Abstract:
염료감응태양전지 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따르는 염료감응태양전지는 서로 대향되게 배치되는 제1기판과 제2기판과, 상기 제1기판과 제2기판과의 사이에 구비되고, 광화학적 반응을 위한 비표면적이 큰 복수개의 돌출부를 갖는 적어도 하나의 나노튜브산화물층을 포함하고, 상기 나노튜브산화물층에 화학적으로 흡착되어, 여기된 전자를 공급할 수 있는 염료층을 포함하는 반도체전극과, 상기 반도체전극과 대향되고 상기 제1기판과 제2기판과의 사이에 마련되어 통전되도록 하는 대향전극 및 상기 반도체전극과 대향전극 사이에 개재되어 산화-환원반응에 의하여 상기 염료층에 전자를 공급해줄 수 있는 전해질용액을 포함하는 것을 특징으로 하는데, 염료층에서 여기된 전자의 이동에 있어서, 전극의 형태(morphology)에 영향을 받게 된다. 양극산화로 얻어진 나노튜브 모양의 표면 형태는 전자의 이동 경로가 직선 형태로 최소화되어 전자의 손실을 줄일 수 있으며, 복수개의 나노튜브의 표면 염료 흡착이 가능하여 넓은 표면적에서 광흡수을 할 수 있으며, 또한 양면의 나노튜브에 흡수 파장대가 다른 염료를 흡착하여 광흡수도를 증가시킬 수 있다.
Abstract:
A point-contact heterojunction silicon solar cell having a passivation layer on a p-n junction interface is provided to reduce an interfacial defect by minimizing a contact area between amorphous silicon and crystalline silicon. A passivation layer(305) is formed on an interface between a crystalline silicon wafer(300) of a first type and an amorphous silicon layer(310) of a second type wherein a plurality of voids penetrating the front and back surfaces of the passivation layer are formed in the passivation layer. The crystalline silicon wafer of the first type comes in contact with the amorphous silicon layer of the second type only by the voids. The passivation layer can be selected from SiO2, SiC, SiNx and intrinsic amorphous silicon.
Abstract:
PTFE표면의 개질방법이 제공된다. 본 발명에 따른 PTFE표면의 개질방법은 (a) 진공챔버의 내부에 PTFE를 위치시키고 진공상태로 유지시키는 단계; (b) 상기 진공챔버의 내부로 산소기체를 7 내지 13 sccm의 유량으로 공급하는 단계; 및 (c) 수소이온을 상기 PTFE의 표면으로 조사하여 산소플라즈마를 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는데, 이에 의하면 PTFE와 금속 등의 다른 물질과의 접착력을 증대시키면서 동시에 상기 PTFE의 표면에 물리적 손상을 획기적으로 감소시키고 그 표면의 반사도가 우수하다는 장점을 갖는다. PTFE, 개질