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71.
公开(公告)号:KR1020040074768A
公开(公告)日:2004-08-26
申请号:KR1020030010164
申请日:2003-02-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67393 , H01L21/67017 , H01L21/67769
Abstract: PURPOSE: A method for safely storing an object, and apparatus having a storage box and a stocker for storing an object are provided to remove effectively contaminants from the object by inducing smoothly gas flow within a storage box. CONSTITUTION: A storage box(103) is provided to receive an object. The storage box is sealed up by performing a sealing process. The gas is injected into the storage box through the first valve connected to the storage box by supplying the gas to the storage box. The gas is exhausted from the storage box to the outside through the first valve connected to the storage box by increasing the internal gas pressure of the storage box.
Abstract translation: 目的:提供一种用于安全存储物体的方法,以及具有用于存储物体的存储箱和储料器的设备,以通过在存储箱内引起平稳的气流来有效地去除污染物。 构成:提供存储盒(103)以接收对象。 通过执行密封处理将储物箱密封。 通过将气体供给到储藏箱,通过连接到储藏箱的第一阀将气体注入储存箱。 通过增加存储箱的内部气体压力,通过连接到储存箱的第一阀将气体从储存箱排出到外部。
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公开(公告)号:KR1020040072383A
公开(公告)日:2004-08-18
申请号:KR1020030008847
申请日:2003-02-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/67772
Abstract: PURPOSE: A substrate transfer module is provided to purge a substrate transfer chamber by using a purge gas supplied from a gas supply unit. CONSTITUTION: A load port(302) is used for supporting a bowl for storing a plurality of substrates. A substrate transfer chamber is installed between the load port and a substrate processing module for processing the substrates. A substrate transfer robot(306) is installed in the inside of the substrate transfer chamber in order to transfer the substrate between the bowl and the substrate processing module. A gas supply unit(320) is connected to a substrate transfer chamber(304) in order to supply purge the inside of the substrate transfer chamber. A contamination control unit(340) is connected to the substrate transfer chamber in order to supply the purge gas to the substrate transfer chamber and remove particles and airborne molecular contaminants.
Abstract translation: 目的:提供基板转印模块,用于通过使用从气体供应单元供应的净化气体吹扫基板转移室。 构成:负载端口(302)用于支撑用于存储多个基板的碗。 衬底传送室安装在负载端口和用于处理衬底的衬底处理模块之间。 衬底传送机器人(306)安装在衬底传送室的内部,以便在碗和衬底处理模块之间传送衬底。 气体供给单元(320)连接到基板传送室(304),以便向基板传送室的内部提供吹扫。 污染控制单元(340)连接到基板传送室,以便将清洗气体供应到基板传送室,并去除颗粒和空气传播的分子污染物。
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公开(公告)号:KR100304706B1
公开(公告)日:2001-11-01
申请号:KR1019990022542
申请日:1999-06-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B24B37/345 , H01L21/67051
Abstract: 웨이퍼표면에스크레치를발생시키는오염물질을효과적으로제거할수 있도록된 화학기계적연마장치와오염물질세척방법에관하여개시된다. 개시된화학기계적연마장치의로드컵내에는제1 노즐, 제2 노즐및 제3 노즐을구비하는세척수단이마련된다. 제1 노즐은순수를분사하여페디스탈에잔류된오염물질을세척하고, 제2 노즐은순수를분사하여연마헤드의저면에장착된멤브레인에잔류된오염물질을세척하며, 제3 노즐은멤브레인의외주면과연마헤드의하부가장자리에설치된리테이너링의내주면사이에형성된공간에유입된오염물질을세척하기위해리테이너링에형성된퍼지홀을통하여오염물질이유입된공간으로순수를분사한다. 그리고, 화학기계적연마장치의보호카바내부의오염물질을배출시키기위하여보호카바의측면하부에설치되는배기구를포함하는배기수단이마련된다.
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公开(公告)号:KR1020000019934A
公开(公告)日:2000-04-15
申请号:KR1019980038292
申请日:1998-09-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: PURPOSE: A monitoring system is made so that a scale of system hardware is increased only in quantity but a cable for installing a number of sensors is not increased when applying a number of sensors in the system by minimizing wire. CONSTITUTION: A monitoring system is applied using the fact that sensing signals of all kinds of sensors(S01-S0n,S11-S1n) can be supplied to a main controller(3) through a data buffer(4a,4b) only by connecting the sensors watching a process state of a facility with wire. The system can use the space of the facility effectively by removing wire connecting the sensors with the data buffer, by adding a function receiving a wireless data to the data buffer and transmitting the sensing signals of the sensors wirelessly by connecting a wireless data transmission unit(5,6) to the sensors which transmits the sensing signals of the sensors wirelessly after converting into wireless signals.
Abstract translation: 目的:进行监控系统,使系统硬件的规模只能在数量上增加,但是通过最小化电线来在系统中应用多个传感器时,不会增加安装多个传感器的电缆。 构成:使用以下事实来应用监控系统,只要通过连接数据缓冲器(4a,4b),可以通过数据缓冲器(4a,4b)将各种传感器(S01-S0n,S11-S1n)的感测信号提供给主控制器(3) 用传感器观察设备的过程状态。 通过将数据缓冲器与传感器连接,通过将数据接收无线数据的功能添加到数据缓冲器并通过连接无线数据传输单元(无线传输)来传输传感器的感测信号,系统可以有效地利用设备的空间, 5,6)传送到在转换成无线信号之后无线地传送传感器的感测信号的传感器。
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公开(公告)号:KR100219406B1
公开(公告)日:1999-09-01
申请号:KR1019960010292
申请日:1996-04-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/0227 , Y10S414/135 , Y10S414/137
Abstract: 고청정 상태로 송풍되어 유입되는 공기의 흐름이 웨이퍼가 위차한 보트쪽으로 이루어지도록 공기가 유입되는 부분을 개선시킨 화학기상증착설비의 웨이퍼 로딩실의 공기흐름안내장치에 관한 것이다.
본 발명은, 화학기상증착을 위한 반응실에 보트를 통하여 로딩되는 웨이퍼의 청정유지를 위하여 웨이퍼로딩실 내부로 청정 공기류를 제공하기 위한 송풍부에 있어서, 상기 송풍부의 내벽에 공기흐름을 일정방향으로 안내하기 위한 안내수단이 설치되어 이루어진다.
따라서, 저압화학기상증착 설비의 웨이퍼로딩실에서의 기류가 원활히 안내되고 와류가 형성되지 않아서 공기의 풍속이 적정 수준으로 유지되므로, 웨이퍼로딩실내의 파티클 수가 격감되어 웨이퍼의 오염을 크게 줄일 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号:KR1019990033250A
公开(公告)日:1999-05-15
申请号:KR1019970054559
申请日:1997-10-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 캐리어에 적재된 웨이퍼의 유동을 방지할 수 있는 반도체장치 이송용 캐리어에 관한 것이다.
본 발명의 캐리어는, 다수매의 웨이퍼를 적재하는 캐리어에 상기 웨이퍼를 낱장으로 분리시켜 적재할 수 있도록 상기 캐리어의 양측부에 연속적으로 형성되는 슬롯; 및 상기 웨이퍼의 적재시 상기 웨이퍼가 고정되도록 상기 슬롯과 상기 슬롯에 인접하는 슬롯사이에서 가변할 수 있도록 형성되는 가변고정부를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 웨이퍼의 유동으로 인해 웨이퍼가 손상되는 상황 등을 방지할 수 있어 생산성이 향상되는 효과가 있다.-
公开(公告)号:KR1019980082259A
公开(公告)日:1998-12-05
申请号:KR1019970017064
申请日:1997-05-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: 반도체장치의 제조공정이 수행되는 클린룸 내부의 파티클 카운터와 같은 계측장치로부터 계측상태에 대한 신호가 근거리 통신망(Local Area Network)을 통하여 호스트컴퓨터로 전송됨으로써 계측장치의 동작상태가 온라인으로 실시간 감시하는 클린룸 계측장치 상태 모니터링 시스템 및 그를 이용한 모니터링 방법에 관한 것으로서, 파티클 카운터와 같은 클린룸에 설치된 계측기기의 계측 결과와 계측기기의 정확한 계측수행을 위한 펌핑 상태 또는 광의 세기와 같은 상태에 대한 정보를 온라인으로 원거리에 위치한 호스트 컴퓨터에 전송하고, 호스트 컴퓨터에 인스톨된 자기진단기능을 수행하기 위한 소프트웨어를 이용하여 계측기기의 상태를 정확히 체크하도록 구성되어 있다.
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公开(公告)号:KR1019980076731A
公开(公告)日:1998-11-16
申请号:KR1019970013577
申请日:1997-04-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: 본 발명은 제로 카운팅 및 레이저 클리닝 작용이 상시적으로 이루어질 수 있도록 하는 에어 파티클 모니터링 시스템의 클리닝 장치에 관한 것으로, 그 구성은 파티클 프로우브들을 거쳐 유입되는 파티클을 수집하기 위한 복수개의 수집관들을 갖는 매니폴드와, 상기 매니폴드로부터 배출되는 상기 파티클의 광학적 크기를 카운팅하여 소정의 펄스신호로 변환하는 카운터와, 상기 카운터로부터 출력되는 펄스신호를 디스플레이하는 모니터를 포함하는 에어 파티클 모니터링 시스템에 있어서, 상기 매니폴드의 소정부위에는 상기 수집관들중 어느 하나와 연결된 퍼지필터가 설치되는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명에서는 매니폴드에 소정의 클리닝 기능을 갖는 퍼지수단이 고정·설치됨으로써, 시스템을 해체시키지 않고도 제로 카운팅을 지속적으로 실시할 수 있다.-
公开(公告)号:KR1019980075663A
公开(公告)日:1998-11-16
申请号:KR1019970011906
申请日:1997-03-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/22
Abstract: 반도체 제조장비의 하단부에 범용이 가능하도록 블록으로 조립된 배기덕트를 설치함으로써 작업실 외부로 열을 강제배기시켜 열로 인한 설비 및 웨이퍼의 영향을 최소화하는 반도체 제조장비의 열배기장치에 관한 것이다.
본 발명은 본체 내부에 발열부를 구비하고 본체의 하부가 개방된 형태의 반도체 제조장비에 있어서, 상기 본체의 하단부를 따라 설치되어 바닥면과 하단부 사이의 기밀을 유지하도록 하고, 속이 빈 중공형태로서 내측면에 본체의 내부와 연통하는 흡입구가 형성된 배기덕트 및 상기 배기덕트에 호스를 연결하여 본체 내부의 열을 강제로 배기시키기 위한 펌핑모터로 구성됨을 특징으로 한다.
따라서 제조장비의 과열을 방지하여 제조장비의 정지나 고장을 막고 적정온도의 작업환경을 유지하며 발열부에 의한 작업실 및 작업자의 영향을 최소화할 수 있고 필요시엔 언제든지 설치와 분해가 가능하고 다른 장비와의 호환이 자유로우며 경제적이고 펌핑모터에서 발생하는 분진이나 소음 및 진동 등이 작업실 내부에 영향을 미치지 않게 하는 효과를 갖는다.-
80.
公开(公告)号:KR1019980034382A
公开(公告)日:1998-08-05
申请号:KR1019960052412
申请日:1996-11-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 팬 필터 유니트의 구동상태를 정확하게 인식할 수 있고 구동상태를 효율적으로 제어하여 관리할 수 있는 반도체 제조용 크린룸의 팬 필터 유니트 구동 감시장치 및 구동 제어시스템에 관한 것이다.
본 발명의 감시장치는 팬(22)의 회전에 의한 공기의 흐름여부에 따라 동작하여 복수개의 단자중 어느 하나의 단자에 전원을 연결하는 스위칭부(30)와, 상기 각각의 단자에 전기적으로 연결되어 스위칭부에 의해 선택적으로 온,오프되는 표시부(41)(42)로 구성되고, 본 발명의 제어시스템은 상기 표시부를 멀티 콘트롤 유니트(51)로 감지하여 릴레이 콘트롤 유니트(52)를 통한 호스트 콘트롤 유니트(53)로 전체 팬 필터 유니트에 구비된 각 표시부의 온,오프상태를 통합 감지하도록 구성된 것이다.
따라서 실질적으로 팬의 회전여부를 감시하게 되므로 정확한 감시가 가능하고, 이를 작업자가 현장에서 직접 확인하여 신속하게 조치함으로써 크린룸내의 고청정도가 항상 유지되는 것이며, 또한 크린룸에 설치된 모든 팬 필터 유니트의 실질적인 구동상태가 증앙감시반에서 감지되어 감시가 편리한 효과가 있다.
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