Abstract:
산화물 반도체 나노 막대를 이용한 물질 감지 소자, 및 그 제조 방법이 개시된다. 산화물 반도체 나노 막대를 이용한 물질 감지 소자는 기판의 미리 설정된 영역에 형성된 복수의 전극, 및 복수의 전극 중 미리 설정된 전극 사이에 형성된 미리 설정된 산화물 반도체 나노 막대의 네트워크 구조를 포함한다. 전극 사이에 산화물 반도체 나노 막대의 네트워크 구조를 형성시킴으로써, 센서의 부피 대비 표면적을 개선하여 수소 가스를 넓은 농도 범위에서 효과적으로 감지할 수 있게 된다.
Abstract:
PURPOSE: A device for sensing substances using an oxide semiconductor nano rod and a manufacturing method thereof is provided to form a network structure of the oxide semiconductor nano rod between electrodes, thereby efficiently sensing hydrogen gas within a wide concentration range by improving a surface area in comparison with the volume of a sensor. CONSTITUTION: A device(100) for sensing substances using an oxide semiconductor nano rod comprises a plurality of electrodes(110) and a network structure of the oxide semiconductor nano rod. The electrodes are formed in a preset region on a substrate. The network structure is formed between preset electrodes among the plurality of electrodes.
Abstract:
본 발명은 나노선을 포함하는 전자 소자를 제작함에 있어, 기존의 광학 현미경 시스템을 이용할 수 있도록 회전 편광판과 고속푸리에변환을 사용하여 나노선 감지용 광학 현미경 시스템을 고안한 것에 관한 것이다. 본 광학 현미경 시스템은 광원을 생성하여 상기 생성된 광원을 나노선 소자용 시료에 제공하는 광원부; 상기 광원부에서 제공된 상기 광원의 경로 상에 마련되며 상기 나노선의 광학적 이방성을 이용하여 상기 나노선 소자용 시료에 입사되는 광원의 편광 방향을 변조시키는 회전 편광판; 상기 회전 편광판에서 편광되어 상기 나노선 소자용 시료에 입사된 광원을 이용하여 상기 나노선 영상을 검출하는 광학 현미경; 상기 광학 현미경의 일 영역에 마련되어 상기 광학 현미경에서 검출된 상기 나노선 영상을 촬영하여 저장하는 CCD 카메라; 및 상기 CCD 카메라를 통해 저장된 상기 나노선 영상을 고속 푸리에 변환 처리하는 데이터 처리부를 포함한다. 이에 따라, 나노선의 광학적 이방성으로 인하여 나노선에 입사하는 빛의 편광 방향에 따라 반사광의 세기가 변화한다. 일정한 주기로 회전하는 편광판을 통과한 광원을 나노선에 입사한 후 반사광 이미지를 일정 시간 간격으로 얻은 후 영상을 각 픽셀별로 고속푸리에변환 처리함으로 나노미터 선폭을 갖는 나노선의 영상을 뚜렷하게 얻을 수 있다. 나노선, 나노소자, 편광, 이방성, 광학 현미경, 고속푸리에변환, 고분해능
Abstract:
본 발명은 나노 와이어 배열소자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 나노와이어 배열소자 제조방법은, (a)기판 상에 나노 와이어가 포함된 나노 와이어 용액을 도포하는 단계; (b)상기 기판 상에 형성된 나노 와이어를 스트라이프 형태로 패터닝하고 기판을 노출시켜 상기 스트라이프 형태의 제 1 식각 영역을 형성하는 단계; (c)상기 패터닝된 나노 와이어를 사이에 두고 드레인 전극선과 소스 전극선을 평행하게 형성하는 단계; (d)일단은 상기 드레인 전극선에 연결되며 적어도 하나의 나노 와이어와 접촉하는 복수의 드레인 전극 및 일단은 상기 소스 전극선에 연결되며 상기 드레인 전극과 접촉하는 나노 와이어에 접촉하는 복수의 소스 전극을 형성하는 단계; (e)한 쌍의 상기 드레인 전극 및 소스 전극 쌍들이 전기적으로 접촉되지 않도록 상기 드레인 전극 및 소스 전극 쌍 사이에 제 2 식각 영역을 형성하는 단계; (f)상기 기판상에 절연층을 형성하는 단계; 및 (g)상기 절연층 상에 상기 나노 와이어와 접촉하는 소스 전극 및 드레인 전극 사이에 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면 나노 와이어를 전극선과 평행하게 정렬하지 못하더라도 대규모 나노와이어 배열 소자를 구현할 수 있으므로, 정렬시키기 힘든 나노 와이어를 이용한 집적소자 및 디스플레이에도 본 발명을 적용할 수 있다. 나아가 플렉서블(flexible) 기판을 응용한 소자 분야에도 본 발명을 적용할 수 있다. 나노 와이어, 트랜지스터 어레이, 선택적 식각, 선태적 패터닝
Abstract:
A heterojunction layer is provided to predict the bending direction of an electric field by forming a heterojunction layer capable of predicting a driving direction. A heterojunction layer(100) includes a first layer(110) including first nano particles of a first conductivity type and a second layer(120) including second nano particles of a second conductivity type wherein the first layer is bonded to the second layer. The aspect ratio of the first and second nano particles can be not less than 30. The first nano particles can be V2O5, and the second nano particles can be a carbon nano tube.
Abstract translation:提供异质结层以通过形成能够预测驱动方向的异质结层来预测电场的弯曲方向。 异质结层(100)包括第一层(110),其包括第一导电类型的第一纳米颗粒和包括第二导电类型的第二纳米颗粒的第二层(120),其中第一层结合到第二层。 第一和第二纳米颗粒的纵横比可以不小于30.第一纳米颗粒可以是V 2 O 5,第二纳米颗粒可以是碳纳米管。
Abstract:
A formation method of ZnO nanowire network pattern is provided to form ZnO nanowire network pattern and device of a desired shape and size at a low temperature with a stable yield by using a lithographic process and a sol-gel method. A formation method of ZnO nanowire network pattern comprises steps of: forming a photoresist pattern exposing a part of a substrate on the substrate; molding the ZnO nanowire network on a photoresist pattern and an exposed part of the substrate by a sol-gel method; and removing the photoresist pattern and forming the ZnO nanowire network pattern on the substrate. The step for forming the photoresist pattern comprises steps of: coating a photoresist on the substrate; exposing the photoresist; and developing the exposed photoresist.
Abstract:
본 발명은 하이드로젤(100)을 고체화 시킨 후 내부에 조직 또는 세포가 성장할 수 있는 3차원 공간(10)을 패터닝하는 제 1단계, 및 상기 패터닝된 구조(10)에 세포 및 성장인자가 포함된 복합체(20)를 주입하는 제 2단계를 포함하는 조직재생용 하이드로젤의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 조직 또는 세포가 성장할 수 있는 공간이 패터닝된 하이드로젤을 제조하고 상기 패터닝된 공간에 세포 및 성장인자를 채움으로서 조직에 이식이 용이한 형태로 세포 또는 조직을 형성시킬 수 있다. 하이드로젤, 조직재생, 패터닝, 재생의학, 성장인자
Abstract:
본 발명은 이종 접합막 및 그의 제조 방법에 관한 것으로서 제 1 도전형을 갖는 제 1 나노 입자를 포함하는 제 1 층; 및 제 2 도전형을 갖는 제 2 나노 입자를 포함하는 제 2 층을 포함하고, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층이 접합된 이종 접합막을 제공한다. 본 발명의 이종 접합막은 단일막으로 이루어진 종래의 버키 페이퍼에 비하여 구동 효율이 훨씬 우수할 뿐만 아니라 구동방향의 예측이 가능하고 제조도 간단한 장점이 있다. 이종 접합막, 버키 페이퍼, 탄소 나노튜브, 나노와이어, 바나듐 펜톡사이드
Abstract:
An optical microscope system for sensing a nano-wire by using a polarizing plate and the Fast Fourier Transform method is provided to enable alignment between a nano-wire sample and a pattern by using an optical microscope. A light source unit(10) generates light and supplies it to a sample for nano-wire element. A rotary polarizing plate(20) is formed on a path of the light provided from the light source unit in order to polarize the light. An optical microscope(30) detects a nano-wire image by using the light polarized in the rotary polarizing plate and inputted into the sample. A CCD camera(31) is formed in one region of the optical microscope in order to photograph and store the nano-wire image detected the optical microscope. A data processing unit(50) performs the Fast Fourier Transform process for the stored nano-wire image through the CCD camera.
Abstract:
A formation method of ZnO nanowire network pattern is provided to form ZnO nanowire network pattern and device of a desired shape and size at a low temperature with a stable yield by using a lithographic process and a sol-gel method. A formation method of ZnO nanowire network pattern comprises steps of: forming a photoresist pattern exposing a part of a substrate on the substrate; molding the ZnO nanowire network on a photoresist pattern and an exposed part of the substrate by a sol-gel method; and removing the photoresist pattern and forming the ZnO nanowire network pattern on the substrate. The step for forming the photoresist pattern comprises steps of: coating a photoresist on the substrate; exposing the photoresist; and developing the exposed photoresist.