公开(公告)号：KR101248654B1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：KR1020107023541

申请日：2009-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 즈지노리히코 ,  모로이마사유키 ,  사와치아츠시 ,  가토스스무

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45544 ,  B29C66/71 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45563 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02197 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31608 ,  H01L21/31691

Abstract: 본 발명은 진공 용기 내에서, 제1 반응 가스와 제2 반응 가스를 교대로 공급하여 배기하는 사이클을 복수회 실행함으로써, 기판의 표면에 박막을 성막하는 성막 장치에 있어서, 상기 진공 용기 내에 설치되고, 각각 기판의 배치 영역을 포함하는 복수의 하부 부재와, 상기 복수의 하부 부재의 각각에 대향하여 설치되며, 상기 배치 영역과의 사이에 처리 공간을 형성하는 복수의 상부 부재와, 상기 처리 공간 내에 가스를 공급하기 위한, 제1 반응 가스 공급부, 제2 반응 가스 공급부, 및, 상기 제1 반응 가스를 공급하는 타이밍과, 상기 제2 반응 가스를 공급하는 타이밍 사이에 퍼지 가스를 공급하기 위한 퍼지 가스 공급부와, 상기 처리 공간의 둘레 방향을 따라 형성되고, 그 처리 공간 내와 그 처리 공간의 외부인 상기 진공 용기 내의 분위기를 연통하기 위한 배기용 개구부와, 상기 처리 공간을, 상기 배기용 개구부 및 상기 진공 용기 내의 분위기를 통해 진공 배기하기 위한 진공 배기 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

公开(公告)号：KR100444098B1

公开(公告)日：2004-10-14

申请号：KR1019980038471

申请日：1998-09-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무

IPC: H01L21/203

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45589 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/68785 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

Abstract: The vacuum processing apparatus of the present invention comprises a process chamber in which predetermined processing is performed on a target object in a predetermined vacuum condition, a mount stage provided in the process chamber, for mounting thereon the target object, a shower head provided so as to oppose to the mount stage, for supplying a process gas in the process chamber, an exhaust path provided in a housing forming the process chamber, and extending so as to surround the mount stage outside the mount stage, an exhaust port formed around the mount stage, for connecting the exhaust path with the process chamber, a porous member provided at the exhaust port so as to partition the exhaust path and the process chamber from each other, and having a plurality of ventilation holes for making the exhaust path communicating with the process chamber, branching means for branching a gas flowing from the process chamber through the ventilation holes of the porous member, into a plurality of directions, such that the gas flows to the exhaust path, a plurality of upper exhaust pipes extending in an upper side of the process chamber and communicating with the exhaust path, and a lower exhaust pipe extending toward a lower side of the process chamber and communicating with all the upper exhaust pipes.

Abstract translation: 本发明的真空处理装置包括：处理室，在预定的真空条件下对目标物体执行预定处理;安装台，设置在处理室中，用于在其上安装目标物体;淋浴头，设置为 与所述安装台相对，用于向所述处理室内供给处理气体;排气通路，设置在形成所述处理室的壳体内，且以在所述安装台的外侧包围所述安装台的方式延伸;排气口，形成在所述安装台的周围 用于连接排气通路和处理腔室的多孔部件;设置在排气端口处的多孔部件，以便将排气通路和处理腔室彼此隔开;以及多个通风孔，用于使排气通路与 分支装置，用于将从处理室流过多孔构件的通风孔的气体分支成多个 使得气体流向排气路径的多个方向，在处理室的上侧延伸并且与排气路径连通的多个上排气管以及朝向处理室的下侧延伸的下排气管 并与所有上部排气管沟通。

公开(公告)号：KR100275807B1

公开(公告)日：2000-12-15

申请号：KR1019960012082

申请日：1996-04-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  바리안 세미컨덕터 이큅먼트 가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  오자와마사히토 ,  무라오카스나오

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/67201 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67253 ,  Y10S156/913 ,  Y10S414/139

Abstract: 본 발명에 있어서, 제2챔버의 압력을 소정 레벨로 상승시키기 위해, 제2챔버에 가스가 공급된다. 전달통로는 내부적으로 제1 및 제2챔버를 접속하기 위해 제공된다. 제1챔버의 압력이 소정 레벨에 도달될 때, 가스가 전달통로를 매개로 제2챔버에서 제1챔버로 흐르도록 된다. 개폐도어가 챔버를 접속하기 위해 개방될 때, 가스흐름이 저지될 수 있다. 따라서, 거의 가스흐름이 없기 때문에, 파티클이 말려 올라가는 것이 방지 될 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990029904A

公开(公告)日：1999-04-26

申请号：KR1019980038471

申请日：1998-09-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무

IPC: H01L21/203

Abstract: 본 발명의 진공 처리 장치는 소정의 진공 상태에서 대상물에 대하여 소정의 처리가 실시되는 처리실과, 처리실내에 설치되고, 대상물이 탑재되는 탑재대와, 탑재대와 대향하여 설치되고, 처리실내에 처리 가스를 공급하는 샤워 헤드와, 처리실을 형성하는 하우징에 설치되고, 탑재대의 외측에서 이것을 둘러싸도록 연장하는 배기 통로와, 탑재대의 주위에 형성되고, 배기 통로와 처리실을 접속하는 배기구와, 배기 통로와 처리실을 구획하도록 배기구에 설치되고, 배기 통로와 처리실을 연통시키는 복수의 통기 구멍을 갖는 다공 부재와, 처리실로부터 다공 부재의 통기 구멍을 통과하여 흐르는 가스를 복수의 방향으로 분류하여 배기 통로로 흐르는 분류 기구와, 처리실의 상측에서 연장하여, 배기 통로와 연통하는 복수의 상부 배기관과, 처리실의 하측 을 향해서 연장하여, 상부 배기관의 모두와 접속하는 1개의 하부 배기관을 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR1019960039125A

公开(公告)日：1996-11-21

申请号：KR1019960012082

申请日：1996-04-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  바리안 세미컨덕터 이큅먼트 가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  오자와마사히토 ,  무라오카스나오

IPC: H01L21/20

Abstract: 본 발명에 가스는 제2챔버에 압력이 미리 결정된 레벨로 상승되도록 제2챔버에 공급한다. 전달통로는 내부적으로 제1 및 제2챔버를 접속하기 위하여 제공된다. 제1챔버에 압력이 미리 결정된 레벨을 얻을 때, 가스는 전달통로를 통하여 제2챔버에서 제1챔버로 흐르도록 허락된다. 가스 흐름은 오픈-클로즈 도어가 챔버를 접속하도록 오픈될 때, 체크될 수 있다. 그래서, 실제로 가스 흐름은 없고, 따라서 파티클은 버려짐으로부터 방지 될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020110031273A

公开(公告)日：2011-03-25

申请号：KR1020107023541

申请日：2009-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 즈지노리히코 ,  모로이마사유키 ,  사와치아츠시 ,  가토스스무

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45544 ,  B29C66/71 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45563 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02197 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/31608 ,  H01L21/31691

Abstract: 본 발명은 진공 용기 내에서, 제1 반응 가스와 제2 반응 가스를 교대로 공급하여 배기하는 사이클을 복수회 실행함으로써, 기판의 표면에 박막을 성막하는 성막 장치에 있어서, 상기 진공 용기 내에 설치되고, 각각 기판의 배치 영역을 포함하는 복수의 하부 부재와, 상기 복수의 하부 부재의 각각에 대향하여 설치되며, 상기 배치 영역과의 사이에 처리 공간을 형성하는 복수의 상부 부재와, 상기 처리 공간 내에 가스를 공급하기 위한, 제1 반응 가스 공급부, 제2 반응 가스 공급부, 및, 상기 제1 반응 가스를 공급하는 타이밍과, 상기 제2 반응 가스를 공급하는 타이밍 사이에 퍼지 가스를 공급하기 위한 퍼지 가스 공급부와, 상기 처리 공간의 둘레 방향을 따라 형성되고, 그 처리 공간 내와 그 처리 공간의 외부인 상기 진공 용기 내의 분위기를 연통하기 위한 배기용 개구부와, 상기 처리 공간을, 상기 배기용 개구부 및 상기 진공 용기 내의 분위기를 통해 진공 배기하기 위한 진공 배기 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

公开(公告)号：KR100728400B1

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：KR1020060056572

申请日：2006-06-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  고마츠도모히토 ,  모치즈키다카시

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명의 목적은 중공 형상의 레그부 내를 방전이 발생하지 않는 압력 분위기로 유지하여 급전선 사이에 있어서의 방전을 방지할 수 있는 탑재대 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명에 있어서는, 가열 수단(42)이 설치된 탑재대(38)와, 이것을 지지하는 중공 형상의 레그부(40)와, 가열 수단에 접속된 급전선(44A, 44B) 등을 갖는 탑재대 장치(36)를 진공 배기 가능하게 이루어진 처리 용기(4) 내에 부착하는 부착 구조체에 있어서, 처리 용기의 바닥부에 형성된 개구부에, 개구부를 밀폐하여 설치되는 바닥부 부착대(56)와, 레그부의 하단부와 바닥부 부착대 사이에 개재하여 설치되는 연질의 금속재료로 이루어지는 금속 시일 부재(74)와, 레그부의 하단부를 바닥부 부착대쪽에 고정하는 고정 수단(72)과, 레그부 내에 불활성 가스를 공급하여 급전선 사이에 방전이 발생하지 않는 압력 분위기로 하는 불활성 가스 공급 수단(84)과, 레그부 내의 분위기를, 그 유량을 제한하면서 배출하기 위한 레그부 내 분위기 배기 수단(86)을 구비한다.

公开(公告)号：KR1020060134860A

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：KR1020060056572

申请日：2006-06-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  고마츠도모히토 ,  모치즈키다카시

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6835 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/68785 ,  H05H1/46

Abstract: A joining construction of a mounting table apparatus, a processing apparatus, and a method for protecting discharge between electric supply wires in the mounting table apparatus are provided to seal a lower end of a leg part with a metal seal member which allows slight leakage. A bottom attachment is installed on an opening formed on a bottom portion of a processing container. A metal seal member(74) is interposed between a lower end of a leg part(40) and a bottom attachment, and is made of a soft metal material. A fixing member(72) fixes the lower end of the leg part to the bottom attachment. An insert gas supply member(84) supplies inert gas in the leg part to produce a pressure atmosphere which protects discharge in electric supply wires(44A,44B,46A,46B). A drain member drains the atmosphere from the leg part.

Abstract translation: 提供一种用于保护安装台设备中的电源线之间的放电的安装台装置，处理装置和方法的接合结构，以用允许轻微泄漏的金属密封构件来密封腿部的下端。 底部附件安装在形成在处理容器的底部上的开口上。 金属密封构件（74）插入在腿部（40）的下端和底部附件之间，并且由软金属材料制成。 固定构件（72）将腿部的下端固定到底部附件。 插入气体供给构件（84）在腿部提供惰性气体，以产生保护供电线（44A，44B，46A，46B）中的放电的压力气氛。 排水构件从腿部排出气氛。

公开(公告)号：KR100256512B1

公开(公告)日：2000-05-15

申请号：KR1019960020198

申请日：1996-06-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  바리안 세미컨덕터 이큅먼트 가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  야마구치히로후미

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67167 ,  C23C14/50 ,  C23C14/568 ,  H01L21/67201 ,  Y10S414/139

Abstract: 본 발명에 있어서는, 진공예비챔버내의 피처리체를 냉각하기 위한 냉각대에 피처리체와 냉각대 사이에 소정의 갭을 두고 피처리체를 지지하는 지지부재가 설치되어 있기 때문에, 피처리체를 냉각대와 직접 접촉시키지 않고 냉각시키는 것이 가능하게 된다. 따라서, 피처리체와 냉각대 사이의 면접촉에 기인하는 화학반응이 일어나지 않게 되어 피처리체가 오엽되지 않게 된다. 피처리체가 급속한 냉각에 의해 다소 휘어지거나 미소한 진동을 발생시킨다고 해도, 냉각대와 직접 접촉하지 않기 때문에, 파티클이 발생되지 않게 된다. 더욱이, 처리전의 피처리체를 예열하기 위한 예열장치가 냉각대 위에 설치된다. 따라서, 진공예비챔버를 처리후의 피처리체를 냉각하기 위해서 뿐만 아니라 처리전의 피처리체를 예열하는데 이용할 수 있고, 따라서 스루풋의 향상이 도모된다.

公开(公告)号：KR1019970003396A

公开(公告)日：1997-01-28

申请号：KR1019960020198

申请日：1996-06-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  바리안 세미컨덕터 이큅먼트 가부시키가이샤

Inventor： 가토스스무 ,  야마구치히로후미

IPC: H01L21/02

Abstract: 진공예비챔버의 처리체를 냉각하기 위한 냉각테이블에는 물체와 테이블 사이의 미리 결정된 갭으로 물체를 지지하는지 지지부재가 갖추어져 있기 때문에, 처리체는 냉각테이블과 직접 접촉하지 않고서 냉각될 수 있다. 따라서, 처리체와 냉각테이블 사이의 면접촉에 기인하는 화학반응이 일어나지 않게 되고, 물체가 오염되지 않게 된다. 물체가 고속냉각에 의해 미소진동을 받게 되고, 다소 휘게 된다고 해도, 냉각테이블과 접촉하지 않기 때문에, 파티클이 생성되지 않게 된다. 또한, 비처리체를 예열하기 위한 예열장치가 냉각테이블 위에 제공된다. 따라서, 진공예비챔버는 처리체를 냉각할 뿐만 아니라 비처리체를 예열하는데 이용될 수 있고, 따라서 드로우풋이 향상된다.