반사형 레티클 척, 그것을 포함하는 반사형 조명 시스템, 그것을 이용한 반사형 레티클의 평탄성을 개선하는 방법 및 반도체 소자를 제조하는 방법
    71.
    发明公开
    반사형 레티클 척, 그것을 포함하는 반사형 조명 시스템, 그것을 이용한 반사형 레티클의 평탄성을 개선하는 방법 및 반도체 소자를 제조하는 방법 有权
    反射镜和反射照明系统,包括它们的反射照明系统的改进方法和使用它的制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:KR1020110061403A

    公开(公告)日:2011-06-09

    申请号:KR1020090118034

    申请日:2009-12-01

    CPC classification number: G03F7/707 G03F7/70708 G03F7/70783 G03F7/702

    Abstract: PURPOSE: A reflective reticle chuck and a reflective illumination system including the same, a method for increasing the flatness of a reflective reticle, and a method for manufacturing a semiconductor device are provided to accurately control the flatness of the reflective reticle, thereby increasing productivity. CONSTITUTION: A reflective reticle chuck includes a non fluid flowing part(141) and a fluid flowing part(145). The non fluid flowing part is an outer area and the fluid flowing part is a central area. The fluid flowing part is made of cells. A flat frame is fixed to an edge area. Cells comprise an elevator. Some frames are expanded between cells.

    Abstract translation: 目的:提供一种反射型掩模版卡盘及其反射照明系统,提高反射型掩模版的平坦度的方法及半导体装置的制造方法,以精确地控制反射型掩模版的平坦度,提高生产率。 构成:反射式光罩卡盘包括非流体流动部分(141)和流体流动部分(145)。 非流体流动部分是外部区域,流体流动部分是中心区域。 流体流动部分由电池制成。 平面框架固定在边缘区域。 细胞包括电梯。 一些帧在单元之间展开。

    영상 데이터 처리 방법
    72.
    发明公开
    영상 데이터 처리 방법 无效
    图像数据处理方法

    公开(公告)号:KR1020100130654A

    公开(公告)日:2010-12-14

    申请号:KR1020090048205

    申请日:2009-06-01

    CPC classification number: G06T7/60 G06T7/0006 G06T7/73 G06T2207/10061

    Abstract: PURPOSE: A method for processing image data is provided to measure the linewidth of a bar pattern by using an automatic rotation angle correction algorithm. CONSTITUTION: Image data including at least one bar pattern is obtained(S100). The coordinates of an edge of a bar pattern are detected(S200). The outline curve of the bar pattern is extracted(S300). A major axial direction is set by differentiating the outline curve of the bar pattern. The image data is rotated so that the major axis coincides with the reference axis(S400). The information of the bar pattern is extracted by processing the bar pattern of the image data.

    Abstract translation: 目的:提供一种处理图像数据的方法,通过使用自动旋转角度校正算法来测量条形图案的线宽。 构成:获得包括至少一个条形图案的图像数据(S100)。 检测条形图案的边缘的坐标(S200)。 提取条形图案的轮廓曲线(S300)。 通过区分条形图案的轮廓曲线来设定主轴向。 旋转图像数据使得长轴与参考轴重合(S400)。 通过处理图像数据的条形图案来提取条形图案的信息。

    플래어 평가 방법
    73.
    发明公开
    플래어 평가 방법 有权
    FLARE EVLAUATION方法

    公开(公告)号:KR1020100111995A

    公开(公告)日:2010-10-18

    申请号:KR1020090030510

    申请日:2009-04-08

    Abstract: PURPOSE: A method for evaluating a flare is provided to extract a point spread function using direct-current(DC) flare reference data and the change of a photo-resist measuring pattern. CONSTITUTION: DC flare reference data is extracted using an opened dummy mask(S100). A plurality of flare gauge sets including an opaque pad, a measuring pattern, and a flare pattern is prepared(S200). The change of a photo-resist measuring pattern due to the flare pattern and the measuring pattern is detected(S300). A point spread function is extracted using the DC flare reference data and the change of the photo resist measuring pattern(S400).

    Abstract translation: 目的:提供一种用于评估耀斑的方法,以使用直流(DC)光斑参考数据和光刻胶测量图案的改变来提取点扩散函数。 构成:使用打开的虚拟掩模提取DC闪光参考数据(S100)。 制备包括不透明垫,测量图案和耀斑图案的多个喇叭表组(S200)。 检测由于光斑图案和测量图案引起的光电阻测量图案的变化(S300)。 使用DC flare参考数据和光刻胶测量图案的改变来提取点扩散函数(S400)。

    다층 광기록 매체 및 그 제조 방법
    74.
    发明公开
    다층 광기록 매체 및 그 제조 방법 无效
    具有多层光学记录介质及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020080078254A

    公开(公告)日:2008-08-27

    申请号:KR1020070018093

    申请日:2007-02-22

    Abstract: A multi-layer optical recording medium and a method for fabricating the same are provided to irradiate ultraviolet light to the top reflection layer of the reflection layers from two directions for restricting the tilt which is generated during an ultraviolet hardenable process of the space layers. An optical recording medium(20) having multi layers comprises a substrate(21), a plurality of reflection layers(22,24,26,28), space layers(23,25,27), and a cover layer(29). The reflection layers are deposited on the substrate. The space layers are placed among the reflection layers and are made of ultraviolet hardenable resin. The cover layer is formed on the top reflection layer of the reflection layers. The ultraviolet light is permeated from two directions to the top reflection layer. The ultraviolet light transmissivity to the top reflection layer is at least 10%.

    Abstract translation: 提供多层光学记录介质及其制造方法,用于从两个方向向反射层的顶部反射层照射紫外光,以限制在空间层的紫外线可硬化处理过程中产生的倾斜。 具有多层的光学记录介质(20)包括基底(21),多个反射层(22,24,26,28),空间层(23,25,27)和覆盖层(29)。 反射层沉积在基底上。 空间层位于反射层之间,由紫外线硬化树脂制成。 覆盖层形成在反射层的顶部反射层上。 紫外光从两个方向渗透到顶部反射层。 对顶部反射层的紫外线透过率至少为10%。

    편심 제어를 위한 광디스크 제조 방법
    75.
    发明授权
    편심 제어를 위한 광디스크 제조 방법 失效
    光盘制造方法容易控制偏心

    公开(公告)号:KR100782805B1

    公开(公告)日:2007-12-06

    申请号:KR1020010041210

    申请日:2001-07-10

    Abstract: 기판 및 시트 제조시 각각의 외주부에 편심 제어용 정보를 형성하여 편심을 용이하게 제어할 수 있는 광디스크 제조 방법이 개시되어 있다.
    개시된 편심 제어를 위한 광디스크 제조 방법은, 최종적으로 완성될 디스크의 직경보다 큰 직경을 갖는 기판을 준비하는 단계; 상기 기판의 외주부에 편심 제어용 제1정보를 형성하는 단계; 소정 두께의 시트를 준비하는 단계; 상기 시트의 외주부에 상기 기판의 편심 제어용 제1정보에 대응되는 제2정보를 형성하는 단계; 상기 제1정보에 제2정보를 맞추어 상기 기판과 상기 시트를 접합하는 단계; 상기 시트가 접합된 기판의 외주부를 절삭하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
    이와 같이 하여 최종적으로 얻고자 하는 디스크의 직경보다 큰 기판의 외주부에 편심 제어용 정보를 기록하고, 이를 기준으로 기판에 시트를 접합함으로써 용이하게 편심을 제어할 수 있다. 뿐만 아니라, 편심 제어용 정보를 기록하는 영역을 데이터가 기록되는 영역과 별도로 마련하여 기록 용량을 감소시키지 않으면서 편심을 조절하여 보다 양호한 디스크를 제조할 수 있다.

    광기록 매체의 커버층 형성 방법
    76.
    发明授权
    광기록 매체의 커버층 형성 방법 失效
    在光记录介质上形成覆盖层的方法

    公开(公告)号:KR100708181B1

    公开(公告)日:2007-04-17

    申请号:KR1020050088688

    申请日:2005-09-23

    Abstract: 본 발명은 광기록 매체의 표면 위에 형성되는 커버층의 두께를 균일하게 할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 양호한 실시예에 따른 광기록 매체의 커버층 형성 방법은, 광기록 매체의 상면에 광폴리머 수지를 토출하는 단계; 평평한 표면을 갖는 가압 플레이트로 상기 광폴리머 수지를 가압하는 동시에 상기 광기록 매체를 회전시킴으로써, 상기 광폴리머 수지를 상기 광기록 매체 상에 균일한 두께로 분포시키는 단계; 상기 광폴리머 수지를 경화시켜 상기 광기록 매체 상에 커버층을 형성하는 단계; 및 상기 가압 플레이트를 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

    스토리지 전극과의 접촉 면적을 보다 확보하기 위해서비트 라인 방향으로 확장된 콘택체를 포함하는 반도체소자 제조 방법
    77.
    发明授权
    스토리지 전극과의 접촉 면적을 보다 확보하기 위해서비트 라인 방향으로 확장된 콘택체를 포함하는 반도체소자 제조 방법 失效
    一种制造半导体器件的方法,包括沿着位线方向扩展的接触体以获得与存储节点的更接近的区域

    公开(公告)号:KR100505656B1

    公开(公告)日:2005-08-04

    申请号:KR1020020078388

    申请日:2002-12-10

    Abstract: 스토리지 전극(storage node)과의 접촉 면적을 보다 확보하기 위해서 비트 라인(bit line) 방향으로 확장된 콘택체(contact body)를 포함하는 반도체 소자 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일 관점에 의한 제조 방법은, 반도체 기판 상에 게이트 라인(gate line)들 및 제1절연층을 형성하고, 제1절연층을 관통하여 반도체 기판 상에 전기적으로 연결되는 제1콘택 패드(first contact pad)들 및 제2콘택 패드들을 형성한다. 제1콘택 패드들 및 상기 제2콘택 패드들을 덮는 제2절연층을 형성하고, 제2절연층 상에 게이트 라인들 상을 가로지르고 제2절연층을 관통하여 제2콘택 패드들에 각각 전기적으로 연결되는 비트 라인들을 형성한다. 비트 라인들을 덮는 제3절연층을 형성한다. 제3절연층을 선택적으로 식각하여 비트 라인들을 다수 개 가로지고 적어도 제1콘택 패드들을 노출하는 밴드(band) 형태의 오프닝(opening)을 형성한다. 제3절연층 상에 오프닝을 채우는 도전층을 형성하고, 도전층을 패터닝하여 비트 라인 방향으로 제3절연층 상으로 확장된 확장부와 제1콘택 패드에 전기적으로 연결되는 몸체부를 일체로 포함하는 개개의 스토리지 전극 콘택체들로 분리한다. 개개의 스토리지 전극 콘택체들 상에 실린더(cylinder) 형태의 스토리지 전극들을 각각 형성한다.

    웨이퍼 에지 영역에 형성된 통합 얼라인먼트 키를 갖는반도체 소자 및 그 제조방법
    78.
    发明公开
    웨이퍼 에지 영역에 형성된 통합 얼라인먼트 키를 갖는반도체 소자 및 그 제조방법 无效
    具有在WAFER边缘区域中形成的集成对准的半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020050039455A

    公开(公告)日:2005-04-29

    申请号:KR1020030074924

    申请日:2003-10-25

    Abstract: 메인 칩의 면적 축소 없이, 반도체 제조 공정시 사용되는 모든 노광 설비의 얼라인먼트 키를 모두 웨이퍼 상에 형성하여, 패턴 불량을 방지할 수 있는 반도체 소자 및 그 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 반도체 소자는, 에지 영역 및 상기 에지 영역에 의해 둘러싸여진 중심 영역을 포함하는 반도체 웨이퍼, 및 상기 웨이퍼 에지 영역에 형성되는 다수의 얼라인먼트 키로 구성되는 통합 얼라인먼트 키 그룹을 포함한다. 상기 통합 얼라인먼트 키 그룹은, 반도체 소자를 제조하는 공정시 이용되는 노광 설비의 특정 얼라인먼트 키를 모두 포함하며, 상기 얼라인먼트 키는 서로 다른 구조를 갖는 얼라인먼트 키가 교대로 배치된다.

    광 디스크
    79.
    发明公开
    광 디스크 有权
    光盘

    公开(公告)号:KR1020050025456A

    公开(公告)日:2005-03-14

    申请号:KR1020030062682

    申请日:2003-09-08

    Abstract: An optical disk is provided to include one data recording layer, and to dispose lead-in zones, data zones, and lead-out zones at the recording layer, thereby more reliably recording more control data. The first control data zone is disposed in a lead-in zone of a recording layer, while the second control data zone is disposed in a lead-out zone of the recording layer. Control data for using an optical disk are repeatedly recorded in the first control data zone and the second control data zone. The same control data are repeatedly recorded in either the first control data zone or the second control data zone. The control data are recorded in the control data zones by using bi-phase modulated wobble signals.

    Abstract translation: 提供光盘以包括一个数据记录层,并且在记录层处配置引入区,数据区和引出区,从而更可靠地记录更多的控制数据。 第一控制数据区设置在记录层的引入区,而第二控制数据区设置在记录层的引出区。 用于使用光盘的控制数据被重复记录在第一控制数据区和第二控制数据区中。 相同的控制数据被重复记录在第一控制数据区或第二控制数据区中。 通过使用双相调制摆动信号将控制数据记录在控制数据区中。

    반도체 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 에스램 장치,에스램 장치 제조 방법.
    80.
    发明公开
    반도체 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 에스램 장치,에스램 장치 제조 방법. 有权
    具有高度集成度的半导体器件,通过增加照相工艺的方法,制备相同方法提高生产率及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020050008309A

    公开(公告)日:2005-01-21

    申请号:KR1020030048223

    申请日:2003-07-15

    Abstract: PURPOSE: A semiconductor device, a fabricating method of the same, an SRAM device, and a method of fabricating the same are provided to secure a high degree of integration by increasing a photo process margin. CONSTITUTION: A P-type doping region and an N-type doping region are formed within a unit cell region of a semiconductor substrate. A plurality of active patterns(102) having a first pitch are arranged in the P-type doping region and the N-type doping region. A plurality of gate patterns having a second pitch are arranged vertically to the active patterns. The first and the second pitches are formed with same size. A length of a first side of the unit cell region corresponds to integer times of the first pitch.

    Abstract translation: 目的:提供一种半导体器件及其制造方法,SRAM器件及其制造方法,以通过增加光处理裕度来确保高集成度。 构成:在半导体衬底的单元电池区域内形成P型掺杂区域和N型掺杂区域。 在P型掺杂区域和N型掺杂区域中布置具有第一间距的多个有源图案(102)。 具有第二间距的多个栅极图案垂直于有源图案布置。 第一和第二间距形成相同的尺寸。 单元区域的第一侧的长度对应于第一间距的整数倍。

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