Abstract:
A method of making a micro electro-mechanical switch or tunneling sensor. A cantilevered beamstructure and a mating structure are defined on a first substrate or wafer; and at least one contactstructure and a mating structure are defined on a second substrate or wafer, the mating structureon the second substrate or wafer being of a complementary shape to the mating structure on thefirst substrate or wafer. A bonding layer, preferably a eutectic bonding layer, is provided on at least one of the mating structures. The mating structure of the first substrate is moved into aconfronting relationship with the mating structure of the second substrate or wafer. Pressure isapplied between the two substrates so as to cause a bond to occur between the two mating structures at the bonding or eutectic layer. Then the first substrate or wafer is removed to free thecantilevered beam structure for movement relative to the second substrate or wafer.
Abstract:
System and method for forming an ALD assembly on a surface of a microelectromechanical system (MEMS) device comprises a substrate having a surface and the ALD assembly is at least partially disposed on the surface of the substrate, wherein the ALD assembly is at least one of hydrophobic and hydrophilic properties. The ALD layer further includes a first ALD and a second ALD. On the surface of the substrate, the first ALD is deposited in a first deposition cycle and the second ALD is deposited in a second deposition cycle. The ALD assembly further comprises a seed layer formed using atomic layer deposition and the ALD layer is at least partially disposed on the seed layer. In one example, the seed layer is formed from alumina (Al 2 O 3 ) and the ALD layer is formed from platinum (Pt). In alternate embodiment, on the seed layer, the first ALD is deposited in a first deposition cycle and the second ALD is deposited in a subsequent deposition cycle. The substrate is formed from silicon dioxide (SiO 2 ).
Abstract:
Various aspects of this disclosure comprise systems and methods for synchronizing sensor data acquisition and/or output. For example, various aspects of this disclosure provide for achieving a desired level of timing accuracy in a MEMS sensor system, even in an implementation in which timer drift is substantial.
Abstract:
The present invention provides a 3D System ("3DS") MEMS architecture that enables the integration of MEMS devices with IC chips to form a System on Chip (So C) or System in Package (Si P). The integrated MEMS system comprises at least one MEMS chip, including MEMS transducers, and at least one IC chip, including not only MEMS processing circuitry, but also additional/auxiliary circuitry to process auxiliary signals. The MEMS and IC chips are bump bonded. The MEMS chip includes first and second insulated conducting pathways. The first pathways conduct the MEMS-signals between the transducers and the IC chip, for processing; and the second conducting pathways extend through the entire thickness of the MEMS chip, to conduct auxiliary signals, such as power, RF, I/Os, to the IC chip, to be processed the additional circuitry.
Abstract:
Le circuit intégré comprend au sein de ladite partie d'interconnexion «BEOL» (RITX), au moins un dispositif mécanique (DIS) de détection d'orientation spatiale et/ou de changement d'orientation du circuit intégré comprenant un logement (CV) dont les parois comportent des portions métalliques réalisées au sein de différents niveaux de métallisation, une pièce métallique (1) logée dans ledit logement et mobile à l'intérieur du logement, des moyens de contrôle (PLR) définissant à l'intérieur du logement une zone d'évolution (ZV) pour la pièce métallique et comportant au moins deux éléments électriquement conducteurs (PLR) disposés en bordure de ladite zone d'évolution, ladite pièce (1) étant configurée pour, sous l'action de la gravité, venir en contact avec lesdits au moins deux éléments électriquement conducteurs (PLR) en réponse à au moins une orientation spatiale donnée du circuit intégré, et des moyens (MDT) de détection d'une liaison électrique passant par ladite pièce et lesdits au moins deux éléments électriquement conducteurs.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Nanodraht-Strukturelement, welches sich z.B. zum Einbau in ein Mikroreaktorsystem oder Mikrokatalysatorsystem eignet. Zur Herstellung des Nanodraht-Strukturelements wird ein templatbasiertes Verfahren verwendet, bei welchem die elektrochemische Abscheidung der Nanodrähte in Nanoporen vorzugsweise zumindest solange fortgeführt wird, bis sich Kappen gebildet haben und diese vorzugsweise zumindest teilweise zusammengewachsen sind. Nach Verstärkung der beiden Deckschichten wird der strukturierte Hohlraum zwischen den beiden Deckschichten durch Auflösen der Templatfolie und Entfernen des aufgelösten Templatmaterials freigelegt, wobei die beiden Deckschichten erhalten bleiben. Somit entsteht eine stabile sandwichartige Nanostruktur mit einer zweiseitig von den Deckschichten begrenzten und von den Nanodrähten säulenartig durchsetzten in der Ebene parallel zu den Deckschichten zweidimensional offenzellige Hohlraumstruktur.
Abstract:
Die Erfindung betrifft einen Sensor (11) in mikromechanischer Bauweise zum Messen eines Massendurchflusses nach dem Coriolis-Prinzip. Dafür werden zwei Leitungsabschnitte (13) schwingungsfähig in einer Aufhängung (24) gelagert, wodurch sie gegenphasig zu Schwingungen angeregt werden können (wesentlich für das Messprinzip). Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass zwischen den die Leitungsabschnitte (13) bildenden Lagen (12a, 12b) eine Abstandslage (18) vorgesehen ist, die einen Abstand zwischen den Leitungsabschnitten (13) im Ruhezustand gewährleistet. Hierdurch wird eine gegenphasige Schwingung der Leitungsabschnitte überhaupt erst möglich, da hierdurch eine Kollision der sich annähernden Leitungsabschnitte (13) verhindert wird.
Abstract:
Sensor mit einem elektrische Signale ausgebenden Detektionselement , der oberflächliche Aluminium- oder aluminiumhaltige Bauteile aufweist, wobei auf der Oberfläche dieser Bauteile eine erste Schicht aus Silikatenvorhanden ist und darauf eine zweite Schicht, bestehend aus n-Octadecyltrichlorosilan, aufgebracht ist. Anwendbar an Produkten wie Gassensoren, deren Nutzsignale sehr gering sind, so dass sie mittels Feldeffekttransistoren auszulesen sind. In diesen Bereichen der Signalverarbeitung müssen Störsignale weitestgehend ausgeschaltet werden. Das Produkt ist ein so genannter GasFET.
Abstract:
Un procédé de réalisation d'un composant comprenant une première face d'une structure en forme de plaque (2) comporte les étapes suivantes : - gravure d'une seconde face de la structure, opposée à la première face, sur une partie de sa surface afin de définir une zone d'épaisseur réduite (22) ; - inclinaison de la zone d'épaisseur réduite (22) par rapport à ladite structure (2). Un tel composant comporte un évidement entre la structure en forme de plaque et la zone d'épaisseur réduite inclinée. La zone inclinée peut ainsi porter des éléments actifs (10, 12) qui travaillent selon une direction définie par l'inclinaison.
Abstract:
The present invention provides a micro-electro-mechanical device with a recessed micromechanical structure and to a method of fabrication thereof. The present invention also provides silicon wafers provided with recessed micromechanical structures, which are useful in the field of micro-electro-mechanical systems. The present invention also provides a method for fabrication of micro-electro-mechanical device using micromachining techniques.