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公开(公告)号：KR100316586B1
公开(公告)日：2002-02-28
申请号：KR1019960011994
申请日：1996-04-19
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: PURPOSE: Provided are a method for modifying a polymer surface, which decrease a contact angle of the polymer surface, or increase adhesiveness of the polymer surface, and a material having surface modified by the method. CONSTITUTION: The method comprises directly blowing a reactive gas selected from oxygen, nitrogen, hydrogen, ammonia, carbon monooxide, and a mixture thereof on the polymer surface, and then irradiating an ion particle having energy of 0.5-2.5 KeV to the polymer surface to decrease a contact angle or increase an adhesion in the polymer surface. The amount of blown gas is 1-8 ml/min. The polymer is selected from polycarbonate, polymethylmethacrylate, polyimide, teflon, polyvinylidene fluoride, polyethylene terephthalate, polyethylene, and silicone rubber.
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公开(公告)号：KR100307806B1
公开(公告)日：2001-11-30
申请号：KR1019980057666
申请日：1998-12-23
Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 , 한국과학기술연구원
IPC: C08J7/00
Abstract: 본 발명은 이온빔을 이용하여 친수성으로 표면개질된 고분자 멤브레인 및 그 표면 개질방법에 관한 것으로, 고분자 멤브레인 표면으로, 반응성 기체를 유입시키면서 2000 eV 이하의 에너지를 가진 이온빔을 조사시킴으로써 상기 이온빔으로 고분자 멤브레인의 표면을 활성화시키면서 활성화된 고분자 멤브레인의 표면과 상기 반응성 기체를 반응시켜 그 표면에 친수성기를 형성시키는 고분자 멤브레인의 표면개질 방법과 그에 의해 표면개질된 고분자 멤브레인을 제공한다.
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公开(公告)号：KR100288500B1
公开(公告)日：2001-05-02
申请号：KR1019960011996
申请日：1996-04-19
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/265
Abstract: PURPOSE: A surface modifying method of a nitride materials and a surface modified nitride materials are provided to increase a contact force and to decrease a contact angle of a surface of a polymer by injecting directly a reaction gas into the surface of the polymer while irradiating an ion particle having a high energy into the surface of the polymer. CONSTITUTION: A surface modifying method is performed by injecting directly a reaction gas into a surface of a polymer while irradiating an ion particle having a high energy into the surface of the polymer. The reaction gas is selected form oxygen, nitrogen, hydrogen, ammonium, CO2 or a mixed gas thereof. An injecting amount of the gas is 1¯8 ml/min. The ion particle having the high energy is argon, oxygen, air, krypton or a mixed compound thereof. The energy of the ion particle is 0.5¯2.5 keV. An irradiating amount of the ion particle is 10¬14¯5x10¬16 ions/cm¬2.
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公开(公告)号：KR1020010032692A
公开(公告)日：2001-04-25
申请号：KR1020007005975
申请日：1998-12-04
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C14/46
CPC classification number: H01J37/3277 , C23C16/4417 , C23C16/486 , D06B19/00 , H01J37/317 , H01J2237/338
Abstract: PURPOSE: An apparatus for surface modification of polymer, metal and ceramic materials using ion beam is provided, which is capable of controlling the amount of a reaction gas and the energy of an ion beam, modifying the surface of a powder material and implementing a continuous surface modification of a material. CONSTITUTION: In case irradiating an ion beam onto the surface of a metallic thin film, oxide thin film or organic material (200) having curved surfaces, an attraction force or repulsion force between the ions from the ion gun (210) and the surfaces of the material is generated by applying a voltage from a voltage source (220) to the material to be surface-modified simultaneously while Ar+ ions from the ion gun are accelerated, so that a charge distortion may be obtained to modify the composition and shapes of the surface of the material.
Abstract translation: 目的：提供一种使用离子束对聚合物，金属和陶瓷材料进行表面改性的设备，其能够控制反应气体的量和离子束的能量，改变粉末材料的表面并实现连续的 表面改性材料。 构成：在将金属薄膜，氧化物薄膜或具有曲面的有机材料（200）的表面上照射离子束的情况下，离子枪（210）的离子与离子枪（210）的表面之间的吸引力或排斥力 通过将来自电压源（220）的电压同时施加到待表面改性的材料同时产生来自离子枪的Ar +离子的材料，从而可以获得电荷变形以改变组成和形状 表面材料。
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公开(公告)号：KR1020000039497A
公开(公告)日：2000-07-05
申请号：KR1019980054848
申请日：1998-12-14
Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 , 한국과학기술연구원
IPC: C08J7/00
Abstract: PURPOSE: A polymer contact lens having an improved hydrophilic property is provided which a part of carbon of the activated surface is reacted with a reactive gas after activating the surface by irradiating less than 2,000 eV ion beam. CONSTITUTION: A surface modifying apparatus comprises a gas inlet part(20) introducing a reactive gas into a vacuum chamber(10), an ion source(30) producing ion beam, a substrate holder(40) and a vacuum pump(50). The polymer contact lens is built in the substrate holder(40) and the reactive gas is introduced into the vacuum chamber(10) through the gas inlet part(20). Ion beam having less than 2,000 eV is irradiated to activate the surface of the polymer contact lens from the ion source(30). The surface of the lens is reacted with the reactive gas to produce a hydrophilic group on the surface.
Abstract translation: 目的：提供具有改善的亲水性的聚合物隐形眼镜，通过照射小于2000eV的离子束，活化表面的一部分碳与活性气体反应，活化表面后。 构成：表面改性装置包括将反应性气体引入真空室（10）的气体入口部分（20），产生离子束的离子源（30），衬底保持器（40）和真空泵（50）。 聚合物隐形眼镜内置在基板支架（40）中，反应气体通过气体入口部分（20）引入真空室（10）。 照射小于2000eV的离子束从离子源（30）活化聚合物隐形眼镜的表面。 透镜的表面与反应性气体反应，以在表面上产生亲水基团。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019990047370A
公开(公告)日：1999-07-05
申请号：KR1019970065740
申请日：1997-12-04
Applicant: 한국과학기술연구원 , 주식회사 엘지이아이
IPC: C23C14/00
Abstract: 본 발명은, 냉동 공조용 금속 재료 기판의 고유한 성질에는 영향을 주지 않으면서 에이징 특성이 뛰어난 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹이 그 표면에 형성된 냉동 공조용 금속 재료를 제공하기 위하여, 불포화 지방족 탄화수소 단량체(monomer) 가스, 질소 가스, 분위기 가스 및 냉동 공조용 금속 재료의 표면으로부터 증발한 물질로부터 기인하는 양(+) 또는 음(-) 입자 및 라디칼로 이루어지는 플라즈마로부터 형성되는 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹으로, 상기 그룹은 CH, OH, NH, CN, CC 및 COC로 이루어지는 군으로부터 선택되는 둘 이상의 결합에 의해 형성되고, 상기 그룹내의 탄소, 질소 및 산소의 원자수 비율은 탄소 100에 대하여, 10 내지 30의 질소, 10 내지 30의 산소인 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹을 그 표� �에 가지는 냉동, 공조용 금속 재료 및 DC 방전과 HF 방전의 플라즈마를 이용한 상기 친수성 또는 소수성 중합막 기능을 가지는 그룹을 이용한 상기 금속 표면 개질 방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR102263808B1
公开(公告)日：2021-06-14
申请号：KR1020180159615
申请日：2018-12-12
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L41/08 , H01L41/047 , H01L41/193 , H01L41/22 , H01L21/677
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