公开(公告)号：WO2003055795A1

公开(公告)日：2003-07-10

申请号：PCT/DE2002/004641

申请日：2002-12-18

Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT ,  TECHNISCHE UNIVERSITÄT MÜNCHEN ,  KAPPES, Thomas ,  HAMMER, Thomas ,  ULRICH, Andreas

Inventor： KAPPES, Thomas ,  HAMMER, Thomas ,  ULRICH, Andreas

IPC: C01B3/02

CPC classification number: B01J19/085 ,  B01J3/004 ,  B01J19/0013 ,  B01J2219/00243 ,  B01J2219/029 ,  B01J2219/0875 ,  B01J2219/0894 ,  C01B3/342 ,  C01B2203/0216 ,  C01B2203/0222 ,  C01B2203/0255 ,  C01B2203/0861 ,  C01B2203/1241 ,  G21K5/04 ,  H01J3/02

Abstract: Bei einem Verfahren zur Behandlung und/oder Umwandlung von gasförmigen Brennstoffen, insbesondere zur Erzeugung von Wasserstoff für dezentrale Anwendungen, werden nicht thermische Plasmen eingesetzt. Dabei werden erfindungsgemäss Elektronenstrahlen mit einer Beschleunigungsspannung bis zu 20 kV verwendet. Bei der zugehörigen Vorrichtung sind der Elektronenquelle (41) geeignete Mittel (42 bis 47) zur Erzeugung eines Elektronenstrahls (48) und Einkopplung in einen Reaktor zugeordnet.

Abstract translation: 在用于治疗和/或气体燃料的转换的方法，尤其是用于制备用于分散的应用氢中，使用非热等离子体。 根据本发明，电子束在加速电压下使用至20kV。 在该电子源（41）的相关装置适合装置（42到47），用于产生电子束（48）和相关联的耦合到一个反应器中。

公开(公告)号：WO2002103738A2

公开(公告)日：2002-12-27

申请号：PCT/US2002/018436

申请日：2002-06-10

Applicant: HEWLETT-PACKARD COMPANY

Inventor： CHEN, Zhizhang ,  ENCK, Ronald L. ,  RAMAMOORTHI, Sriram ,  LIU, Qin

IPC: H01J1/00

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  H01J1/30 ,  H01J1/312 ,  H01J3/021 ,  H01J9/022 ,  H01J2237/1205

Abstract: A method for creating an electron lens (28) includes the steps of applying a polymer layer (12) on an emitter surface (36) of an electron emitter (60) and then curing the polymer layer (12) to reduce volatile content.

Abstract translation: 一种用于产生电子透镜（28）的方法包括以下步骤：在电子发射器（60）的发射极表面（36）上施加聚合物层（12），然后固化聚合物层（12）以降低挥发物含量。

公开(公告)号：WO2018093157A1

公开(公告)日：2018-05-24

申请号：PCT/KR2017/012981

申请日：2017-11-16

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 조복래

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/26 ,  H01J3/02

CPC classification number: H01J3/02 ,  H01J37/06 ,  H01J37/26

Abstract: 본 발명은 진공배기 후에 진공배기라인 연결부를 밀봉하고 게터를 전자총 내부에 포함시켜 진공을 유지하며 교환 가능한 전자총 및 이를 포함하는 전자현미경에 관한 것으로, 진공배기 후에 진공배기라인 연결부를 밀봉하고 게터를 전자총 내부에 포함시켜 진공을 유지하며, 전자현미경용 전자총을 전자빔 칼럼에서 분리 가능하여 손쉽게 교체가 가능하고, 전자빔 광학계와 함께 전자현미경을 구성하거나, 기존의 전자현미경의 전자총 교체용품으로 사용이 가능하여 경제적이다.

公开(公告)号：WO2013092762A1

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：PCT/EP2012/076232

申请日：2012-12-19

Applicant: UNIVERSITEIT ANTWERPEN

Inventor： VERBEECK, Johan ,  VAN TENDELOO, Gustaaf

IPC: H01J37/26

CPC classification number: H01J37/04 ,  H01J3/02 ,  H01J3/021 ,  H01J37/06 ,  H01J37/08 ,  H01J37/256 ,  H01J37/261 ,  H01J2237/06383 ,  H01J2237/2614

Abstract: A device (100) for imparting an orbital angular momentum to a charged particle wave propagating along a beam axis (104) in a charged particle beam generating apparatus is described. The device comprises a support element (106) having a target region (108) adapted for transmitting a charged particle wave propagating along a beam axis (104) and an induction means (112) for inducing a magnetic flux along an elongated profile having a free end portion located in said target region (108) and the induction means (112) is adapted for providing a magnetic flux in said elongated profile in order to induce an angular gradient, relative to the beam axis (104), of the phase of the charged particle wave when transmitted through said target region (108). A corresponding method is also disclosed, as well as the use thereof in electron microscopy.

Abstract translation: 描述了一种用于对带电粒子束产生装置中沿着光束轴（104）传播的带电粒子波进行轨道角动量的装置（100）。 所述装置包括支撑元件（106），所述支撑元件（106）具有适于传输沿着光束轴线（104）传播的带电粒子波的目标区域（108）和用于沿着具有自由度的细长轮廓感应磁通量的感应装置（112） 位于所述目标区域（108）中的末端部分和所述感应装置（112）适于在所述细长轮廓中提供磁通量，以便相对于所述射束轴线（104）相对于所述射束轴线（104）引起角度梯度， 带电粒子波通过所述目标区域（108）传输。 还公开了相应的方法，以及其在电子显微镜中的应用。

公开(公告)号：WO2012119786A1

公开(公告)日：2012-09-13

申请号：PCT/EP2012/001071

申请日：2012-03-09

Applicant: ELEKTA AB (PUBL) ,  LARGE, Terry, Arthur

Inventor： LARGE, Terry, Arthur

IPC: H05H9/00 ,  H01J25/34 ,  H01J1/46 ,  H01J23/075

CPC classification number: H01J25/34 ,  H01J3/02 ,  H01J23/075 ,  H05H9/048 ,  H05H2007/084

Abstract: The present invention provides an electron gun (12) comprising a cathode (20), for generating electrons; an anode (22); an intermediate electrode (24), located between the cathode and the anode; and a controller (14). The controller applies an electrical potential to said intermediate electrode, analysing a resultant electrical parameter to determine the integrity of said intermediate electrode; and controls the electron gun to emit a pulse of electrons.

Abstract translation: 本发明提供一种电子枪（12），包括用于产生电子的阴极（20） 阳极（22）; 位于阴极和阳极之间的中间电极（24）; 和控制器（14）。 控制器向所述中间电极施加电势，分析所得的电参数以确定所述中间电极的完整性; 并控制电子枪发射电子脉冲。

公开(公告)号：WO2010084020A1

公开(公告)日：2010-07-29

申请号：PCT/EP2010/000398

申请日：2010-01-22

Applicant: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. ,  WÜPPEN, Jochen ,  RUSSBÜLDT, Peter ,  HOFFMANN, Dieter ,  MANS, Torsten ,  STROTKAMP, Michael ,  WESTER, Rolf

Inventor： WÜPPEN, Jochen ,  RUSSBÜLDT, Peter ,  HOFFMANN, Dieter ,  MANS, Torsten ,  STROTKAMP, Michael ,  WESTER, Rolf

IPC: H01J35/06 ,  H01J37/06 ,  H01J37/075 ,  H01J37/24 ,  H05G1/00

CPC classification number: H01J3/02 ,  H01J37/06 ,  H01J37/075 ,  H01J2235/06

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung eines Elektronenstrahls mit einer Anordnung, die mindestens eine Kathode (1), ein elektrisch leitfähiges Gitter (2) und eine Anode (3) umfasst, sowie eine zugehörige Anordnung. In einem an die Kathode (1) und das Gitter (2) angrenzenden Bereich wird ein Plasma (6) erzeugt, aus dem über das Gitter (2) Elektronen (7) ausgekoppelt und in Richtung der Anode (3) beschleunigt werden. Das Plasma (6) wird beim vorgeschlagenen Verfahren durch Fokussieren von Laserpulsen auf eine Oberfläche der Kathode (1) erzeugt. Das Verfahren und die Anordnung lassen sich dadurch problemlos auch im Hochvakuum oder Ultrahochvakuum einsetzen und ermöglichen die Erzeugung sowohl von sub-μs-Pulsen als auch einen DC-Betrieb.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于产生具有一种结构的电子束中的至少一个阴极（1），导电网状物（2）和阳极（3），以及相关联的组件。 在阴极（1）和所述光栅（2）相邻的区域中的一个中产生的等离子体（6），耦合出的在栅板（2）的电子（7），并朝向阳极加速（3）。 等离子体（6）在所提出的方法通过聚焦阴极（1）的表面上的激光脉冲产生的。 该方法和装置可以甚至在高真空或超高真空使用任何问题，并允许两个子微秒脉冲以及一个DC操作的产生来表征。

公开(公告)号：WO2008102435A1

公开(公告)日：2008-08-28

申请号：PCT/JP2007/053101

申请日：2007-02-20

Applicant: 株式会社アドバンテスト ,  安田 洋 ,  原口 岳士

Inventor： 安田 洋 ,  原口 岳士

IPC: H01J37/065 ,  H01J3/02 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J3/02 ,  H01J29/48 ,  H01J37/063 ,  H01J37/075 ,  H01J2237/06316

Abstract: 本発明は、電子銃に関して、電子を放出する電子源の熱による昇華量を削減し、長期間安定に使用することを課題とする。 本発明の電子銃は、電子源（２０）の電子放出面と対向して配置され電子を加速する加速電極（２５）と、電子放出面と加速電極との間に配置され電子放出面に向かって光軸上に中心を持つ球状の凹面を有し当該電子放出面から電子を引き出す引き出し電極（２１）と、電子放出面の引き出し電極と反対側に配置され電子源の側面からの電子放出を抑制するサプレッサー電極（２４）とを有し、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して熱電界放射電子を放出させる。

Abstract translation: 在电子枪中减少由于用于发射电子的电子源的热引起的升华量，并且电子枪长时间稳定地使用。 电子枪设置有与电子源（20）的电子发射表面相对的加速电极（25），以加速电子; 布置在电子发射表面和加速电极之间的引出电极（21），具有在光轴上朝向电子发射表面的中心的球形凹入表面，以从电子发射表面提取电极; 以及用于抑制从电子源的侧面发射电子的抑制电极（24）。 将电场施加到电子发射表面，同时保持温度低至不具有电源材料的升华，并且发射热场发射电子。

公开(公告)号：WO2019035625A1

公开(公告)日：2019-02-21

申请号：PCT/KR2018/009300

申请日：2018-08-14

Applicant: 한국생산기술연구원

Inventor： 강은구 ,  최헌종

IPC: H01J3/02

CPC classification number: H01J3/02

Abstract: 본 발명은 아크의 발생이 억제되고, 전자빔의 집속각의 조절이 가능한 서프레서가 구비된 캐소드 구조의 전자빔 방출장치에 관한 것으로서, 본 발명의 일 형태에 따르면, 애노드, 상기 애노드와 대향되도록 구비되는 캐소드, 상기 캐소드의 전자빔 방출면으로부터 상기 애노드를 향한 방향으로 이격되게 구비되며, 상기 캐소드와 전기적으로 연결되고, 상기 애노드 측에서 볼 때 전자빔이 방출되는 캐소드의 중앙부위는 노출되도록 개구되며, 상기 캐소드의 테두리 부위는 가려지는 형태로 형성되는 서프레서를 포함하는 서프레서가 구비된 캐소드 구조의 전자빔 방출장치가 개시된다.

公开(公告)号：WO2011021802A3

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：PCT/KR2010005236

申请日：2010-08-10

Applicant: POSTECH ACAD IND FOUND ,  PARK YONG WOON ,  PARK SUNG JU ,  KO IN SOO ,  KIM CHANG BUM ,  HONG JU HO ,  MOON SUNG IK

Inventor： PARK YONG WOON ,  PARK SUNG JU ,  KO IN SOO ,  KIM CHANG BUM ,  HONG JU HO ,  MOON SUNG IK

IPC: H01J23/06 ,  H01J23/20

CPC classification number: H01J3/02

Abstract: The present invention relates to an electron beam generating apparatus capable of reducing the emittance of an electron beam. For this purpose, the electron beam generating apparatus according to the present invention comprises: a housing having a rear surface portion for generating an electron beam, a front surface portion having an electron beam emitting hole for emitting the generated electron beam to the outside, and a side surface portion for interconnecting the rear surface portion and the front surface portion, wherein the side surface portion has a first hole, and the opposite side surface portion facing said side surface with the first hole has a second hole to reduce an electric field imbalance caused by the first hole; and a waveguide arranged at the side surface portion to supply electromagnetic waves into the housing through the first hole. The laser beam applied into the housing generates an electron beam, and the thus-generated electron beam is accelerated by the electromagnetic waves supplied into the housing.

Abstract translation: 本发明涉及一种能够减小电子束的发射的电子束发生装置。 为此目的，根据本发明的电子束发生装置包括：具有用于产生电子束的后表面部分的壳体，具有用于将产生的电子束发射到外部的电子束发射孔的前表面部分，以及 用于互连所述后表面部分和所述前表面部分的侧表面部分，其中所述侧表面部分具有第一孔，并且与所述第一孔相面对的所述侧表面的相对侧表面部分具有第二孔以减小电场不平衡 第一个洞造成的; 以及布置在侧表面部分处的波导，以通过第一孔向壳体中提供电磁波。 施加到壳体中的激光束产生电子束，并且由此产生的电子束被供应到壳体中的电磁波加速。

公开(公告)号：WO2005119732A2

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：PCT/US2005019794

申请日：2005-06-06

Applicant: MASSACHUSETTS INST TECHNOLOGY ,  BHATT RONAK J ,  CHEN CHIPING ,  ZHOU JING

Inventor： BHATT RONAK J ,  CHEN CHIPING ,  ZHOU JING

IPC: H01J3/02 ,  H01J3/20 ,  H01J27/02 ,  H01J29/64 ,  H01J37/00

CPC classification number: H01J27/02 ,  G21K1/093 ,  H01J3/02 ,  H01J3/12 ,  H01J3/20 ,  H01J29/64

Abstract: The charged-particle beam system includes a non-axisymmetric diode forms a non-axisymmetric beam having an elliptic cross-section. A focusing element utilizes a magnetic field for focusing and transporting the non-axisymmetric beam, wherein the non-axisymmetric beam is approximately matched with the channel of the focusing element.

Abstract translation: 带电粒子束系统包括非轴对称二极管形成具有椭圆截面的非轴对称束。 聚焦元件利用磁场来聚焦和传送非轴对称光束，其中非轴对称光束与聚焦元件的通道近似匹配。