전계 방출 장치
    61.
    发明公开
    전계 방출 장치 有权
    场发射装置

    公开(公告)号:KR1020070098490A

    公开(公告)日:2007-10-05

    申请号:KR1020070018871

    申请日:2007-02-26

    CPC classification number: H01J1/304 H01J63/06

    Abstract: A field emission device is provided to minimize influence of arc discharge due to a high anode voltage by using an insulator having a height of an emitter to a gate electrode larger than a diameter of a gate opening. An anode substrate includes an anode electrode formed on a surface thereof and a phosphor layer formed on the anode electrode. A cathode substrate(140) is positioned apart from the anode substrate in order to face the anode substrate. One or more cathode electrodes are formed toward the anode substrate. A field emitter is formed on each of the cathode electrodes. A gate substrate includes a gate insulator and a plurality of gate electrodes(181,182). One surface of the gate insulator comes in contact with the cathode substrate. The gate insulator is formed to surround the field emitters and includes a plurality of openings to expose the field emitters. The gate electrodes are formed around the openings of the gate insulator.

    Abstract translation: 提供场致发射器件以通过使用具有大于栅极电极直径的栅极电极的发射极高度的绝缘体来最小化由于高阳极电压引起的电弧放电的影响。 阳极基板包括在其表面上形成的阳极电极和形成在阳极电极上的荧光体层。 阴极基板(140)与阳极基板隔开以与阳极基板相对。 朝向阳极基板形成一个或多个阴极电极。 在每个阴极上形成场致发射体。 栅极基板包括栅极绝缘体和多个栅电极(181,182)。 栅极绝缘体的一个表面与阴极基板接触。 栅绝缘体形成为围绕场发射器并且包括多个开口以暴露场发射器。 栅电极围绕栅极绝缘体的开口形成。

    전자빔 궤적 제어가 가능한 전계 방출 장치 및 그 제조방법
    62.
    发明公开
    전자빔 궤적 제어가 가능한 전계 방출 장치 및 그 제조방법 有权
    具有电子束波纹捕获控制结构及其制造方法的场发射装置

    公开(公告)号:KR1020070059870A

    公开(公告)日:2007-06-12

    申请号:KR1020060056207

    申请日:2006-06-22

    CPC classification number: H01J1/304 H01J1/46 H01J2201/30453

    Abstract: A field emission device having an electron beam trajectory control structure and a manufacturing method of the same are provided to control a spreading degree of an electron beam emitted from an emitter by controlling a voltage of an auxiliary electrode installed around a cathode electrode. A cathode electrode(22a) is formed on a substrate in order to define an installation area according to selection of emission and collection of an electron beam. An emitter(23) is connected electrically with the cathode electrode. An insulating substrate(30) is prepared. An insulating layer(31) is attached on the insulating substrate. An opening part(33) corresponding to the emitter is formed at the insulating layer. A gate electrode(32) is installed at one side of the insulating layer. The insulating substrate is attached to the substrate.

    Abstract translation: 提供具有电子束轨迹控制结构的场发射装置及其制造方法,以通过控制安装在阴极周围的辅助电极的电压来控制从发射极发射的电子束的扩展程度。 阴极电极(22a)形成在基板上,以便根据电子束的发射和收集的选择来限定安装区域。 发射极(23)与阴极电连接。 制备绝缘基板(30)。 绝缘层(31)安装在绝缘基板上。 在绝缘层上形成对应于发射极的开口部分(33)。 栅电极(32)安装在绝缘层的一侧。 绝缘基板附着在基板上。

    히트파이프를 채용한 전자빔 장치
    63.
    发明授权
    히트파이프를 채용한 전자빔 장치 失效
    电子束装置使用热管

    公开(公告)号:KR100687718B1

    公开(公告)日:2007-02-27

    申请号:KR1020040107225

    申请日:2004-12-16

    Abstract: 본 발명은, 히트파이프를 채용한 전자빔 장치에 관한 것으로서, 전자를 방출하는 에미션 팁(emission tip)부; 상기 에미션 팁부을 내장하는 하우징; 상기 하우징이 실장되는 외부케이스; 상기 외부케이스의 내부와 외부에 걸쳐 위치하여, 상기 외부케이스의 내부의 열을 외부로 전달하는 열전달부; 상기 하우징에 열적으로 결합되어 있는 흡열부와, 상기 열전달부의 부분 중에 상기 외부케이스의 내부에 위치한 부분에 열적으로 결합된 발열부를 구비하는 히트파이프;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 히트파이프를 채용한 전자빔 장치에 의하면, 간단한 구성으로도 고온의 부품을 효율적으로 냉각하는 것이 가능하여, 전체 장치의 수명과 신뢰성을 확보할 수 있다는 효과가 있다.

    히트파이프를 채용한 전자빔 장치
    65.
    发明公开
    히트파이프를 채용한 전자빔 장치 失效
    电子束设备使用HEATPIPE

    公开(公告)号:KR1020060068512A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:KR1020040107225

    申请日:2004-12-16

    Abstract: 본 발명은, 히트파이프를 채용한 전자빔 장치에 관한 것으로서, 전자를 방출하는 에미션 팁(emission tip)부; 상기 에미션 팁부을 내장하는 하우징; 상기 하우징이 실장되는 외부케이스; 상기 외부케이스의 내부와 외부에 걸쳐 위치하여, 상기 외부케이스의 내부의 열을 외부로 전달하는 열전달부; 상기 하우징에 열적으로 결합되어 있는 흡열부와, 상기 열전달부의 부분 중에 상기 외부케이스의 내부에 위치한 부분에 열적으로 결합된 발열부를 구비하는 히트파이프;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 히트파이프를 채용한 전자빔 장치에 의하면, 간단한 구성으로도 고온의 부품을 효율적으로 냉각하는 것이 가능하여, 전체 장치의 수명과 신뢰성을 확보할 수 있다는 효과가 있다.

    마이크로 컬럼 정렬 및 접합용 장치
    66.
    发明公开
    마이크로 컬럼 정렬 및 접합용 장치 失效
    MICRO-COLUMN对齐和装配的装置

    公开(公告)号:KR1020060058744A

    公开(公告)日:2006-05-30

    申请号:KR1020040097470

    申请日:2004-11-25

    Inventor: 정진우 김대용

    Abstract: 마이크로 컬럼 정렬 및 접합용 장치를 제공한다. 본 발명은 현미경 스테이지 상에 놓여지면서, 상부 표면에는 유리 절연층에 의하여 분리된 상단 및 하단 마이크로 컬럼 구성품이 놓여지는 지지부와, 상기 지지부 양단에 위치하여 상기 지지부에 고정되는 숫나사 및 그에 따른 암나사를 포함한다. 또한, 본 발명은 상기 지지부와 이격되어 상기 지지부 상부를 가로 질러서 위치하고, 상기 숫나사는 양단의 제1 관통홀을 통과하고 상기 암나사는 상기 제1 관통홀 상부에 위치하여 고정되는 석영 막대와, 상기 석영 막대의 중앙부에 설치된 제2 관통홀을 통하여 상기 마이크로 컬럼 구성품을 위에서 아래로 압력을 인가하여 상기 마이크로 컬럼 구성품을 고정할 수 있는 스프링 전극을 포함하여 이루어진다. 이에 따라, 본 발명의 마이크로 컬럼 정렬 및 접합용 장치는 많은 주의와 시간이 소모되지 않고 보다 용이하고 정밀하게 마이크로 컬럼을 정렬 및 접합할 수 있다.

    엑스선원 및 이를 이용한 엑스선 초점 조절 방법
    70.
    发明授权
    엑스선원 및 이를 이용한 엑스선 초점 조절 방법 有权
    使用它的X射线源和X射线聚焦方法

    公开(公告)号:KR101858230B1

    公开(公告)日:2018-05-16

    申请号:KR1020120064758

    申请日:2012-06-18

    CPC classification number: H01J35/14

    Abstract: 엑스선원이제공된다. 이엑스선원은진공용기의일 단부에구비되되, 전자를방출하는에미터를포함하는캐소드전극, 캐소드전극에인접하도록진공용기의내부에구비되는게이트전극, 진공용기가연장되는방향의타 단부측의진공용기의내부에구비되되, 캐소드전극에대해기울어져있는애노드전극, 및게이트전극과애노드전극사이의진공용기의내주면을따라구비되는집속전극을포함한다. 집속전극은평단면이서로다른최소폭 및최대폭을갖는개구를가진다.

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