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公开(公告)号：KR100124966B1
公开(公告)日：1997-11-26
申请号：KR1019940000150
申请日：1994-01-06
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C08F2/50
Abstract: The present invention relates a new photo initiator compound and a sensitive polymer composition having the new photo initiator compound which a benzoin alkyl ether is combined with an epoxy phlepolymer or acryl acid ester phlepolymer. The photo initiator compound according to the present invention has a good storing stability. The photo initiator compound may be easily reacted with other components of a photo hardening composition to thereby improve a photo reactive performance. The photo initiator compound improves mechanical features of the photo hardening composition. The photo initiator compound may solve problems such as a poisonous feature, a bad smell, and a color breakdown.
Abstract translation: 本发明涉及一种新的光引发剂化合物和具有新的光引发剂化合物的敏化聚合物组合物，其中苯偶姻烷基醚与环氧聚合物或丙烯酸酯类聚合物组合。 根据本发明的光引发剂化合物具有良好的储存稳定性。 光引发剂化合物可以容易地与光硬化组合物的其它组分反应，从而提高光反应性能。 光引发剂化合物改善了光硬化组合物的机械特征。 光引发剂化合物可以解决诸如毒物特征，难闻气味和颜色分解等问题。
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公开(公告)号：KR1019970015570A
公开(公告)日：1997-04-28
申请号：KR1019950029615
申请日：1995-09-12
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C07C317/22
Abstract: 본 발명은 치과용 재료로서 사용되는 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제공한다.
식 중, R
1 , R
2 , R
3 및 R
4 는 각각 독립적으로 -OH, -OCOCH=CH
2 , 또는 -OCOCCH
3 =CH
2 이다. 다만, R
1 및 R
2 중 적어도 하나는 -OH가 아니고, 동시에 R
3 및 R
4 중 적어도 하나는 -OH가 아니다.-
公开(公告)号：KR1019970002523B1
公开(公告)日：1997-03-05
申请号：KR1019930006920
申请日：1993-04-24
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C08G63/06
CPC classification number: C08G63/06
Abstract: The polylactic acid having high molecular weight at high recovery rate is prepared by polycondensing lactic acid directly. At least tetraol is added to lactic acid and the lactic acid is heated to dehydrate under depressurization without catalyst. So polylactic acid of low molecular weight is obtained. This polylactic acid is heated under depressurization with catalyst to polycondense. Consequently, biodegradable polylactic acid having high molecular weight(30,000 or more) in a star form of molecular structure is prepared. At least 84% of lactic acid is used for raising operation efficiency. After polyol is added to lactic acid, dehydration reaction of lactic acid is performed at 100-150deg. C and 350-30 mmHg for at least 2 hours without catalyst. Polycondensation is carried out with antimony oxide as a catalyst. Polyol is used in amount of 0.01-2 wt.% based on the amount of monomer used polymerization reaction.
Abstract translation: 通过直接缩聚乳酸制备高回收率的高分子量聚乳酸。 将至少四酚加入到乳酸中，并将乳酸在无催化剂的减压下加热脱水。 所以得到低分子量的聚乳酸。 将该聚乳酸在用催化剂减压下加热至缩聚。 因此，制备具有分子结构的星形分子量（30,000以上）的生物降解性聚乳酸。 使用至少84％的乳酸来提高操作效率。 将多元醇加入到乳酸中后，乳酸脱水反应在100-150℃下进行。 C和350-30mmHg至少2小时，无催化剂。 缩聚是用氧化锑作为催化剂进行的。 多元醇的使用量相对于使用聚合反应的单体的量为0.01-2重量％。
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公开(公告)号：KR1019960042817A
公开(公告)日：1996-12-21
申请号：KR1019950012957
申请日：1995-05-24
Applicant: 오리온전기 주식회사 , 한국과학기술연구원
IPC: H01J9/20
Abstract: 균일한 형광체 등의 현상밀도를 얻기 위해 균일하게 광전도막을 대전시킬 뿐만 아니라, 상술한 복잡한 코로나 방전공정과그 장치를 제거하여 음극선관을 제조할 수 있는 음극선관의 전자사진식 스크린 제조방법과 이에 사용되는 광전도막 대전장치를 제공한다. 그 제조방법은 (1) 전도막의 1차막과 절연막의 2차막으로 된 충전전극을 준비하여 그 절연막을 상기 판넬의 광전도막에 접촉시키는 단계; (2) 그 접촉된 상태에서 그 충전전극의 전도막과 판넬의 전도막에 직류전원을 인가하여 충전시키는 단계; (3) 그 직류전원이 인가된 상태에서 판넬의 상부로부터 투명한 면판을 통과하여 광전도막의 전면적에 광선을 조사하므로서 광전도막으로 판넬의 전도막의 충전된 전하를 이동시키는 단계; 그리고 (4) 그 광전도막으로 전하가 이동된 후 전원과 광원을 차단시키고 충전전극을 분리시키는 단계를 포함한다. 또한, 판넬의 광전도막에 전면적에걸쳐 잘 접촉하도록 전도막의 1차막과 절연막의 2차막의 형성된 충전전극판; 그 충전전극판이 고정되는 충전전극판홀더;상기 판넬의 상부로부터 투명한 면판을 통과하여 상기 광전도막에 빛을 가하기 위한 광원; 상기 광전도막과 절연막과의접촉위치와 분리위치사이에서 상기 판넬과 충전전극판의 어느 하나를 이동시키도록 그 판넬홀더와 충전전극판홀더의 어느하나의 이동수단; 그리고 상기 판넬의 전도막과 충전전극판의 전도막에 직류전위를 인가하기 위한 직류전원을 구비하는대전장치가 제공된다. 이에 따라, 방전장치 없이 충전전극에 의하여 균일하게 광전도막을 대전시킬 수 있어 형광체 도포두께 및 크기, 형상 등을 균일하게 할 수 있는 효과가 있다.
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75.发明公开N-치환된 술폰일옥시말레이미드 단량체를 이용한 삼원공중합체의 제조방법 및 그를 이용한 내열성 레지스트 화상형성방법 失效使用N-取代磺酰氧基马来酰亚胺单体制备三元共聚物的方法和使用它们的热阻成像方法
公开(公告)号：KR1019960007651A
公开(公告)日：1996-03-22
申请号：KR1019940020036
申请日：1994-08-13
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C08F220/52 , C07D207/24 , C07D207/46 , C08F20/00
Abstract: NP-톨루엔술폰일옥시말레이미드(TsOMI), N-메탄술론일옥시말레이미드(MsOMI), N-트리플로로메탄술폰일옥시말레이미드(TfOMI) 중에서 선택한 광산 발생형 단량체 X-OMI와 Nt-부틸옥시카보닐말레이미드(t-BOCMI), 말레이미드(MI), N-히드록시말레이미드(HOMI) 중에서 선택한 말레이미드 단량체 Y-MI와 스티렌(St), 히드록시스티렌(HOSt), t-부틸옥시카보닐옥시스티렌(t-BOCSt) 중에서 선택한 스티렌 유도체(Z-St)를 라디칼공중합시켜 X-OMI : Y-MI : Z-St = 0.7∼1.5 : 0.7∼1.5 : 1.5∼2.5 (몰%)의 조성을 가진 N-치환된 술폰일옥시말레이미드 단량체를 이용한 삼원공중합체P(X0OMI/Y-MI/Z∼St)의 제조방법 및 이를 이용한 내열성 레지스트 화상형성방법.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1019950024015A
公开(公告)日：1995-08-21
申请号：KR1019940000150
申请日：1994-01-06
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 벤조인알킬에테르가 에폭시 프레폴리머 또는 아크릴산 에스테르 프레폴리머에 화학적으로 결합된 신규의 광개시제 화합물 및 이를 함유하는 광경화 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 광개시제 화합물은 저장 안정성이 뛰어나고, 광경화 조성물 중의 다른 성분들과의 상용성이 우수하여 광반응 효율을 향상시킬 수 있으며, 또한, 광경화된 조성물의 기계적 성질을 향상시킬 뿐만 아니라, 독성, 악취, 탈색 등의 문제도 해결할 수 있다.
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78.发明授权
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公开(公告)号：KR1019950002550B1
公开(公告)日：1995-03-21
申请号：KR1019920003539
申请日：1992-03-04
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C07D207/46
Abstract: N-tertiary butoxy maleimide of formula (1) is prepd. by: reacting maleic anhydride and furan to prepare 3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride of formula (2); reacting the cpd. (2) with hydroxyl amine to prepare N-hydroxy-3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthal imide of formula (3); reacting the cpd. (3) with isobutylene at 110 deg.C in the presence of acid catalyst to prepare N-(t-butoxy)-3,6-epoxy-1,2,3,6-tetrahydrophthal amide of formula (4); then pyrolysis of the cpd. (4) at 145 deg.C. The obtd. maleimide derv. is useful for germicide or insecticide, and good heat resistance.
Abstract translation: 制备式（1）的N-叔丁氧基马来酰亚胺。 通过：使马来酸酐和呋喃反应制备式（2）的3,6-环氧-1,2,3,6-四氢邻苯二甲酸酐; 反应cpd。 （2）与羟胺反应制备式（3）的N-羟基-3,6-环氧-1,2,3,6-四氢化邻苯二酰亚胺; 反应cpd。 （3）在酸催化剂存在下在110℃下加入异丁烯以制备式（4）的N-（叔丁氧基）-3,6-环氧-1,2,3,6-四氢邻苯二甲酰胺; 然后热解cpd。 （4）在145℃。 有限公司 马来酰亚胺衍生物 对杀菌剂或杀虫剂有用，耐热性好。
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公开(公告)号：KR1019930019624A
公开(公告)日：1993-10-18
申请号：KR1019920003539
申请日：1992-03-04
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C07D207/46
Abstract: 본 발명은 신규한 화학물인 N-터셔리-부톡시말레이미드 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 3,6-1,2,3,6-테트라히드로프탈릭안히드리드와 히드록실아민을 반응시켜 N-히드톡시-3,6-에폭시-1,2,3,6-테트라히드로프탈이미드를 제조하여 산촉매하에 이소부틸렌과 반응시켜 N-히드톡시-3,6-에폭시-1,2,3,6-테트라히드로프탈이미드를 합성하고, 145℃에서 열분해 시킴과 동시에 승화시켜 구조식 I의 N-터셔리-부톡시말레이미드를 고수율로 제조한다. 본 발명으로 제조한 Nt-부톡시말레이미드는 공중합체의 제조에 적합한 새로운 단량체로 이용되고, 이 고분자는 감도와 내열성이 우수한 미세가공용 레지스트 재료로 이용될 수 있다.
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