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公开(公告)号：KR1020080077087A
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：KR1020087008186
申请日：2006-11-08
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: H01R13/03 , H01R4/04 , H01R11/01 , H01R43/0235 , H01R43/0249 , H01R43/0256 , H05K3/0035 , H05K3/326 , H05K2201/0116 , H05K2201/015 , H05K2201/0394 , H05K2201/09509 , H05K2201/09527 , H05K2201/10378 , H05K2201/10674 , H05K2203/0156 , Y10T29/49204
Abstract: A heat resistant and cold resistant anisotropic conductive sheet (8) suitable for connection of an electrode. The anisotropic conductive sheet comprises an electrically insulating film of synthetic resin exhibiting conductivity in the thickness direction as a basic film (1). The basic film has a plurality of cavities (3) formed in the thickness direction wherein the cavity is opened in the direction of one major surface of the basic film and closed in the direction of the other major surface. A metal is adhering to the closed portion (2a) and the inner wall (2b) of the cavity and when an electrode (7) is touched externally to the closed portion (2a) of the cavity, the cavity opening major surface and the touching electrode (7) are conducted electrically through the adhering metal.
Abstract translation: 一种适用于连接电极的耐热和耐寒各向异性导电片（8）。 各向异性导电片包括作为基本膜（1）在厚度方向上具有导电性的合成树脂的电绝缘膜。 基本膜具有沿厚度方向形成的多个空腔（3），其中空腔沿着基本膜的一个主表面的方向打开并且在另一个主表面的方向上封闭。 金属粘附到空腔的封闭部分（2a）和内壁（2b），并且当电极（7）被触摸到空腔的封闭部分（2a）的外部时，空腔开口主表面和触摸 电极（7）通过粘附金属进行电导电。
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公开(公告)号：KR1020060045117A
公开(公告)日：2006-05-16
申请号：KR1020050023452
申请日：2005-03-22
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: B32B15/01 , B23K20/00 , B32B15/18 , B32B2311/12 , B32B2311/18 , B32B2311/22 , B32B2311/30
Abstract: 본 발명은, 확산접합성이 뛰어나는, 티탄층을 포함하는 접합용 부재로서, 그 접합용 부재는, 티탄층과, 티탄층의 한 쪽의 표면 위에 형성된 접합층으로서의 구리층을 구비한다. 구리층에 함유되는 구리의 평균결정입경이 0.5㎛이하이다. 티탄층의 다른 쪽의 표면에는, 티탄의 부도체막이 형성되어도 된다. 또 이 다른 쪽의 표면에 발색알마이트층이 형성되어도 된다. 또, 이 다른 쪽의 표면에 불소수지층이 형성되어도 되는 것을 특징으로 한 것이다.
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63.发明授权집전체용 3차원 그물 형상 알루미늄 다공체, 당해 알루미늄 다공체를 이용한 집전체, 전극, 비수 전해질 전지, 커패시터 및 리튬 이온 커패시터 有权一种用于集电体的三维网状铝多孔体，使用该铝多孔体的集电体，电极，非水电解质电池，电容器和锂离子电容器
公开(公告)号：KR101790575B1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020137021424
申请日：2012-02-14
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤 , 도야마 스미토모 덴코우 가부시키가이샤
IPC: H01M4/80 , H01M4/66 , H01M4/13 , H01M10/052 , H01G11/22
CPC classification number: H01G11/68 , H01G11/06 , H01G11/28 , H01G11/70 , H01M4/661 , H01M4/74 , H01M10/05 , Y02E60/13
Abstract: 본발명은, 비수전해질전지용전극및 커패시터용전극에적합한알루미늄다공체로이루어지는집전체및 이집전체를이용한전극을제공하는것을목적으로한다. 본발명의집전체용 3차원그물형상알루미늄다공체는, 시트형상 3차원그물형상알루미늄다공체를폭방향에있어서중앙영역과당해중앙영역을사이에끼우는 2개의단부(端部) 영역으로나누었을때, 당해 2개의단부영역에있어서의알루미늄다공체의알루미늄코팅량이, 당해중앙영역의알루미늄다공체의알루미늄코팅량보다도많다.
Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种适用于非水电解质电池用电极的铝多孔体和电容器用电极的集电体以及使用该集电体的电极。 本发明的集电体用三维网状铝多孔体的特征在于，将片状三维网状铝多孔体分割成宽度方向的中央区域和夹着该中央区域的两个端部区域时， 两个端部区域中的铝多孔体的铝涂覆量大于中央区域中的铝多孔体的铝涂覆量。
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64.发明公开3차원 그물 형상 알루미늄 다공체, 당해 알루미늄 다공체를 이용한 집전체 및 전극 그리고 당해 전극의 제조 방법, 당해 전극을 이용한 비수 전해질 전지, 비수 전해액을 이용한 커패시터 및 리튬 이온 커패시터 审中-实审使用该多孔铝体的三维网状铝多孔体，集电体和电极，电极的制造方法，使用该电极的非水电解质电池，使用非水电解质的电容器，
公开(公告)号：KR1020170096228A
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：KR1020177022548
申请日：2012-02-14
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤 , 도야마 스미토모 덴코우 가부시키가이샤
CPC classification number: H01G9/016 , H01G11/66 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/13 , H01M4/661 , H01M4/74 , H01M10/052 , Y02E60/13 , Y10T29/417 , Y10T29/49115 , Y10T428/12479 , H01G11/06 , H01M4/139
Abstract: 본발명은, 전극을연속적으로생산하는프로세스에이용가능하고, 집전방향의전기저항이작은집전체의제조를가능하게하는 3차원그물형상알루미늄다공체및 당해알루미늄다공체를이용한전극그리고그의제조방법을제공하는것을목적으로한다. 이러한집전체용의시트형상의 3차원그물형상알루미늄다공체는, 직교하는 2개의방향중 한쪽을 X방향으로하고, 다른한쪽을 Y방향으로했을때, 당해 3차원그물형상알루미늄다공체의 X방향의셀 지름과, Y방향의셀 지름이상이하다.
Abstract translation: 工业实用性本发明提供一种三维网状铝多孔体，其可用于连续制造电极的工艺中，并且能够制造在集电方向上具有小电阻的集电体，使用该铝多孔体的电极， 而为宗旨。 这种集电体用集电体用片状三维网状铝多孔体，在两个正交方向中的一方为X方向，另一方为Y方向的情况下， 直径和Y方向上的单元直径。
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公开(公告)号：KR1020170021252A
公开(公告)日：2017-02-27
申请号：KR1020167035569
申请日：2015-06-04
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
Abstract: 표면이평활성이고, 또한신장이우수한알루미늄막을연속적으로제조가능한알루미늄도금액을제공한다. 기재표면에알루미늄을전착시키는것이가능한알루미늄도금액으로서, 상기알루미늄도금액은 (A) 알루미늄할로겐화물과, (B) 알킬이미다졸륨할로겐화물, 알킬피리디늄할로겐화물및 요소화합물로이루어지는군으로부터선택되는어느 1종이상의화합물과, (C1) 암모늄염, 포스포늄염, 술포늄염, 아민화합물, 포스핀화합물및 술피드화합물로이루어지는군으로부터선택되는어느 1종이상을성분으로서포함하고, 상기 (C1)성분은, 탄소수가 8 이상 36 이하인직쇄상혹은분기를갖는알킬기를적어도하나의측쇄로서갖고, 상기 (A)성분과상기 (B)성분의혼합비는몰비로 1:1∼3:1의범위에있고, 상기 (C1)성분의농도가 1.0g/L 이상 45g/L 이하인알루미늄도금액이다.
Abstract translation: 提供一种能够连续制造铝膜的铝电镀液，其表面光滑，伸长率优异。 能够在基材表面上电沉积铝的铝电镀溶液包含（A）卤化铝作为组分，（B）至少一种选自烷基咪唑鎓卤化物，烷基吡啶鎓卤化物和脲化合物的化合物， 和（C1）选自铵盐，鏻盐，锍盐，胺化合物，磷化合物和硫化物化合物中的至少一种; 组分（C1）具有用于至少一个侧链的C 8-16直链或支链烷基; 组分（A）与组分（B）的混合比在1:1-3:1摩尔比的范围内; 成分（C1）的浓度为1.0g / L〜45g / L。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160119089A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：KR1020167021351
申请日：2015-01-26
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: C25D5/56 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D3/665 , C25D5/003 , C25D7/0614 , C25D7/0621 , C25D17/004 , C25D21/04
Abstract: 도금실내에수분및 산소가침입하는일이없는알루미늄막의제조방법및 제조장치를제공한다. 용융염전해액중에서, 도전성이부여된장척형상의다공성수지기재의표면에알루미늄을전착시키는알루미늄막의제조방법으로, 상기기재 (W)를도금실의입구측에설치한시일실(4)을통하여상기도금실(1)로반입하는공정과, 상기도금실(1)에서상기기재(W)의표면에알루미늄막을전착시키는공정과, 상기알루미늄막을전착시킨상기기재를도금실(1)의출구측에설치한시일실(5)을통해도금실(1)로부터반입하는공정을포함하고, 상기도금실에는도금실이외기에대하여정압이되도록불활성가스를공급하고, 상기의두개의시일실의각각에설치한불활성가스배기관(7)으로부터상기불활성가스를강제배기할수 있도록한 알루미늄막의제조방법.
Abstract translation: 提供了一种铝膜的制造方法和制造装置，其中水分和氧气不会侵入电镀室。 一种铝膜的制造方法，其中将铝电解沉积在在熔融盐电解液中具有导电性的长的多孔树脂基板的表面上，包括通过密封将基板W转移到电镀室1中的步骤 设置在电镀室的入口侧的腔室4; 电镀室1中的基板W的表面上电沉积铝膜的步骤; 以及通过设置在电镀室1的出口侧的密封室5将从电镀室1电沉积有铝膜的基板转印到电镀室中的惰性气体，使得电镀室 相对于外部空气具有正压力，并且惰性气体被强制地从设置在两个密封室中的惰性气体排出管7排出。
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公开(公告)号：KR1020160007557A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：KR1020157034588
申请日：2014-05-07
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤 , 메이덴샤 코포레이션
CPC classification number: H01G11/36 , B82Y30/00 , H01G11/06 , H01G11/26 , H01G11/70 , H01G11/86 , H01M4/0416 , H01M4/133 , H01M4/1393 , H01M4/587 , H01M4/661 , H01M4/80 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , Y02E60/13
Abstract: 전기저항이저감되어, 축전디바이스의전극으로서이용한경우에, 축전디바이스의정전용량및 셀전압을향상시켜, 축전되는에너지밀도를향상할수 있는축전디바이스용전극, 그리고당해축전디바이스용전극을이용한축전디바이스및 당해축전디바이스용전극의제조방법을제공한다. 축전디바이스용전극은, 카본나노튜브와, 이온액체와, 카본나노튜브및 이온액체가충전(充塡)된복수의구멍부를갖는 3차원그물코형상금속다공체를구비하고, 복수의구멍부중, 3차원그물코형상금속다공체의표면에노출되는구멍부는, 3차원그물코형상금속다공체의표면내의제1 방향의셀 지름(D)과, 3차원그물코형상금속다공체의표면내에있어서제1 방향에직교하는제2 방향의셀 지름(d)과의비(d/D)가, 0
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公开(公告)号：KR1020150056497A
公开(公告)日：2015-05-26
申请号：KR1020147018420
申请日：2013-09-12
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
Abstract: 용융염을포함하는전해액이공급되는전해조중에서, 기재(base) 상에알루미늄을전착시켜알루미늄막을제조하는방법으로서, 상기전해액에있어서의알루미늄이전석(electrodepositon)할때의과전압(overvoltage)과상기용융염에첨가하는첨가제의농도와의소정의관계에기초하여, 상기과전압의측정값이소망하는범위내가되도록상기첨가제의농도를조정하는알루미늄막의제조방법이다.
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公开(公告)号：KR1020150054840A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：KR1020157006639
申请日：2013-08-23
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: C25D3/665 , C23C18/1653 , C25D3/44 , C25D5/54 , C25D5/56
Abstract: 표면평활성이우수하여경면을갖는알루미늄막을연속적으로대량으로제조하는것이가능한알루미늄막의제조방법을제공한다. 전해액중에서기재표면에알루미늄을전착시키는알루미늄막의제조방법으로서, 상기전해액은, (A) 알루미늄할로겐화물과, (B) 알킬피리디늄할로겐화물, 알킬이미다졸륨할로겐화물및 우레아화합물로이루어지는군으로부터선택되는어느 1종이상의화합물과, (C) 1,10-페난트롤린일수화물을성분으로서포함하고, 상기 (A) 성분과상기 (B) 성분의혼합비는몰비로 1:1∼3:1의범위에있고, 상기전해액에있어서의상기 1,10-페난트롤린일수화물의농도를 0.05g/L 이상, 7.5g/L 이하의범위가되도록제어하는알루미늄막의제조방법.
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公开(公告)号：KR1020150046013A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：KR1020157002639
申请日：2013-06-13
Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤
CPC classification number: C25D17/06 , C25D3/44 , C25D3/66 , C25D3/665 , C25D5/003 , C25D5/44 , C25D5/56 , C25D7/0621 , C25D7/0642
Abstract: 표면에절연성혹은도전성이낮은금속산화막등이형성되어있는기체(base body)의표면에도양호하게알루미늄도금을형성할수 있는알루미늄도금장치를제공한다. 도금조(plating bath) 중에기체를반송시키고, 당해기체상에알루미늄을전착시키는알루미늄도금장치로서, 상기도금조는, 상기기체가반송되는상류측으로부터순서대로, 제1 전해실과제2 전해실로칸막이판에의해나뉘어져있고, 상기제1 전해실중에서는상기기체가양극으로서작용하도록, 제1 전해실중에형성된부극과상기기체가전기적으로접속되어있고, 상기제2 전해실중에서는, 상기기체가음극으로서작용하도록, 상기제2 전해실중에형성된양극과기체가전기적으로접속되어있는알루미늄도금장치.
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