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公开(公告)号：CN119343475A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380028002.9
申请日：2023-05-18
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/24
Abstract: 为了相对于炉床内衬的收纳体积供给适当的量的材料，成膜装置具有：成膜腔室(2)，其至少设置有成膜材料(M)和被成膜物(S)，并且该成膜腔室(2)能够设定为规定的成膜气氛；炉床内衬(23)，其设置于所述成膜腔室的内部，并收纳所述成膜材料；加热源(24)，其设置于所述成膜腔室的内部，并对收纳于所述炉床内衬的成膜材料进行加热；材料供给器(3)，其向所述炉床内衬供给所述成膜材料；以及高度测定器(4)，其测定收纳于所述炉床内衬的成膜材料的溶融面的高度；以及控制器(6)，其根据由所述高度测定器测定出的溶融面的高度来运算应供给的成膜材料的质量，并对所述材料供给器进行控制以将该运算出的质量的成膜材料供给至所述炉床内衬。
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公开(公告)号：CN114402090A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202080064516.6
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变蒸镀材料的组成的气体，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在被蒸镀物上。
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公开(公告)号：CN114402090B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202080064516.6
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变蒸镀材料的组成的气体，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在被蒸镀物上。
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公开(公告)号：CN114514335B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202080064503.9
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变所述蒸镀材料的组成的气体，将成膜室(2a)的内部的包含基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将成膜室(2a)的内部的包含蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在基板(S)上，并且在第1区域(A)中向基板(S)照射离子。
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公开(公告)号：CN114514335A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202080064503.9
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变所述蒸镀材料的组成的气体，将成膜室(2a)的内部的包含基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将成膜室(2a)的内部的包含蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在基板(S)上，并且在第1区域(A)中向基板(S)照射离子。
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