公开(公告)号：CN102422198B

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201080020680.3

申请日：2010-05-07

Applicant: 卡尔蔡司公司

Inventor： 克莉丝汀娜·汤玛士 ,  托斯顿·西弗斯 ,  亚利山大·特森

IPC: G02B21/34 ,  H01J37/00

CPC classification number: G02B21/34 ,  G02B21/26 ,  G02B21/33 ,  H01J37/20 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/2007

Abstract: 为了使用光学显微镜(10)和粒子束显微镜(12)的组合对对象(8)进行显微检查，使用了一种显微镜载物片系统(1)，该系统包括：导电支架(2)，其中至少一个窗口(3、17、18)配置于支架(2)中，以及其中支架(2)优选地具有用于光学显微镜(10)的标准玻璃显微镜载物片的尺度；显微镜载物片元件(7、19)，其设计成承载用于显微检查的对象(8)并且设计成使得该元件可以放置在窗口(3、17、18)上方；以及紧固装置(5、6、22、25)，其设计成将显微镜载物片元件(7、19)固定在窗口(3、17、18)上方。借助所述显微镜载物片系统(1)，可以使用分开的显微镜来分析对象(8)，而不必重定位对象。

公开(公告)号：CN103858204A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201280048835.3

申请日：2012-09-03

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 大南祐介 ,  许斐麻美 ,  伊东祐博 ,  大泷智久 ,  河西晋佐

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/16 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22

CPC classification number: H01J37/18 ,  H01J37/16 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/226 ,  H01J37/261 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/182 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/2602 ,  H01J2237/2608

Abstract: 本发明提供能使用便利性良好地利用带电粒子技术及光学技术可靠地对试样进行检查或观察的检查装置、观察装置。检查或观察装置具备：第一框体(7)，其形成第一空间(11)的至少一部分，该第一空间(11)构成从带电粒子照射部放出的一次带电粒子线到达试样期间的至少一部分的区域且能维持成真空状态；第二框体(121)，其设于该第一框体(7)，形成能收纳所述试样的第二空间(12)的至少一部分；隔壁部(10)，其配置于从所述带电粒子照射部照射出的一次带电粒子线向试样上照射时的所述带电粒子照射部的同轴上，将所述第一空间与所述第二空间隔开；光学式观察部，其对所述试样照射光，从与所述带电粒子照射部相同的方向检测来自所述试样的光。

公开(公告)号：CN101165855B

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN200710181968.9

申请日：2007-10-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 杉山秀树 ,  冈山信幸 ,  长山将之

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  C23F4/00 ,  H01J37/32 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01J37/32495 ,  H01J37/32559 ,  H01J2237/2007 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68757

Abstract: 一种能减少等离子处理装置的运行成本并提高装置的运行速度的基板平台。下部电极作为基板平台而设置在该装置的腔室内，静电卡盘被结合在下部电极中。在静电卡盘的侧壁上形成作为喷敷层，膜厚度在从1000至2000μm的范围内，元素周期表第IIIB族元素的氧化膜，如氧化钇膜。

公开(公告)号：CN102439693A

公开(公告)日：2012-05-02

申请号：CN201080022632.8

申请日：2010-06-15

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 班杰明·B·里欧登 ,  凯文·M·丹尼尔斯 ,  威廉·T·维弗 ,  查理斯·卡尔森

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01J37/317 ,  H01L21/266

CPC classification number: H01L21/67213 ,  C23C14/48 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/20292 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31711 ,  H01L21/266 ,  H01L21/67769 ,  H01L31/022425 ,  H01L31/022441 ,  H01L31/068 ,  H01L31/0682 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

Abstract: 一种工作件处理系统(100)包含：处理腔室(114)，其经组态以支撑工作件用于离子植入；第一遮罩(172、174、176)，其储存于所述处理腔室(114)外部且处于遮罩台(170)中；以及机器人系统(106)，其经组态以自所述遮罩台(170)撷取所述第一遮罩(172、174、176)，且将所述第一遮罩定位于所述工作件上游，使得所述工作件经由所述第一遮罩而接收第一选择性植入。一种方法包含：将第一遮罩(172、174、176)储存于处理腔室(114)外部且处于遮罩台(170)中；自所述遮罩台(170)撷取所述第一遮罩；将所述第一遮罩定位于已定位在所述处理腔室(114)中的工作件上游以用于离子植入；以及经由所述第一遮罩而执行第一选择性植入。

公开(公告)号：CN102414781A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201080017871.4

申请日：2010-02-22

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： H.J.德琼

IPC: H01L21/00 ,  G03F7/00 ,  H01L21/67 ,  G03F7/20 ,  H01J37/317 ,  G03B27/58

CPC classification number: H01L21/67 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03B27/58 ,  G03F7/707 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/2005 ,  H01J2237/2007 ,  H01L21/00 ,  H01L21/6875 ,  Y10T29/49998 ,  Y10T428/249961

Abstract: 一种基板支撑结构(13)，其用于通过由液体箝制层(11)所产生的毛细作用力来箝制基板(12)，液体箝制层(11)具有低于其周围环境的压力。该基板支撑结构包括设置有用于保持基板的多个基板支撑元件(17)的表面(16)，且该表面进一步包含具有不同毛细势的部分(51、52、83)，以在箝制期间引发该液体箝制层内的预定毛细流。

公开(公告)号：CN102067270A

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200980123733.1

申请日：2009-06-23

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 西奥多·斯米克 ,  保罗·艾德 ,  杰弗里·莱丁 ,  马文·法利 ,  罗纳德·霍纳 ,  织田简

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  F16M11/18

CPC classification number: H01J37/3171 ,  F16M11/123 ,  F16M11/18 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/20278

Abstract: 提供了一种被配置用于制造离子束(210)的离子注入系统(100)，其中，末端站(216)具有机器人构造(250)，所述机器人构造(250)具有至少四个自由度。被可操作地连接至机器人构造的末端执行器(229)选择性地抓紧工件(228)以及使工件(228)平移通过离子束。机器人构造具有可操作地连接至末端站的多个电机(254)，每个电机具有旋转轴(256)。每个旋转轴的至少一部分通常位于末端站内，多个电机中的每个电机具有分别与之相关联的连杆组件(252)，其中每个连杆组件分别具有曲轴臂(258)和支柱(260)。每个连杆组件的曲轴臂被固定地连接至各自的旋转轴，以及每个连杆组件的支柱在第一接头(262)处被枢转地连接至各自的曲轴臂，并且在第二接头(264)处被枢转地连接至末端执行器。

公开(公告)号：CN101921990A

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200910261623.3

申请日：2009-12-18

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 立道润一 ,  小野田正敏 ,  织平浩一

IPC: C23C14/48

CPC classification number: H01L21/67213 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能统一对多个基板进行离子注入，且使各基板面内的离子注入量分布均匀。该离子注入装置包括：注入室(8)，被导入离子束(4)；托架(12)，把基板(10)沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置(16)，能使托架(12)成水平状态且位于基板交换位置(48)，还能使托架(12)成立起状态，在离子束(4)的照射区域沿X方向往复直线驱动托架(12)。还具有两个加载互锁机构(20a，20b)、以及两个基板输送装置(30a，30b)，基板输送装置(30a，30b)各具有两个在各加载互锁机构(20a，20b)与基板交换位置(48)之间输送基板(10)的臂(32a～32d)。

公开(公告)号：CN101887829A

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN201010146836.4

申请日：2010-04-14

Applicant: 北京富纳特创新科技有限公司

Inventor： 刘亮 ,  范立 ,  冯辰 ,  潜力 ,  王昱权

IPC: H01J9/00 ,  H01J37/20

CPC classification number: B32B5/12 ,  B32B3/266 ,  B32B5/26 ,  B32B9/005 ,  B32B9/007 ,  B32B9/04 ,  B32B9/041 ,  B32B15/20 ,  B32B2307/514 ,  B32B2307/54 ,  B32B2307/558 ,  B32B2307/732 ,  B32B2551/00 ,  B82Y15/00 ,  H01J2237/2007 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T156/1049

Abstract: 本发明涉及一种透射电镜微栅的制备方法，包括以下步骤：提供一载体，所述载体具有第一通孔；提供一碳纳米管结构，将该碳纳米管结构覆盖所述载体的第一通孔；以及提供一固定体，所述固定体具有第二通孔，并层叠设置所述固定体与所述载体层，使所述碳纳米管结构固定于所述载体和所述固定体之间。

公开(公告)号：CN101688295A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880016940.2

申请日：2008-03-18

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 朱利安·G·布雷克 ,  岱尔·K·史东 ,  留德米拉·史东 ,  大卫·苏若恩

IPC: C23C14/50 ,  H01J37/20 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H02N13/00

CPC classification number: H02N13/00 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/6833

Abstract: 一种静电夹持装置及一种减少对耦接至静电夹持装置的工件造成污染的方法。根据一实施例，耦接工件的静电夹持装置包括位于本体的表面上的用以接触工件的浮雕部，以及位于所述本体内的至少两个电极，其中至少两个电极被所述浮雕部下方的分离部分开。

公开(公告)号：CN101334345A

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200810127715.8

申请日：2008-06-27

Applicant: FEI公司

Inventor： M·F·海尔斯 ,  U·鲁克肯

IPC: G01N1/36 ,  G01N1/00

CPC classification number: G01N1/286 ,  G01N1/06 ,  G01N1/42 ,  G02B21/32 ,  H01J37/20 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/31745

Abstract: 本发明涉及将样品连接到操纵装置上的方法。本发明尤其涉及为了TEM(透射电子显微镜)检查，从衬底上提取例如玻璃化生物样品的冷冻水合样品，并将所述样品连接到操纵装置上。这种水合样品应该保持在低温温度以避免形成冰。通过熔化或升华该样品材料的将在TEM中研究的区域之外的一部分并将该材料冷冻至操纵装置(10)上，在样品(1)和操纵装置之间形成粘合。这允许将该样品从衬底上传送至例如TEM格栅。在优选实施方案中，操纵装置(10)的一部分(2)保持在低温温度，并且通过电加热顶端而加热该操纵装置的顶端(3)并且之后将该操纵装置的顶端冷却至低温温度而引起该熔化或升华，由此将该样品(1)冷冻至该操纵装置上。