快闪存储器的制作方法
    62.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100521156C

    公开(公告)日:2009-07-29

    申请号:CN200610108418.X

    申请日:2006-08-02

    Inventor: 朱建隆 曾维中

    Abstract: 一种快闪存储器的制作方法,此方法是先提供基底,此基底中已形成有多个隔离结构,且隔离结构之间的基底上已形成有穿隧介电层与浮置栅极。接着,移除部分隔离结构以暴露出浮置栅极。然后,在浮置栅极的侧壁上形成第一间隙壁。继之,在第一间隙壁上形成第二间隙壁。而后,移除部分第一间隙壁、部分第二间隙壁与部分隔离结构,以在穿隧介电层的侧壁上形成第三间隙壁,并且将隔离结构移除至预定的深度。随后,在基底上形成栅间介电层。之后,在栅间介电层上形成导体层。

    起偏器、投影透镜系统、曝光装置及曝光方法

    公开(公告)号:CN100514095C

    公开(公告)日:2009-07-15

    申请号:CN200410062874.6

    申请日:2004-07-02

    CPC classification number: G03B27/72 G03F7/70308

    Abstract: 透过起偏器(21)的偏振光的振幅方向相对于位置(D)成同心圆状。位置(D)与光瞳面的中心一致地配置起偏器(21)。由起偏器(21)变换成偏振光的照明光的光束,相对于光轴形成同心圆状的偏光面而会聚于晶片上。因此,照明光以S偏振光入射到光刻胶。由此,透过光刻胶的光量不易依赖入射角。从而,提高了在光刻胶中形成的光学像的对比度,并改善了析像特性。

    半导体装置和光掩膜
    65.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101471345A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200810188636.8

    申请日:2008-12-25

    Inventor: 竹内雅彦

    Abstract: 本发明涉及半导体装置和光掩膜,其中,共用接触孔(SC1,SC2)到达栅极电极层(GE1,GE2)和漏极区域PIR这两方。在俯视中,栅极电极层(GE1,GE2)的一方的侧壁E2与一方的侧壁(E1)的假想延长线(E1a)相比位于向另一方的侧壁(E4)一侧偏离的位置上。在俯视中,栅极电极层(GE1,GE2)的共用接触孔(SC1,SC2)到达的部分的线宽度(D1)的中心线(C2-C2),相对于位于栅极电极层(GE1,GE2)的沟道形成区域(CHN1,CHN2)上的部分的线宽度(D2)的中心线(C1-C1),位于偏离的位置上。由此,能够得到可以抑制共用接触孔的开口不良的半导体制造和光掩膜。

    固体摄像装置
    68.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100490165C

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200410062873.1

    申请日:2004-07-02

    Inventor: 篠宫巧治

    CPC classification number: H04N5/23241 H04N5/2251

    Abstract: 本发明得到一种以简易的结构强化EMC噪声耐性来提高工作稳定性的固体摄像装置。本发明中,与固体摄像元件(1)的电源焊垫连接的电源布线(11、12)和与集成电路芯片的电源焊垫连接的电源布线(13、14)以非常近的间隔平行配置,电源布线(11~14)具有一定的宽度,同时使弯曲部分以预定曲率以下平滑地弯曲而形成于柔性布线板(3)上,另外,使固体摄像元件(1)或集成电路芯片(2)的高电位侧和低电位侧的电源焊垫相邻接。

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