公开(公告)号：CN102165372A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200980137614.1

申请日：2009-08-26

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： W·A·索尔 ,  A·M·雅库尼恩 ,  M·J·J·杰克 ,  D·马修 ,  H·J·凯特拉里基 ,  F·C·范登荷尤维尔 ,  P·E·M·库基皮尔斯

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/7095 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/208 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/061

Abstract: 一种透射光谱纯度滤光片(100)，配置成透射极紫外辐射。光谱纯度滤光片(102F)包括滤光片部分(100)，所述滤光片部分(100)具有配置成透射极紫外辐射并抑制第二类型辐射的透射的多个孔(104)。每个孔(104)通过各向异性蚀刻工艺制造。

公开(公告)号：CN101968609A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN201010265577.7

申请日：2007-09-18

Applicant: 卡尔·蔡司半导体技术股份公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： D·H·埃姆 ,  S·米勒伦德 ,  T·施泰因 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  B·T·沃尔斯施里金 ,  D·克劳斯 ,  R·维尔斯路易斯 ,  M·G·H·迈耶因克

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03B27/16 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G21K2201/061

Abstract: 本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于EUV光刻的投影曝光设备(1)，包括：围住内部空间(15)的外壳(2)；至少一个布置在所述外壳(2)中的光学元件(4至10，12，14.1至14.6)，特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中产生真空的真空产生单元(3)；以及至少一个真空外壳(18，18.1至18.10)，布置在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中，并且至少围住所述光学元件(4至10，12，14.1至14.5)的光学表面(17，17.1，17.2)，其中，污染降低单元与所述真空外壳(18.1至18.10)关联，相对于所述内部空间(15)中的所述污染物质的分压，所述污染降低单元降低至少在所述光学表面(17，17.1，17.2)附近处污染物质的分压，特别是水和/或碳氢化合物的分压。

公开(公告)号：CN101960338A

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200980106463.3

申请日：2009-02-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： W·A·索尔 ,  V·Y·班尼恩 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  M·M·J·W·范赫彭 ,  A·M·亚库林

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G02B5/208 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。

公开(公告)号：CN101495921A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780027669.8

申请日：2007-09-18

Applicant: 卡尔·蔡司半导体技术股份公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： D·H·埃姆 ,  S·米勒伦德 ,  T·施泰因 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  B·T·沃尔斯施里金 ,  D·克劳斯 ,  R·维尔斯路易斯 ,  M·G·H·迈耶因克

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03B27/16 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G21K2201/061

Abstract: 本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于EUV光刻的投影曝光设备(1)，包括：围住内部空间(15)的外壳(2)；至少一个布置在所述外壳(2)中的光学元件(4至10，12，14.1至14.6)，特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中产生真空的真空产生单元(3)；以及至少一个真空外壳(18，18.1至18.10)，布置在所述外壳(2)的所述内部空间(15)中，并且至少围住所述光学元件(4至10，12，14.1至14.5)的光学表面(17，17.1，17.2)，其中，污染降低单元与所述真空外壳(18.1至18.10)关联，相对于所述内部空间(15)中的所述污染物质的分压，所述污染降低单元降低至少在所述光学表面(17，17.1，17.2)附近处污染物质的分压，特别是水和/或碳氢化合物的分压。

公开(公告)号：CN1675720A

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN03819527.5

申请日：2003-06-19

Applicant: 谢诺思公司

Inventor： P·霍格霍伊 ,  A·达里埃尔 ,  S·罗德里格斯

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: 本发明涉及具有横向梯度反射多层膜的光学单元(10)，该光学单元的反射表面用于反射锐角入射的X射线并产生二维光学效应，其特征在于所述反射表面由单一表面构成，所述表面根据对应于两个不同方向的两个曲率成型。本发明还涉及制造所述光学单元的方法，其特征在于该方法包括已经具有曲率的基质上镀膜，而且所述基质的曲率沿着第二不同方向。本发明还公开了用于产生和处理RX发散角度的X光反射仪的装置，包括如上所述的光学单元，结合到X射线源上，以便光源发出的X射线在二维方向上被处理，以便调整光源对于样本所发出的光束，X光束的入射角度不同于所考虑的样本。

公开(公告)号：CN1662999A

公开(公告)日：2005-08-31

申请号：CN03814508.1

申请日：2003-06-19

Applicant: 谢诺思公司

Inventor： P·霍格霍伊 ,  A·达里埃尔 ,  S·罗格里格斯

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: 本发明涉及一种用来处理入射X射线束的光学装置，所述装置包括：·单色仪(M)和·用于调节入射光束的光学元件(20)，其反射表面能够产生二维光学效果，以便适应在单色仪目的地的光束，所述光学元件包括多层结构类型的反射X射线的表面，其特征在于：所述反射表面由单个表面组成，所述反射表面是对应两个不同方向根据两个曲率成形的。

公开(公告)号：CZ20020791A3

公开(公告)日：2002-11-13

申请号：CZ20020791

申请日：2000-08-01

Applicant: OSMIC

Inventor： JIANG LICAI ,  VERMAN BORIS

IPC: G02B26/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G21K1/06 ,  G21K1/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

公开(公告)号：NL2005960C

公开(公告)日：2011-08-30

申请号：NL2005960

申请日：2011-01-06

Applicant: MEDIA LARIO SRL

Inventor： CEGLIO NATALE M ,  NOCERINO GIOVANNI ,  ZOCCHI FABIO

IPC: G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70941 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/10 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G21K2201/061 ,  H05G2/005

公开(公告)号：NL2005245C

公开(公告)日：2012-02-21

申请号：NL2005245

申请日：2010-08-18

Applicant: UNIV TWENTE

Inventor： GOOR FREDERIK ALBERT ,  BIJKERK FREDERIK ,  BOOGAARD ANTONIUS JOHANNES RONALD ,  MEER ROBERT

IPC: G02B5/18 ,  G02B5/20 ,  G02B27/10 ,  G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: G02B5/1876 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/188 ,  G02B5/189 ,  G02B5/208 ,  G02B27/1006 ,  G02B27/141 ,  G02B27/142 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/062 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

公开(公告)号：ZA8407129B

公开(公告)日：1985-06-26

申请号：ZA8407129

申请日：1984-09-11

Applicant: ENERGY CONVERSION DEVICES INC

Inventor： KEEM JOHN EDWARD ,  MARSHALL GERALD FRANCIS

IPC: G01N23/00 ,  G21K1/06 ,  H05G ,  H01J

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064