公开(公告)号：KR1020170017810A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：KR1020160099920

申请日：2016-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가가와고지 ,  가와노히사시 ,  아이바라메이토쿠 ,  요시다유키

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/67 ,  H01L21/60 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/0206 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67248

Abstract: 본발명은, 요철패턴이표면에형성된기판으로부터, 요철패턴의오목부내에충전된, 승화성물질및 불순물을함유하는고형물을제거하고, 기판으로부터일단제거된승화성물질및 불순물의기판에의재부착을방지하는것을목적으로한다. 기판(W)의오목부내에충전된고형물이, 처리실(52) 내의분위기압력하, 제1 온도이상의온도에서승화하는고체상태의승화성물질과, 처리실(52) 내의분위기압력하, 제1 온도보다높은제2 온도이상의온도에서증발하는불순물을함유할때, 배기부(62) 및배기부(63) 중한쪽또는양쪽에의해처리실(52) 내의분위기를배출하면서, 기판가열부(57)에의해처리실(52) 내에배치된기판(W)을제2 온도이상의온도까지가열한다.

Abstract translation: 为了从形成在基板的表面上的具有凹凸图案的基板上除去填充有凹凸图案的凹部的固体材料，并且通过使可升华物质溶液中的溶剂蒸发而形成 含有在等于或高于第一温度的温度升华的升华物质和在等于或高于第一温度的第二温度下蒸发的杂质，本发明提供了一种基板处理装置 以及将基板加热到等于或高于第二温度的温度的基板处理方法。

公开(公告)号：KR1020120089187A

公开(公告)日：2012-08-09

申请号：KR1020110135101

申请日：2011-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  가가와고지 ,  미조타쇼고

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902 ,  H01L21/02052

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for processing liquid are provided to prevent the contamination of a wafer by cleaning a drain cup with the cleaning liquid. CONSTITUTION: A substrate holding unit and a cup(42) are installed in a process chamber. The substrate holding unit holds the substrate. The cup is arranged around the substrate holding unit. A nozzle supplies processing liquid to the substrate held by the substrate holding unit. A cup cleaning unit(49,49a) cleans the cup by supplying cleaning liquid on the upper part of the cup.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理液体的装置和方法，以通过用清洗液清洗排水杯来防止晶片的污染。 构成：衬底保持单元和杯（42）安装在处理室中。 基板保持单元保持基板。 杯子布置在基板保持单元周围。 喷嘴将处理液供给到由基板保持单元保持的基板。 杯子清洁单元（49,49a）通过在杯子的上部供应清洁液来清洁杯子。

公开(公告)号：KR101678231B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020110135101

申请日：2011-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  가가와고지 ,  미조타쇼고

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 본발명은컵에부착된오물에의하여처리실내의기판이오염되는것을방지할수 있는액 처리장치및 액처리방법을제공한다. 본발명의액 처리장치(10)는, 기판(W)을유지하는기판유지부(21) 및기판유지부(21)의주위에배치되는컵(42)이내부에설치된처리실(20)과, 기판유지부(21)에유지된기판(W)에대하여처리액을공급하기위한노즐(82a)과, 컵(42)의상부에세정액을공급함으로써해당컵(42)을세정하는컵 세정부(49, 49a)를구비하고있다. 컵(42)의상부에는오목부(42a)가형성되어있고, 컵세정부(49, 49a)는, 컵(42)의상부의오목부(42a)에세정액을공급하도록되어있다.