公开(公告)号：CN101416270A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200780012023.2

申请日：2007-03-27

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 中本一朗 ,  宝来宽 ,  袖子田龙也 ,  吉田昌弘

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/244 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/057 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明涉及使质量分离了的离子束对基板照射进行离子注入的质量分离型离子注入装置。在具备接收来自质量分离电磁铁(17)的离子束(1)、分选所希望的离子并使其通过的分离狭缝(20)的离子注入装置(10)中，分离狭缝(20)以使离子束(1)通过的缝隙形状是可变的方式构成。此外，离子注入装置(10)具备可变狭缝(30)，其配置在引出电极系统(15)和质量分离电磁铁(17)之间，形成离子束(1)通过的缝隙，该可变狭缝(30)以遮蔽从离子源(12)引出的离子束(1)的一部分的方式可变地构成缝隙形状。该离子注入装置(10)具备分离狭缝(20)可变狭缝(30)的双方也可，具备任一方也可。

公开(公告)号：CN101416270B

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN200780012023.2

申请日：2007-03-27

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 中本一朗 ,  宝来宽 ,  袖子田龙也 ,  吉田昌弘

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/244 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/057 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明涉及使质量分离了的离子束对基板照射进行离子注入的质量分离型离子注入装置。在具备接收来自质量分离电磁铁(17)的离子束(1)、分选所希望的离子并使其通过的分离狭缝(20)的离子注入装置(10)中，分离狭缝(20)以使离子束(1)通过的缝隙形状是可变的方式构成。此外，离子注入装置(10)具备可变狭缝(30)，其配置在引出电极系统(15)和质量分离电磁铁(17)之间，形成离子束(1)通过的缝隙，该可变狭缝(30)以遮蔽从离子源(12)引出的离子束(1)的一部分的方式可变地构成缝隙形状。该离子注入装置(10)具备分离狭缝(20)可变狭缝(30)的双方也可，具备任一方也可。