip (108) und der mindestens einen Durchverbindung (128, 130, 132) ausgebildet.
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55.
公开(公告)号:DE102005039165B4
公开(公告)日:2010-12-02
申请号:DE102005039165
申请日:2005-08-17
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HOSSEINI KHALIL
IPC: H01L21/60 , H01L23/488
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公开(公告)号:DE102006023998A1
公开(公告)日:2007-12-06
申请号:DE102006023998
申请日:2006-05-22
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HOSSEINI KHALIL , MAHLER JOACHIM
IPC: H01L23/488 , H01L21/60
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公开(公告)号:DE102005011159A1
公开(公告)日:2006-09-21
申请号:DE102005011159
申请日:2005-03-09
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HOSSEINI KHALIL , KOENIGSBERGER ALEXANDER
Abstract: Semiconductor component (1) has surface mountable external contacts (2-5), which has external contact surface on the lower surface (6) of the housing (7) of the semiconductor components. A source contact surface (10) and a gate contact surface (11) are provided at the top surface (9) of the semiconductor chip (8) whereby a drain contact surface is provided at the rear surface (12) of semiconductor chip. A cooling body (13) is provided, which has a top surface (14), a lower surface (15) and a recess (16) on the lower surface whereby its top surface forms a coplanar upper surface with the housing upper surface (17). The semiconductor chip is arranged with the source contact area in the recess and this source contact area is electrically connected with the cooling body. The lower surface of the cooling body and the drain contact area of the semiconductor chip are arranged in the housing plane, which is formed by the surface-mountable external contacts. The lower surface of the cooling body with a source external contact (S) and the drain contact area with the drain external contact (D) and the gate contact area with the gate external contact (G) stand in electrical connection on the lower surface of the semiconductor component by a connecting element (19). An independent claim is also included for the method for the production of the semiconductor component.
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公开(公告)号:DE102004048201A1
公开(公告)日:2006-04-13
申请号:DE102004048201
申请日:2004-09-30
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: MAHLER JOACHIM , HAIMERL ALFRED , SCHOBER WOLFGANG , BAUER MICHAEL , HOSSEINI KHALIL , KESSLER ANGELA
IPC: H01L23/10 , B82B3/00 , C01B31/00 , C08J5/24 , C09C1/44 , C09D5/25 , C09J5/06 , H01L21/56 , H01L21/58
Abstract: A layer improves adhesion between interfaces of different components in semiconductor devices. The interface of a first component includes surfaces of a circuit carrier and the interface of a second component includes contact surfaces of a plastic package molding compound. The adhesion-improving layer includes a mixture of polymeric chain molecules and carbon nanotubes.
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公开(公告)号:DE102013112708B4
公开(公告)日:2022-06-15
申请号:DE102013112708
申请日:2013-11-18
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: MEYER-BERG GEORG , HOSSEINI KHALIL , MAHLER JOACHIM , FUERGUT EDWARD
IPC: H01L21/58 , H01L21/268 , H01L21/60 , H01L23/492
Abstract: Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils, wobei das Verfahren umfasst:Bereitstellen eines Trägers;Bereitstellen eines Halbleiterchips;Auftragen einer Verbindungsschicht auf eine erste Hauptfläche des Halbleiterchips, wobei die Verbindungsschicht eine Mehrzahl von Vertiefungen umfasst;Auftragen eines wärmeschrumpffähigen Füllmaterials auf die Verbindungsschicht oder den Träger;derartiges Befestigen des Halbleiterchips am Träger, dass die Verbindungsschicht zwischen dem Halbleiterchip und dem Träger angeordnet ist; undAnwenden von einem oder mehreren von Wärme und Druck, um den Halbleiterchip am Träger zu fixieren.
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公开(公告)号:DE102014103295B4
公开(公告)日:2021-01-07
申请号:DE102014103295
申请日:2014-03-12
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: FUERGUT EDWARD , HOSSEINI KHALIL , MAHLER JOACHIM , MEYER-BERG GEORG , STEINER RAINER
IPC: H01L23/495 , H01L21/50 , H01L21/60 , H01L23/31
Abstract: Chipanordnung, mit:einem Chipträger (102, 402), wobei der Chipträger (102, 402) eine Mehrzahl von durchgehenden Gräben aufweist;einem auf dem Chipträger (102, 402) angebrachten Chip (104, 404), wobei der Chip (104, 404) wenigstens zwei Chipkontakte (106, 406) aufweist, die dem Chipträger (102, 402) zugewandt sind; undIsolierhaftmittel (108, 408) zwischen dem Chip (104, 404) und dem Chipträger (102, 402), um den Chip (104, 404) auf dem Chipträger (102, 402) haftend aufzubringen;wobei die wenigstens zwei Chipkontakte (106, 406) mit dem Chipträger (102, 402) mittels wenigstes eines Kontaktdurchgangslochs elektrisch gekoppelt sind;wobei das wenigstens eine Kontaktdurchgangsloch zumindest teilweise mittels eines über den Chipkontakten (106, 406) angeordneten und mit einem elektrisch leitfähigen Material vollständig gefüllten Grabens gebildet ist; undwobei wenigstens ein nicht über den Chipkontakten (106, 406) angeordneter Graben eine hohle Struktur (422) in dem Chipträger (102, 402) bildet.
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