Abstract:
기판이 장착되는 받침대, 받침대 위의 기판에 감광액을 도포하는 노즐, 노즐에 감광액을 공급하는 감광액 공급 장치, 기판을 따라 이동하며 감광액을 도포하는 방향을 스캔 방향이라 할 때, 노즐을 스캔 방향을 따라 이동시키는 노즐 이동 장치, 스캔 방향과 반대 방향으로 받침대를 이동시키는 받침대 이동 장치를 포함하는 도포 장치. 도포장치, 노즐, 받침대, 동시구동
Abstract:
식각 특성이 우수한 Mo 박막 패턴의 형성 방법 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 기판의 제조방법이 개시되어 있다. 먼저, 80∼150℃의 온도 범위에서, 12,000∼16,000 Watts 범위의 파워를 인가하고, 증착 속도는 100∼120 Å/초 범위로 Mo를 증착하여 Mo 박막을 형성하도록 한다. 다음에, 형성되는 Mo 박막을 식각하여 Mo 박막 패턴을 형성하도록 한다. 형성되는 Mo 박막 패턴은 잔사나 얼룩이 없고 이중막의 막간 단차도 생성되지 않을 뿐만 아니라 깨끗한 패턴으로 제조된다. 따라서, 이러한 증착 조건에 따라 증착되고 식각된 Mo 박막 패턴을 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 제조시에 적용하면 결함이 감소되고 품질이 향상된 기판을 제조할 수 있다.
Abstract:
먼저, 기판의 상부에 알루미늄 합금의 도전막을 차례로 적층하고 패터닝하여 기판 위에 게이트선, 게이트 전극 및 게이트 패드를 포함하는 가로 방향의 게이트 배선을 형성한다. 다음, 게이트 절연막을 형성하고, 그 상부에 반도체층 및 저항 접촉층을 차례로 형성한다. 이어, 크롬의 하부막과 알루미늄 합금의 상부막으로 이루어질 도전층을 적층하고 패터닝하여 게이트선과 교차하는 데이터선, 소스 전극, 드레인 전극 및 데이터 패드를 포함하는 데이터 배선을 형성한다. 이때, 크롬의 하부막은 8-12%의 Ce(NH 4 ) 2 (NO 3 ) 6 과 4-12%의 질산(NH 3 )과 나머지 초순수로 이루어진 식각액을 이용하여 습식 식각으로 패터닝하며, 식각액에서 질산이 4-8%인 경우에는 4-8%의 질산과 초순수로 이루어진 세정액을 이용하여 습식 세정을 실시할 수 있다. 이어, 데이터 배선으로 가리지 않는 저항성 접촉층을 제거하여 반도체층의 채널부를 드러낸다. 이어, 보호막을 적층하고 패터닝하여 드레인 전극, 게이트 패드 및 데이터 패드를 드러내는 접촉 구멍을 형성한 다음, IZO를 적층하고 패터닝하여 드레인 전극, 게이트 패드 및 데이터 패드와 각각 연결되는 화소 전극, 보조 게이트 패드 및 보조 데이터 패드를 형성한다. 알루미늄, IZO, 식각액, 크롬, 식각시간
Abstract:
본 발명에 따른 냉장고는 내상과 외상을 가지며 주저장실과 보조저장실이 구획되어 형성된 본체와, 주저장실의 후방영역에 배치되어 주저장실을 냉각하는 주 증발기와 보조저장실의 후방영역에 배치되어 보조저장실을 냉각하는 보조증발기를 포함하는 증발기와, 주증발기와 보조증발기의 전방에 마련되어 주증발기 및 보조증발기와 해당 저장실을 구획하여 냉기 유로를 형성하는 저장실 덕트와, 주저장실과 보조저장실의 냉기가 독립적으로 유동하도록 주저장실과 보조저장실을 구획하는 구획격벽을 포함하며; 구획격벽은, 본체에 고정 결합되어 구획격벽의 전방부분을 구성하는 고정격벽부와, 저장실 덕트와 고정격벽부 사이에 착탈가능하게 마련되어 구획격벽의 후방부분을 구성하는 가동격벽부를 포함한다. 본 발명에 따른 냉장고의 제조방법은 내상과 외상을 가지며, 주저장실과 보조저장실이 구획되어 형성된 본체를 갖는 냉장고의 제조방법에 있어서, 본체의 주저장실과 보조저장실을 구획하여 각 저장실의 냉기가 독립적으로 유동하도록 고정격벽부와 가동격벽부를 갖는 구획격벽을 마련하는 단계와; 고정격벽부를 본체의 전방영역에 결합하는 단계와; 주저장실을 냉각하는 주증발기를 주저장실의 후방 영역에 배치하는 단계와; 보조저장실을 냉각하는 보조증발기를 보조저장실의 후방 영역에 배치하는 단계와; 증발기와 해당 저장실을 구획하여 냉기 유로를 형성하는 저장실 덕트를 주증발기와 보조증발기 전방 영역에 마련하는 단계와; 가동격벽부를 저장실 덕트와 고정격벽부 사이에 착탈가능하게 결합하는 단계를 포함한다. 이에 의하여, 주저장실과 구획되어 별도로 식품을 저장할 수 있는 보조저장실을 가지며, 각 저장실의 냉기가 독립적으로 제어되는 냉장고로서, 제조가 용이한 냉장고 및 그 제조방법을 제공한다. 또한, 냉장고의 제조시 발생하는 냉장고의 변형을 방지할 수 있는 냉장고 및 그 제조방법을 제공한다. 냉장고, 저장실, 구획
Abstract:
A refrigerator and a controlling method for the same are provided to reduce a defrosting time and improve defrosting efficiency by preventing a refrigerant from flowing into a plurality of evaporators. In a refrigerator, a main body forms storage rooms over three. A cooling device(10) has a plurality of evaporators(25,26) coping with each storage room. The cooling device includes a supply refrigerant pipe(21) supplying a refrigerant to the plurality of evaporators, a plural distribution refrigerant pipes connecting with the evaporators, and connection refrigerant pipe(28) connecting any one exit of the plural distribution refrigerant pipes with the other exit of the plural distribution refrigerant pipes.
Abstract:
본 발명은, 적어도 하나의 냉각실을 갖는 본체와, 상기 냉각실의 개구를 개폐하는 도어와, 상기 도어에 마련되어 식수를 공급하는 워터디스펜서를 구비한 냉장고에 관한 것으로서, 상기 냉각실 내부에 마련된 수납서랍과; 상기 수납서랍의 후방에 배치되어 상기 워터디스펜서로 공급되는 물을 정수하는 필터조립체를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 고내 유효용적이 증대됨에 따라 고내 공간활용도가 향상될 뿐만 아니라 사용자가 간편하게 필터조립체를 교체할 수 있는 냉장고가 제공된다. 또한 고내가 말끔하게 정리되어 미관이 향상되고 필터조립체를 위한 재료비가 절감된 냉장고가 제공된다.
Abstract:
본 발명은, 건식 식각용 플라즈마 챔버와, 상기 플라즈마 챔버에 전극전원을 제공하며 임피던스 정합부를 갖는 전원부를 포함하는 건식 식각 장치에서 발생하는 기판 손상 제어방법에 있어서, 상기 임피던스 정합부와 상기 플라즈마 챔버 사이에서 적어도 하나의 전기적 파라미터를 측정하는 단계, 측정된 전기적 파라미터의 값이 소정 시간 내에 소정 범위 이상으로 변화된 경우 기판 손상의 발생으로 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 건식 식각 장치에서 발생하는 기판의 손상을 제어 할 수 있다.
Abstract:
A TFT(thin film transistor) substrate is provided to prevent a lower interconnection from being damaged in an etch process and prevent foreign substances from being caught in a probe in a gross test by forming a pixel electrode composed of a dual layer of an IZO(indium tin oxide) layer and an ITO(indium zinc oxide) layer. An insulation substrate(10) is prepared. The first signal line is formed on the insulation substrate. The first insulation layer is formed on the first signal line. The second signal line crosses the first signal line, formed on the first insulation layer. A TFT is electrically connected to the first and second signal lines. The second insulation layer is formed on the TFT, having the first contact hole(76) exposing a predetermined electrode of the TFT. A pixel electrode(82) is formed on the second insulation layer, connected to the predetermined electrode of the TFT through the first contact hole and made of a dual layer composed of an IZO layer(821,861,881) and an ITO layer(822,862,882).
Abstract:
PURPOSE: A photoresist coater is provided to uniformly coat photoresist on a substrate and easily control the thickness of the photoresist coated on the substrate. CONSTITUTION: A photoresist coater includes a photoresist coating unit for coating photoresist on a substrate. The photoresist coating unit includes a main body(10) and a nozzle part(50). The main body has a photoresist container for containing photoresist. The nozzle part includes a plurality of nozzle holes(51) connected to the photoresist container to spray the photoresist. Each of the nozzle holes has a diameter of 1.5 to 50 micrometer.
Abstract:
PURPOSE: A spreading apparatus is provided to improve productivity by simultaneously moving a nozzle and a supporting plate in opposite directions. CONSTITUTION: A substrate(10) is loaded on a supporting plate(100). A nozzle(500) is used for spreading a photoresist solution(20) onto the substrate. A photoresist solution supply unit supplies the photoresist solution to the nozzle. A nozzle moving unit moves along the substrate in order to shift the nozzle in a scanning direction. A supporting plate moving unit(600) shafts the supporting plate in the direction opposite to the scanning direction.