公开(公告)号：CN102549705A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201080043549.9

申请日：2010-09-24

Applicant: 普莱克斯技术有限公司

Inventor： A.辛哈 ,  S.M.坎珀 ,  L.A.布朗

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/16 ,  H01J37/08 ,  C23C14/56

CPC classification number: H01J37/3171 ,  C23C14/48 ,  C23C14/564 ,  H01J37/08 ,  H01J37/32412 ,  H01J37/32862 ,  H01J2237/022

Abstract: 本发明部分涉及一种用于清洗在半导体和微电子制造中使用的离子注入机的离子源组件的方法。所述离子源组件包括电离室和所述电离室内所容纳的一个或多个组件。所述电离室的内部和/或所述电离室内所容纳的所述一个或多个组件在其上具有如碳硼烷(C2B10H12)的掺杂气体内所含元素的至少一些沉积物。所述方法涉及将清洗气体引入至电离室中，以及在足以从电离室的内部和/或从电离室内所容纳的一个或多个组件上去除沉积物的至少一部分的条件下，使清洗气体与沉积物反应。所述清洗气体为F2、选自稀有气体和/或氮气的一种或多种惰性气体和任选O2的混合物，或含氧/氟气体和选自稀有气体和/或氮气的一种或多种惰性气体的混合物。沉积物不利地影响离子注入机的正常操作，导致频繁停工时间和降低工具利用率。

公开(公告)号：CN102308356A

公开(公告)日：2012-01-04

申请号：CN201080006695.4

申请日：2010-01-11

Applicant: TEL埃皮恩公司

Inventor： M·D·塔巴 ,  M·C·格温 ,  R·K·贝克尔 ,  A·弗雷特西斯 ,  M·格拉夫

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/0812 ,  H01J2237/0825 ,  H01J2237/0827

Abstract: 公开了一种用于将工艺气体混合物或多种工艺气体混合物引入到气体团簇离子束(GCIB)系统(100、100’、100”)中的多喷嘴和分离器组件以及在衬底(152、252)上生长、改性、沉积或掺杂层的相关操作方法。多喷嘴和分离器组件包括至少两个喷嘴(116、1016、2110、2120、4110、4120、7010、7020)，这些喷嘴被布置成相互紧靠以将从喷嘴喷射出的气体团簇束至少部分地合并成单一气体团簇束(118)和/或被倾斜以将每一束朝向单一相交点(420)而会合以形成一组相交的气体团簇束，以及将单一和/或相交的气体团簇束引导到气体分离器中。

公开(公告)号：CN1909147B

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200610099530.1

申请日：2006-07-26

Applicant: ICT半导体集成电路测试有限公司

Inventor： 沃夫冈·皮尔茨 ,  罗萨尔·比斯彻夫

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J9/02

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J27/26 ,  H01J2237/0805 ,  H01J2237/31749

Abstract: 本发明提供了一种用于液态金属离子源的发射器(100)，所述发射器包括导线(100)，所述导线包括：基本弯曲的部分(115)和表面(120)；其中，导线表面(120)至少一部分(125)在所述基本弯曲的部分(115)处变尖以形成发射器尖端。此外，还提供了用于这种发射器的制造方法。

公开(公告)号：CN101490789B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200780027484.7

申请日：2007-07-12

Applicant: 阿维扎技术有限公司

Inventor： 加里·普劳德富特 ,  戈登·罗伯特·格林 ,  罗伯特·肯尼思·特罗韦尔

IPC: H01J27/18 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J27/18 ,  H01J27/024 ,  H01J37/04 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/04735 ,  H01J2237/083

Abstract: 本发明涉及离子枪(10)，所述离子枪包括由RF源(12)驱动的等离子发生器(11)、具有输出端(14)的等离子或源腔(13)，穿过输出端(14)安装有加速器格栅(15)。加速器格栅(15)包括四个独立的格栅。最靠近输出端(14)的第一格栅(16)由DC电源(16a)保持正电压，第二格栅(17)由DC电源(17a)保持在强负电压。第三格栅(18)由DC电源(18a)保持在负电压，所述负电压远低于第二格栅(17)，并且第四格栅(19)接地。也描述了安装这些格栅的装置。

公开(公告)号：CN101449354B

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN200780018052.X

申请日：2007-05-17

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 宝·梵德伯格 ,  维特·班威尼斯特 ,  约翰·法龙 ,  艾亚·波奇杜夫

IPC: H01J37/317 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J27/08

CPC classification number: H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/304 ,  H01J37/32467 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/082 ,  H01J2237/31701

Abstract: 本发明公开了一种用于产生离子流的示例性离子源，所述离子源具有至少部分地界定电弧室的离子化区的铝合金电弧室主体。电弧室主体和热丝状体电弧室壳体一起使用，所述热丝状体电弧室壳体或者直接或者间接地将阴极加热到足够的温度，以使电子流动通过电弧室的离子化区。温度传感器监测电弧室内的温度，并提供与感测的温度相关的信号。当传感器进行测量时控制器监测感测的温度，并调节温度以将感测的温度保持在一范围内。

公开(公告)号：CN101960553A

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200980108024.6

申请日：2009-03-04

Applicant: 三井造船株式会社

Inventor： 辻康之

IPC: H01J27/08 ,  H01J27/14

CPC classification number: H01J27/14 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/082 ,  H01J2237/16

Abstract: 本发明的离子源(1)具有：等离子体容器(10)；和一对热电子释放元件(12、14)，该一对热电子释放元件在等离子体容器(10)的内部空间中释放热电子；和电源，其使电流各流入至热电子释放元件(12、14)。曝露于等离子体容器(10)内的等离子体的内壁面，和热电子释放元件(12、14)的曝露于等离子体且释放热电子的部分，是以相同金属为主成分的材料所构成。因此，在离子源(1)在运转中，在热电子释放元件(12、14)的表面附着的堆积层的成分和热电子释放元件(12、14)的材料是同一成分，据此，能够释放稳定的热电子，同时，使至交换热电子释放元件(12、14)的离子源(1)的运转时间变长。

公开(公告)号：CN101405830B

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN200780010223.4

申请日：2007-02-08

Applicant: 凡利安股份有限公司

Inventor： J·D·杰斯特 ,  J·迪普 ,  P·威廉姆斯 ,  C·W·帕金斯

IPC: H01J49/30 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J49/30 ,  H01J37/08 ,  H01J49/147

Abstract: 一种质谱仪包括具有定义间隙的空间上分离的极靴的主磁体，主磁体在间隙中产生磁场；离子源，用于产生离子和加速离子使之进入间隙中的磁场，离子源位于间隙之外；以及离子检测器，用于检测离子源产生的以及通过磁场偏转的选中的离子种类。离子检测器位于间隙中选中离子种类的自然焦点处。可以在示踪气体泄漏检测器中使用所述质谱仪。

公开(公告)号：CN101167154B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200680003793.6

申请日：2006-01-31

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： K·贝克 ,  W·贝尔 ,  K·佩特利

IPC: H01J37/317 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J27/08 ,  H01J37/3171

Abstract: 提供了一种离子注入器，其包括源、工件支撑、和将离子从源传送到离子注入弧光室的传输系统，其中离子注入弧光室包括工件支撑。离子源具有弧光室，用于将引导至弧光室内的源材料离子化，弧光室限定有出口孔洞，以将离子引导至传输系统，弧光室包括弧光室凸缘，其与弧光室相连，并包括第一表面，第一表面限定了从源接受气体的气体入口，还限定了通向弧光室内的气体出口。弧光室支撑包括支撑凸缘，凸缘具有顺应表面，此顺应表面在气体入口区域与弧光室凸缘的第一表面密封接合，弧光室支撑还包括与气体入口对准的贯穿通道。气体供应管线将气体从气体源通过支撑凸缘的贯穿通道，引导至弧光室凸缘的气体入口内。

公开(公告)号：CN1964620B

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200480037062.4

申请日：2004-12-09

Applicant: 山米奎普公司

Inventor： 托马斯·N·霍尔斯基 ,  罗伯特·W·米尔加特三世

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  C23C14/48 ,  C23C14/564 ,  H01J9/38 ,  H01J27/02 ,  H01J27/024 ,  H01J37/08 ,  H01J2209/017 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/022 ,  Y10T137/0357 ,  Y10T137/7759 ,  Y10T137/776 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/85954 ,  Y10T137/85978 ,  Y10T137/85986 ,  Y10T137/86002

Abstract: 一种用于向一真空室输送一稳定的升华蒸气流的蒸气输送系统，其包括一固体材料气化器、一机械节流阀及一压力表、随后是一通往所述真空室的蒸气导管。所述蒸气流速取决于所述气化器的温度及位于所述气化器与所述真空室之间的机械节流阀的流导的设定值二者。所述气化器的温度取决于根据一设定点温度进行的闭环控制。所述机械节流阀受到电控制，例如阀门位置受到根据所述压力表的输出进行的闭环控制。通过此种方式，所述蒸气流速可大体与压力表输出成正比。所有暴露至自所述气化器至所述真空室的蒸气的表面均受到加热来防止冷凝。图中显示一闸阀及一旋转的蝶阀用作上游节流阀。在使用一固定的固体材料充填量时，可使所述气化器的温度在一很长的时间段内保持稳定，在所述时间段内，随着所述充填量的升华，所述节流阀从其工作范围中的一较低的流导缓慢开启。当达到一更大的阀门排放量时，升高温度，以使所述阀门重新调节至其较低的流导设定值，以使其可重新随着所述充填量的进一步消耗而缓慢开启。

公开(公告)号：CN101652498A

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：CN200780052204.8

申请日：2007-04-24

Applicant: 佳能安内华股份有限公司

Inventor： 中河原均

IPC: C23C14/24 ,  H05H1/24 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J37/08 ,  C23C14/081 ,  C23C14/28 ,  H01J37/04 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/083 ,  H01J2237/103 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/3132 ,  H01J2237/3146

Abstract: 通过使由会聚线圈从等离子枪提取的等离子束(25)通过下面的磁场，使得束的横断面扁平化：该磁场在与等离子束的行进方向正交的方向上延伸，并且通过由相互平行地成对相对配置的永磁体构成的磁体(27)形成。提供一种使用具有0.7≤Wi/Wt的等离子束的等离子设备，其中，相对于扁平化后的束28的宽度Wt，束强度的半值为Wi。包括至少一个在束的中心处的排斥磁场的强度更强的磁体。