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公开(公告)号:CN105209177A
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:CN201480011962.5
申请日:2014-02-06
Applicant: 恩基科技股份有限公司
IPC: B05C1/08
CPC classification number: B05D1/28 , B05C1/003 , B05C1/025 , B05C1/0817 , B05C1/083 , B05C1/0834 , B05C1/0847 , B05C1/0856 , B05C1/0878 , B05C1/0882 , B05C11/025 , B05C11/06 , B05C11/1042 , B05D3/002 , B05D3/007 , B05D3/08 , B05D3/142 , C03C17/00 , C23C18/1241 , C23C18/1254 , C23C18/1283 , Y10T428/249969 , Y10T428/265
Abstract: 公开了包括流涂和辊涂的涂覆装置,其可用于对衬底例如玻璃、太阳能面板、窗或电子显示器的一部分涂覆均匀的溶胶凝胶涂层。本发明还公开了用于制备衬底、流涂和辊涂的方法。最后公开了用于利用高温气刀对沉淀到玻璃衬底的表面上的溶胶凝胶涂层进行表皮固化的系统和方法。
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公开(公告)号:CN103998360A
公开(公告)日:2014-08-20
申请号:CN201280025418.7
申请日:2012-05-25
Applicant: 阿德文尼拉企业有限公司
Inventor: E.里亚博瓦
CPC classification number: B05C13/02 , B05C15/00 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D3/142 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24521 , Y10T428/24612 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953
Abstract: 公开了均匀地涂覆物体的涂覆设备和方法。所述系统包括预处理单元、第一加工单元、第一后处理单元和一个或多个各自配置为与物体接合和围或绕两个或更多个轴旋转所述物体的涂覆设备。在所述系统中使用的涂覆设备包括:第一万向节,其连接到第一机构以围或绕第一轴旋转所述第一万向节;第二万向节,其连接到所述第一万向节以允许围或绕第二轴旋转;第三万向节,其连接到所述第二万向节以允许围或绕第三轴旋转。第二机构连接到所述第二万向节以围或绕所述第二轴旋转所述第二万向节,且第三机构连接到所述第三万向节以围或绕所述第三轴旋转所述第三万向节。物体支架连接到所述第三万向节。其中所述物体支架可围或绕所述垂直、第二和第三轴旋转。当物体存在于所述物体支架中时,其可被浸没在涂覆液中以形成涂覆的物体。然后使所述涂覆的物体围或绕两个或三个轴旋转,其一起产生多向离心力,所述多向离心力与重力一起产生三维张量力,所述张量力导致所述涂覆溶液均匀地分散在物体或物体的复杂表面的全部或部分上从而产生均匀薄膜。还公开了包含物体与共价附着到所述物体或所述物体的复杂表面的至少全部或部分上的薄膜涂层的复合物。
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公开(公告)号:CN103861786A
公开(公告)日:2014-06-18
申请号:CN201310692052.5
申请日:2013-12-17
Applicant: 通用汽车环球科技运作有限责任公司
CPC classification number: B05D3/142 , B05D3/102 , B05D2350/65 , Y10T428/31536
Abstract: 本发明为涂布镀铬零件的方法,一个变体可包括方法,其包括:提供其上具有含铬层的基底,所述铬具有暴露表面;使所述含铬层暴露于含电离氧的气体以活化所述铬的所述暴露表面从而提供活化表面;在所述活化表面上施加涂层以使所述涂层附着到所述含铬层,且其中所述涂层是底漆、透明涂层、有色透明涂层或不透明漆中的至少一种。
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公开(公告)号:CN102471888B
公开(公告)日:2014-03-12
申请号:CN201080028626.3
申请日:2010-06-09
Applicant: 原子能与替代能源委员会
IPC: C23C16/56
CPC classification number: C30B33/12 , B05D1/202 , B05D1/265 , B05D1/32 , B05D3/142 , B05D2350/33 , B05D2401/32 , C23C16/26 , C23C16/56 , Y10T428/24 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及纹理化DLC涂层的方法,包括:在DLC涂层的自由表面上沉积球状物或球状体的单层;用氧等离子体干法蚀刻DLC涂层;和清洗所述涂层的表面以去除所述球状物或球状体。
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公开(公告)号:CN101680116B
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN200880004788.6
申请日:2008-01-30
Applicant: 爱勒马可有限公司
CPC classification number: D01D5/0076 , B05D1/007 , B05D1/28 , B05D3/142 , B05D2401/32
Abstract: 一种在高强度静电场中由聚合物溶液或熔化物生成纳米颗粒沉积物或层或纳米纤维层的方法,在此期间,生成的纳米颗粒或生成的纳米纤维沉积到穿过有源电极(2)定位于其中的有源腔(1)的衬底材料(3)上。在有源电极(2)与衬底材料(3)之间感应用来生成、传输和沉积纳米颗粒或生成、传输和沉积纳米纤维的静电场,在其运动方向上在有源电极(2)前方和/或与有源电极相对,在衬底材料上施加了与有源电极(2)极性相反的电荷,而通过在移动衬底材料(3)上沉积纳米颗粒或纳米纤维,施加在衬底材料(3)上的电荷部分或者全部地被消耗。在生成设备中具有一个相对另一个定位的与高压源相连的有源电极(2)以及耦合了用于启动其向前运动的设备的衬底材料(3)。衬底材料(3)定位于有源腔(1)中而未接触任何带电荷和/或接地的设备但包含足够感应有源电极(2)与衬底材料(3)之间的高强度静电场的量的电荷。
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公开(公告)号:CN102471888A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN201080028626.3
申请日:2010-06-09
Applicant: 原子能与替代能源委员会
IPC: C23C16/56
CPC classification number: C30B33/12 , B05D1/202 , B05D1/265 , B05D1/32 , B05D3/142 , B05D2350/33 , B05D2401/32 , C23C16/26 , C23C16/56 , Y10T428/24 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及纹理化DLC涂层的方法,包括:在DLC涂层的自由表面上沉积球状物或球状体的单层;用氧等离子体干法蚀刻DLC涂层;和清洗所述涂层的表面以去除所述球状物或球状体。
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公开(公告)号:CN102443784A
公开(公告)日:2012-05-09
申请号:CN201110397255.2
申请日:2004-06-10
Applicant: 应用微型构造公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/00
CPC classification number: B82Y30/00 , B05D1/185 , B05D1/60 , B05D3/142 , B82Y40/00 , C09D4/00 , C23C16/4485 , C08G77/04
Abstract: 本发明涉及用于受控涂敷反应蒸气来制造薄膜和涂层的装置和方法。公开了一种气相沉积方法和装置,用于在衬底上涂敷薄的层和涂层。该方法和装置在制造电子器件、微机电系统(MEMS)、BiO-MEMS器件、微纳米印刷光刻术和微射流器件中是有用的。用于执行该方法的装置提供了在涂层形成过程的单个反应步骤中对所要消耗的各反应物的精确量的添加。该装置在单个步骤中或者当在涂层形成过程中存在许多不同的单个步骤时,提供反应物的不同组合的量的精确添加。蒸气形式的各反应物的精确添加在指定温度下被按剂量供入预定的设定体积中至指定压力,以提供高精确量的反应物。
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公开(公告)号:CN101370960B
公开(公告)日:2012-01-25
申请号:CN200780002639.1
申请日:2007-01-18
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
CPC classification number: C23C14/562 , B05D3/142 , B05D7/02 , B05D7/14 , B05D2350/65 , C23C14/5826 , C23C14/5853 , E04B1/625 , E04B2001/7691 , E04D12/002 , Y10T428/24322 , Y10T428/249953 , Y10T428/265 , Y10T428/2935 , Y10T428/31678 , Y10T442/259
Abstract: 用于通过用至少一种金属涂覆可透湿气性片材并使新鲜沉积的金属暴露于氧化性等离子体,因而在金属上形成保护性合成金属氧化物而形成低辐射系数的可透湿气性金属化复合片材的方法。所述复合片材材料适于用作建筑构造阻挡层如屋顶内衬和房屋覆盖物。
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公开(公告)号:CN1878888B
公开(公告)日:2010-10-27
申请号:CN200580000427.0
申请日:2005-05-24
Applicant: 应用微型构造公司
IPC: C23C16/40 , H01L21/316
CPC classification number: C23C16/0227 , B05D1/185 , B05D1/60 , B05D3/142 , B05D3/145 , B05D7/52 , B05D7/56 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/42 , C03C23/006 , C23C16/0245 , C23C16/0272 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/448 , C23C16/4485 , C23C16/455 , C23C16/45557 , C23C16/56 , Y10T428/12618 , Y10T428/12632 , Y10T428/24 , Y10T428/24355 , Y10T428/24967 , Y10T428/24975 , Y10T428/261 , Y10T428/265 , Y10T428/31663 , Y10T428/31667
Abstract: 本发明描述了用于在衬底上施加多层膜/涂层的改进的气相沉积方法和装置。该方法用来沉积多层涂层,其中作为衬底的化学组成的函数来控制与衬底直接接触的基于氧化物的层的厚度,从而使随后沉积的层更好的键合到基于氧化物的层。该改进的方法用来沉积这样的多层涂层,在该多层涂层中,基于氧化物的层直接沉积在衬底上,而基于有机物的层直接沉积在基于氧化物的层上。一般来说,施加一连串基于氧化物的层和基于有机物的层的交错层。
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公开(公告)号:CN100478381C
公开(公告)日:2009-04-15
申请号:CN200480013260.7
申请日:2004-05-10
Applicant: 帝斯曼知识产权资产管理有限公司
Inventor: 沙哈比·雅罗米
CPC classification number: C08J7/065 , B05D1/60 , B05D3/044 , B05D3/0446 , B05D3/046 , B05D3/062 , B05D3/063 , B05D3/067 , B05D3/068 , B05D3/142 , B05D3/144 , B05D3/145 , B05D2201/02 , C23C14/022 , C23C14/12 , Y10T428/31504 , Y10T428/31605 , Y10T428/31667 , Y10T428/31678 , Y10T428/31938
Abstract: 本发明涉及制备复合材料的方法,所述复合材料包括基材和该基材上的层,所述方法包括气相沉积步骤,其中在低于1000Pa的压力下,将包含三嗪化合物的化合物沉积在该基材上,从而形成该层,在气相沉积步骤期间,基材的温度介于-15℃与+125℃之间。本发明还涉及通过本文公开的方法得到的复合材料。
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